JPS5951026B2 - Image matching device - Google Patents

Image matching device

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Publication number
JPS5951026B2
JPS5951026B2 JP13735780A JP13735780A JPS5951026B2 JP S5951026 B2 JPS5951026 B2 JP S5951026B2 JP 13735780 A JP13735780 A JP 13735780A JP 13735780 A JP13735780 A JP 13735780A JP S5951026 B2 JPS5951026 B2 JP S5951026B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
pattern memory
feature amount
calculating
calculates
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP13735780A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5760482A (en
Inventor
「あきら」 前田
純一 柴山
直人 田部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP13735780A priority Critical patent/JPS5951026B2/en
Publication of JPS5760482A publication Critical patent/JPS5760482A/en
Publication of JPS5951026B2 publication Critical patent/JPS5951026B2/en
Expired legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は2つの画像が同一の画像であるか否フかを判
定する画像照合装置に関し、特に画像のパターン品質に
ばらつきがあつたり局部的な差異があるパターンをも正
確に照合する装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an image matching device that determines whether two images are the same image, and in particular, the present invention relates to an image matching device that determines whether two images are the same image. It relates to a device for accurate verification.

印影、文字、印刷物等のパターンをその原簿の・パター
ンと比較照合するのにディジタル処理によるパターン照
合の方式がよく用いられる。
A pattern matching method using digital processing is often used to compare and match the patterns of seal impressions, characters, printed matter, etc., with the patterns on the original register.

第1図a、bは印鑑の枠部の2値化されたパターンで、
Xyの2次元の座標上において、信号ありの点が論理「
1」、信号なしの点が論理「O」で表わされ、図中の黒
丸はこのプロツク内には論理「1」のビツトが存在する
ことを示している。この第1図A,bの2つのパターン
を重ね合せて照合すると第1図cのようになる。ここで
泊丸印はパターンが重なつた点、 ゛△″ ゛×″印は
一方にあつて他方にない点である。この2つのパターン
の照合度Fとしてはよく次のものが用いられる。
Figure 1 a and b are the binarized patterns of the seal frame,
On the two-dimensional coordinates of Xy, a point with a signal is logical
A point with no signal is represented by a logic "O", and a black circle in the diagram indicates that a logic "1" bit exists in this block. When the two patterns shown in FIG. 1A and b are superimposed and compared, the result shown in FIG. 1c is obtained. Here, the Tomari mark is a point where the patterns overlap, and the ゛△''゛×'' mark is a point that is on one side but not on the other. The following is often used as the degree of matching F between these two patterns.

但し、S。However, S.

は2つのパターンの重なつた部分の面積(第1図cの白
丸印の総数)、S,,S。は各々2つのパターンの面積
(第1図A,bの黒丸印のそれぞれの総数)、である。
ところでこの様な照合は一般に原簿のパターンがフアイ
ルされており、入力されたパターンが原簿のパターンと
一致するか否かを判定するためになされるのであるが、
入力されるパターンは一般に種々の雑音をともなう。
is the area of the overlapping part of the two patterns (the total number of white circles in Figure 1c), S,,S. are the areas of each of the two patterns (the total number of black circles in FIG. 1A and b).
By the way, this kind of verification is generally done in a file with the original pattern, and is done to determine whether the input pattern matches the original pattern.
Input patterns generally include various types of noise.

特にインク、朱肉等を用いたパターンは印字のときにに
じみ、かすれをともないこれが照合に際して照合度を下
げる結果となる。印鑑の照合などでも捺印の際の力のか
たよりとか朱肉のつき方の差異により一部がかすれたり
、にじんだりすることが多い。又わずかに局所的に差異
のあるパターンでも異なるものとして判定する必要があ
るが上記の式(1)では全体の平均として照合度を見て
いるため一部に著るしいパターンの差異があつても他の
部分がよくマツチしていれば同じものとして判定するこ
とがあるという欠点があつた。この発明は従来のものに
おける上述の欠点を除去するためになされたもので、パ
ターンの品質の差異とか局所的な差異を考慮して照合度
を精度よく求めるパターン照合装置を提供することを目
的とする。
In particular, patterns using ink, vermilion, etc. bleed and become blurred when printed, which results in a lower degree of matching during matching. Even when checking seals, parts of the seal often become blurred or smeared due to the pressure applied when stamping or the way the ink is applied. In addition, even patterns with slight local differences need to be judged as different, but since the above formula (1) considers the degree of matching as the overall average, some patterns may have significant differences. However, if the other parts match well, they may be judged to be the same, which is a drawback. This invention was made in order to eliminate the above-mentioned drawbacks of the conventional devices, and its purpose is to provide a pattern matching device that accurately calculates the degree of matching by taking into account differences in pattern quality and local differences. do.

以下、図面についてこの発明の実施例を説明する。Embodiments of the invention will be described below with reference to the drawings.

第2図はこの発明の一実施例を示すプロツク図で、1は
第1のパターンメモリ、2は第2のパターンメモリ、3
は第1の濃淡メモリ、4は第2の濃淡メモリ、5は第1
の特微量算出プロセツサ、6は第2の特微量算出プロセ
ツサ、7はデータメモリ、8は照合判定プロセツサであ
る。次に動作について説明する。パターンメモリ1,2
に記憶されている2つのパターンを照合するのであるが
、パターンメモリ1,2内にx−y座標軸にしたがつて
配列されている全ビツトを、たとえばx、yの方向にそ
れぞれ16×16ビツトとか32×32ビツトとかの領
域に分ち、まずこの各領域についての特微量を算出する
。第1の特微量算出プロセツサ5ではパターンの全体お
よび上記各領域でのパターンに差異があるか否かを表す
特微量として、パターンメモリ1,2のパターンを重ね
た時に重ならない部分の面積の和(すなわち、パターン
1,2の互に対応するビツトで洞一輪理でないビツトの
総数)をパターン1の全体の面積(すなわちパターン1
の中で論理「l」のビツトの総数)で割つたものを求め
て、これを第1の特微量としてデータメモリ7に記憶す
る。
FIG. 2 is a block diagram showing one embodiment of the present invention, in which 1 is a first pattern memory, 2 is a second pattern memory, and 3 is a block diagram showing an embodiment of the present invention.
is the first grayscale memory, 4 is the second grayscale memory, and 5 is the first grayscale memory.
6 is a second feature amount calculation processor, 7 is a data memory, and 8 is a comparison determination processor. Next, the operation will be explained. Pattern memory 1, 2
All bits arranged along the x-y coordinate axes in pattern memories 1 and 2 are compared, for example, by 16 x 16 bits in the x and y directions. First, the characteristic quantity for each area is calculated. The first feature quantity calculation processor 5 calculates the sum of the areas of the parts that do not overlap when the patterns in the pattern memories 1 and 2 are overlapped, as a feature quantity that indicates whether there is a difference between the entire pattern and the patterns in each region. (In other words, the total number of bits that correspond to each other in patterns 1 and 2 and are not a single hole) is calculated as the total area of pattern 1 (that is, the total number of bits in patterns
(total number of bits of logical "l") is calculated and stored in the data memory 7 as the first characteristic quantity.

第2の特微量算出プロセツサ6は上記各領域について、
当該領域の第1の特微量に影響を及ぼす特微量として、
たとえば濃淡メモリ3,4から濃淡データを読出し、所
定値以上の濃度をもつ点を含む領域についての濃度の平
均値を求め、これを第2の特微量としてデータメモリ7
に入力する。
For each of the above regions, the second feature amount calculation processor 6
As a feature amount that affects the first feature amount in the area,
For example, the density data is read out from the density memories 3 and 4, the average value of the density is determined for the area including the points having density equal to or higher than a predetermined value, and this is set as the second characteristic quantity in the data memory 7.
Enter.

これは、パターン1、又は2がかすれているか、にじん
でいるかを示す特微量として利用でき、この値により例
えばかすれ、にじみ、正常等の段階に各領域をコード化
することができる。第1の特微量と第2の特微量とは各
領域毎にデータメモリ7に記憶され、照合判定プロセツ
サ8はこの第1の特微量と第2の特微量とを用いて各領
域の特徴をコード化した上で全体の照合判定を行う。
This can be used as a special quantity indicating whether the pattern 1 or 2 is blurred or blurred, and each area can be coded into stages such as blurred, blurred, normal, etc. using this value. The first feature amount and the second feature amount are stored in the data memory 7 for each region, and the matching determination processor 8 uses the first feature amount and the second feature amount to determine the feature of each region. After coding, the entire comparison is judged.

たとえば、従来の式(1)に対応してΣF=(L,M)
d (L、M)×α{C (L、M)} ・・・・・
・・・・(2)によつて照合度Fを算出する。
For example, corresponding to the conventional equation (1), ΣF=(L,M)
d (L, M)×α{C (L, M)} ・・・・・・
... Calculate the matching degree F by (2).

但し、式(2)においてL、Mは上記各領域のX軸方向
及びy軸方向の順番を表し、d(L,.M)は順番(す
なわち座標位置)が(L、M)の領域における第1の特
微量、c(L、M)は順番が(L、M)の領域における
第2の特微量を示すコード、α {c(L,M)}はコ
ードc(L、M)に対応する数値、Σ (L,M)はすべての領域についての和、を示す。
However, in equation (2), L and M represent the order of the above regions in the X-axis direction and the y-axis direction, and d(L,.M) represents the order (i.e. coordinate position) in the region of (L, M). The first feature quantity, c(L,M), is a code indicating the second feature quantity in the area whose order is (L,M), α {c(L,M)} is the code c(L,M) The corresponding numerical value Σ (L,M) indicates the sum over all regions.

以上に説明した実施例では第2の特微量として、各領域
内の濃度の平均値を用いたが、そのかわりに各領域内に
おける濃度の分散を用いることもできる。
In the embodiments described above, the average value of the density within each region is used as the second characteristic amount, but instead of this, the dispersion of the density within each region may be used.

すなわち、一般に濃度が一様なものは画像が整つており
、分散が大きいものは汚れ等が大きく汚れによるパター
ンの差異が発生していると判断できるからである。また
、第2図に示す実施例では、2個の濃淡メモリ3,4を
備えたが、原簿のパターン(仮にパターンメモl川に記
憶されているとする)の濃淡が正常なものであれば、一
方の濃淡メモリ にの場合は濃淡メモリ3)を省略でき
る。
That is, in general, if the density is uniform, the image is well-organized, and if the dispersion is large, it can be determined that there is a large amount of dirt, etc., and that differences in patterns are caused by the dirt. In the embodiment shown in FIG. 2, two shading memories 3 and 4 are provided, but if the shading of the original pattern (assuming that it is stored in the pattern memory 1 river) is normal, then , if one of the shading memories is used, the shading memory 3) can be omitted.

更に、第1の特微量又は第2の特微量としてパターンメ
モリ1,2のパターンの重ならない領域のうちパターン
と背景との境界の領域とそれ以外の領域とを区分して用
いることができる。
Furthermore, it is possible to separate and use the boundary area between the pattern and the background and the other areas out of the areas in the pattern memories 1 and 2 where the patterns do not overlap as the first feature amount or the second feature amount.

第3図は2つのパターンの一致と不一致との領域を示す
図であり、ゝ○7印はパターンの一致した領域、ゞ87
印はパターンが不一致な境界の領域、ゞ×7印はパター
ンが不一致であるが境界以外の領域を示す。ゞ×7の部
分はパターンの差異が大きいときにのみ現われる。わず
かのずれや形の差異はゞ87印の部分にだけ現われるの
で、ゞ×7印の部分の存在はパターンの差異を判定する
大きな要素となる。以上のように、この発明によればパ
ターンを各領域に分ち互に対応する領域ごとに2つのパ
ターンの差異を表わす第1の特微量と、この第1の特微
量に影響を与える状態を表わす第2の特微量とを求めて
これにより総合判定を行つたのでパターンの品質不良に
よる差異と微小な差異を区別して精度高い照合をするこ
とが可能となり、又わずかの位置ずれや角度ずれがある
場合にも照合が可能となる。
Figure 3 is a diagram showing areas where two patterns match and do not match, where ゝ○7 marks are areas where patterns match,
The mark indicates a boundary area where the pattern does not match, and the ゞ×7 mark indicates an area where the pattern does not match but is outside the boundary. The ゞ×7 portion appears only when the pattern difference is large. Since slight deviations and differences in shape appear only in the portion marked with ゞ87, the existence of the portion marked with ゞ×7 is a major factor in determining the difference in patterns. As described above, according to the present invention, a pattern is divided into regions, and for each region corresponding to each other, a first feature amount representing the difference between two patterns and a state that influences this first feature amount are determined. Since the second characteristic amount representing the pattern is determined and comprehensive judgment is made based on this, it is possible to distinguish between differences due to poor pattern quality and minute differences, and perform highly accurate matching. Verification is possible even in certain cases.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はパターン照合の一例を示す図、第2図はこの発
明の一実施例を示すプロツク図、第3図は2つのパター
ンの一致と不一致との領域を示す図である。 1・・・・・・第1のパターンメモリ、2・・・・・・
第2のパターンメモリ、3・・・・・・第1の濃淡メモ
リ、4・・・・・・第2の濃淡メモリ、5・・・・・・
第1の特微量算出プロセツサ、6・・・・・・第2の特
微量算出プロセツサ、7・・・・・・データメモリ、8
・・・・・・照合判定プロセツサ。
FIG. 1 is a diagram showing an example of pattern matching, FIG. 2 is a block diagram showing an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a diagram showing areas where two patterns match and do not match. 1...First pattern memory, 2...
Second pattern memory, 3...First gradation memory, 4...Second gradation memory, 5...
First feature quantity calculation processor, 6...Second feature quantity calculation processor, 7...Data memory, 8
...Verification judgment processor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 相互に照合すべき2つの画像のうちの第1の画像の
2値化したパターンを記憶する第1のパターンメモリと
、上記2つの画像のうちの第2の画像の2値化したパタ
ーンを記憶する第2のパターンメモリと、この第2のパ
ターンメモリの内容と上記第1のパターンメモリの内容
とを比較し互に対応する内容が同一であるとするか又は
互に対応する内容に差異があるとするかを判定するため
の第1の特徴量を各所定の領域ごとに算出する手段と、
上記第1の特徴量に影響する第2の特徴量を上記各所定
の領域ごとに算出する手段と、上記第1の特徴量と上記
第2の特徴量とから上記第1の画像と上記第2の画像と
の照合結果を判定する手段とを備えた画像照合装置。 2 第1の特徴量を算出する手段は、当該領域内におい
て第1のパターンメモリの各ビットの論理と、これに対
応する第2のパターンメモリの各ビットの論理とが一致
しないビット数を集計し、この集計の上記第1のパター
ンメモリ及び(又は)上記第2のパターンメモリの上記
当該領域内における図形部分であることを示す論理のビ
ット数に対する比を算出して上記第1の特徴量を算出す
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の画像照
合装置。 3 第2の特徴量を算出する手段は、当該領域内におい
て第1のパターンメモリの各ビットの論理と、これに対
応する第2のパターンメモリの各ビットの論理とが一致
しないビットのビットパターンを求め、このビットパタ
ーンのうち外部との境界線上にあるビットの総数と残り
のビットの総数との比を算出して上記第2の特徴量を算
出することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の画
像照合装置。 4 第2の特徴量を算出する手段は、当該領域内におけ
る濃度平均値を算出し、この濃度平均値の関数として上
記第2の特徴量を算出することを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の画像照合装置。 5 第2の特徴量を算出する手段は、当該領域内におけ
る濃度値の分散を算出し、この濃度値の分散の関数とし
て上記第2の特徴量を算出することを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の画像照合装置。
[Scope of Claims] 1. A first pattern memory that stores a binarized pattern of a first image of two images to be compared with each other, and a first pattern memory that stores a binarized pattern of a first image of two images to be compared with each other; A second pattern memory stores the binarized pattern, and the contents of this second pattern memory are compared with the contents of the first pattern memory, and it is determined that the corresponding contents are the same or mutually compatible. means for calculating a first feature amount for each predetermined area for determining whether there is a difference in content corresponding to the area;
means for calculating a second feature amount that affects the first feature amount for each of the predetermined regions; An image matching device comprising means for determining a result of matching with an image of No. 2. 2. The means for calculating the first feature amount totals the number of bits in which the logic of each bit of the first pattern memory and the logic of each bit of the corresponding second pattern memory do not match within the region. Then, the ratio of this total to the number of bits of logic indicating that it is a figure part in the area of the first pattern memory and/or the second pattern memory is calculated and the first feature quantity is calculated. An image matching device according to claim 1, characterized in that the image matching device calculates . 3. The means for calculating the second feature amount calculates a bit pattern of bits in which the logic of each bit of the first pattern memory and the logic of each bit of the corresponding second pattern memory do not match within the area. , and calculates the second feature quantity by calculating the ratio between the total number of bits on the boundary line with the outside and the total number of remaining bits in this bit pattern. The image matching device according to item 1. 4. Claim 1, wherein the means for calculating the second characteristic amount calculates an average concentration value within the region, and calculates the second characteristic amount as a function of this average concentration value. Image matching device described in section. 5. Claims characterized in that the means for calculating the second feature amount calculates the variance of the density values within the region, and calculates the second feature amount as a function of the variance of the density values. The image matching device according to item 1.
JP13735780A 1980-09-29 1980-09-29 Image matching device Expired JPS5951026B2 (en)

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Publication Number Publication Date
JPS5760482A JPS5760482A (en) 1982-04-12
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6431715A (en) * 1987-07-27 1989-02-02 Teisan Seiyaku Kk Warming type application agent containing beta-blocker

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6431715A (en) * 1987-07-27 1989-02-02 Teisan Seiyaku Kk Warming type application agent containing beta-blocker

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JPS5760482A (en) 1982-04-12

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