JPS5962339A - 粉粒体処理装置 - Google Patents

粉粒体処理装置

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JPS5962339A
JPS5962339A JP17305482A JP17305482A JPS5962339A JP S5962339 A JPS5962339 A JP S5962339A JP 17305482 A JP17305482 A JP 17305482A JP 17305482 A JP17305482 A JP 17305482A JP S5962339 A JPS5962339 A JP S5962339A
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JP
Japan
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powder
granules
gas
supplied
treatment
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JP17305482A
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JPS6248531B2 (ja
Inventor
Tome Nishio
西尾 止
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Toray Engineering Co Ltd
Original Assignee
Toray Engineering Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5962339A publication Critical patent/JPS5962339A/ja
Publication of JPS6248531B2 publication Critical patent/JPS6248531B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/24Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
    • B01J8/38Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it
    • B01J8/382Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it with a rotatable device only

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は粉粒体処理装置に関するものである。
更に詳しくは、粉粒体が充填されている炉床へガスを供
給して流動層を形成しながら前記粉粒体を処理する粉粒
体処理装置に関するものである。
従来において、粉粒体を乾燥、還元、焙焼、焼成、仮焼
、冷却などの各種の処理をするために流動層式粉粒体処
理装置が用いられていたが。
この装置は、粉粒体が充填されている炉床ヘガスを供給
して流動層を形成しなから前記粉粒体を処理するもので
あるから、前記粉粒体が湿りけの多い付着性の粉粒体で
あったり、あるいは処理途中で凝集しやすい性質に変化
する粉粒体であったりする場合等においては均一な流動
層を形成するのが困難であってその反応率が著しく低下
する欠点かあった。
そこて、これを改善するために回転攪拌機を装置して前
記流03層を攪拌しなから処理することか行われていた
ところがこのように回転攪拌機を装着すると。
その装着機構か非常に複雑かつ高度な技術の機構になり
装置コストを著しく高めるという問題かあった。
すなわち粉粒体の種類により処理中宮に攪拌したりある
いは一時的に攪拌したりすることが要求されるので、こ
れに対応するように攪拌機の軸回転駆動制御技術を設け
ねばならなく、かつ処理中において攪拌翼を流動層中に
浸漬したまま攪拌機の駆動を停止すると攪拌翼が粉粒体
の均−流mJ化を妨げるので、駆uJ停止に際して攪拌
翼を流動層中からその上方の炉内空間へ移動させること
がてきるように攪拌機の軸上下動制御技術f3:設けね
ばならなく、さらには攪拌機の軸支部からのカス洩れを
防止する技術あるいは軸支部の過度加熱防止技術なども
設けねばならなく、而して上述したような問題があった
本発明はこのような従来の問題点に注目してこれを改善
すへく各方面から鋭意検討した結果。
従来のように回転攪拌機を装着しないで多孔攪拌翼を設
けた上下動攪拌機を装着すれば上述した従来の問題点を
改善しうろことを見い出したのである。
すなわち本発明に係る粉粒体処理装置は、粉粒体が充填
されている炉床へガスを供給して流動層を形成しながら
前記粉粒体を処理する粉粒体処理装置において、多孔攪
拌翼を設けた上下動攪拌機を装着したことを特徴とする
ものである。
辺、下、実施例に基ついて本発明をより具体的に説り]
するに、第1図において、(1)は円筒状容器(2)は
この容器(1)内に固着さI″Lだガス分散板、(3)
は前記分散板(2)下に形成された圧力室、(4)は前
記室(3)内にガスを供給する管、(5)はガス分散板
(2)上に形成された処理室、(6)は円筒状容器(1
)に装置された」−下aノ攪拌機を示し、前記攪拌機(
6)は、その下端に多孔攪拌翼(7)か固着された軸(
8)を支持する支持装置(9)と、軸(8)全上下0ノ
させる上下動制御装置00)とて構成されている。
なお支持装置(9)は、2個のブソンユ(11)て軸(
8)全支持するようにその下端を前記容器(1)に固着
したンヤケント型軸支座02)と、このジャケット型軸
支座(12)の上端に固着された四フッ素樹脂製ベロー
ズ(13)とて構成され、甘た上下動制御装置(IO)
は、軸(8)の上端に軸継手(14Jを介してピストン
ロンドを連結したエアーシリンクー(15)と、三方自
動弁(16)・リミットスイッチ(1η・アタッチメン
ト(18)などで構成されるエアーシリンダー制御装置
(19)とで構成されている。
而してこの粉粒体処理装置によれば2円筒状容器(1)
の処理室(5)内へ図示しない投入口から粉粒体を所定
量供給し1次いて管(4)からガスを圧力室(3)へ供
給すると、炉床に充填されている自記粉粒体がカス分散
板(2)により均一に分散されて炉床へ流れて来る前記
ガスによって流01化され所謂、流uJ IW (20
)を形成することができ、捷た8盟に応じて」−下りJ
攪拌機(6)により攪拌することかでき、従って前記粉
粒体を良好に処理することかできる。
上下動攪拌機(6)は流動化しにくい粉粒体を処理する
場合においては処理中連続運転したり、あるいは処BI
4途中て粉粒体が流動化しにくい性質に変化した時点で
一時的に運転したり、さらには前記ガスの使用量を減ら
すためにその供給量を減少させた時点で運転したりする
など適宜に運転することができる。
そして運転中においては、第1図において示すようにカ
ス分散板(2)近傍から流動層(20)上の炉内空間へ
多孔攪拌翼(7)を移動させて攪拌するが。
この制御は上下動制御装置(10)によって行われる。
すなわちエアーシリンダー制御装置(19)の三方自動
弁(16)(l−L、エアーシリンダー(]5)のピス
トン口。
ドを出没させるように図示しない供給源からの加圧エア
ーをエアーシリンダ−(15)へ供給する。
なおこのエアー供給切換制御は垂直フレーム(21)に
固定されているリミットスイッチ(17)及びエアーシ
リンク−(15)に設けられている図示しないスイッチ
を介して行われる。図示のごとく、前記ベローズ(13
)の上部フランツ(13a) K固着されているアタッ
チメント(I8)がリミットスイッチ(17)に当接す
ると、突出されている前記ピストンロンドが没せられる
ように前記弁(16)からエアーシリンダー(15)へ
加圧エアーか供給され、そして前記ピストンロンドが所
定ストローク没せられて前記エアーシリンダー(15)
に設けられている図示しないスイッチが作動すると、前
記ピストンロンドが再び突出されるように前記弁(1G
)からエアーシリンダー(]5)へ加圧エアーが供給さ
れ、而して軸(8)が上下動されて多孔攪拌翼(7)も
−緒に移動される。。
なおこの際、前記ベローズ(13)の上部フランジ(1
:3a)か軸(8)に固着されているのて、軸(8)の
上下1IUIに追従して前記ベローズ(13)が伸縮t
、 Iかつアクソチメンl−(18]が移動される。
このように本発明においては上下動攪拌機を装イヘする
ので、従来の回転攪拌機を芸名する場合に比してその装
着機構を著しく単純化することがてきる。
すなわち単に軸回転駆動制御技術の設@を省略しうるこ
とたけにとどまらず、これに基ついて他の技術のレベル
ダウン化が図れ、故にその装着機構を著しく単純化する
ことかできるのである。
そして単純化された装着機構であっても、その軸支部に
おいては、管(22a) 、 (22b)を介してジャ
ケット部に水を循環供給することにより過度加熱を防止
することかてき、かつ格別な軸封技術を設け々くてもガ
ス洩れを防1」−することかてきる。
1だ水弁al’lにおいては、単なる上下動攪拌機を装
着するのてはなく、多孔攪拌翼を設けた上下動攪拌機を
装着するので、粉粒体の攪拌を良好に行うことができる
のである。
第2図において多孔攪拌翼(7)全拡大して示すが。
この翼(7)の」−下動中において、孔(23)により
流動化しにくい状態に凝集された粉粒体塊と良好に流動
化しうる粉粒体とが選別され1孔t23) k通過しな
いで翼面に衝突した前記粉粒塊はその衝撃によって粉砕
され、良好に流動化しうる粉粒体にされる。もちろんこ
の際1孔[23) Q通過してガスが流れるから翼の上
下動が流動層の形成に対して悪い影響をおよぼすことが
ない。捷だ削記粉粒体塊は流動層(20)の下方部分に
集まるので。
これが上方へ運ばれながら粉砕されるという作用効果も
奏し、従って均一な流動層を常に形成することかてきる
なお処理中においては流動層’ +20+は管(4)か
ら供給される加熱ガスにより加熱されたり、あるいは円
筒状容器(1)の外周壁面近傍に配されている図示しな
いヒータにより所定温度に加熱される。
本発明においては、上下動攪拌機の装着態様は−1−述
した実施例における態様に限定されず、たとえは運転中
においては多孔攪拌翼は流動層中を−に下動し、そして
運転停止時においては流動層上の炉内空間に位置されて
静止されるように装着してもよい。
捷たこの攪拌翼の孔はその直径が粉粒体の外径よりやや
大きいものが好ましく、かつその穿設密度はできる限り
高い方が好ましい。
なお使用するガスは粉粒体の処理目的、すなわち乾燥、
還元、焙焼、焼成、仮焼、冷却等に対応して適当なエア
ーガスあるいは不活性力′スなどが所定に選択され、処
理した粉粒体は円筒状容器(1)に設けられている図示
しない取出口から炉外へ排出される。
以上、述べたように本発明によれば、攪拌機を装着した
流動層式粉粒体処理装置に関して装置コストの低減化及
び流動化ガスの省資源化を図るこ店ができる、
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例に係る粉粒体処理装置の概略構
成図、第2図は多孔攪拌翼の拡大図である。 (6):上下動攪拌機   t20) :流動層特許出
願人 東し・エンンニアリング株式会社iNr l  
図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)粉粒体が充填されている炉床へガスを供給して流
    03層を形成しながら前記粉粒体を処理する粉粒体処理
    装置において、多孔攪拌翼を設けた」二下動攪拌機を装
    着したことを特徴とする粉粒体処理装置。
JP17305482A 1982-09-30 1982-09-30 粉粒体処理装置 Granted JPS5962339A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17305482A JPS5962339A (ja) 1982-09-30 1982-09-30 粉粒体処理装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP17305482A JPS5962339A (ja) 1982-09-30 1982-09-30 粉粒体処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5962339A true JPS5962339A (ja) 1984-04-09
JPS6248531B2 JPS6248531B2 (ja) 1987-10-14

Family

ID=15953355

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17305482A Granted JPS5962339A (ja) 1982-09-30 1982-09-30 粉粒体処理装置

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JP (1) JPS5962339A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0722771A1 (en) 1990-07-09 1996-07-24 Upfront Chromatography A/S Method of distributing a liquid in a fluid bed reactor and fluid bed particles for use in carrying out the method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0722771A1 (en) 1990-07-09 1996-07-24 Upfront Chromatography A/S Method of distributing a liquid in a fluid bed reactor and fluid bed particles for use in carrying out the method

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JPS6248531B2 (ja) 1987-10-14

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