JPS5949318B2 - 次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩の電解製造法 - Google Patents
次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩の電解製造法Info
- Publication number
- JPS5949318B2 JPS5949318B2 JP55009884A JP988480A JPS5949318B2 JP S5949318 B2 JPS5949318 B2 JP S5949318B2 JP 55009884 A JP55009884 A JP 55009884A JP 988480 A JP988480 A JP 988480A JP S5949318 B2 JPS5949318 B2 JP S5949318B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- anode
- alkali metal
- chamber
- hypochlorite
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
- C25B1/01—Products
- C25B1/24—Halogens or compounds thereof
- C25B1/26—Chlorine; Compounds thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B9/00—Cells or assemblies of cells; Constructional parts of cells; Assemblies of constructional parts, e.g. electrode-diaphragm assemblies; Process-related cell features
- C25B9/17—Cells comprising dimensionally-stable non-movable electrodes; Assemblies of constructional parts thereof
- C25B9/19—Cells comprising dimensionally-stable non-movable electrodes; Assemblies of constructional parts thereof with diaphragms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
従来次亜塩素酸ナトリウムのような次亜ハロゲン酸アル
カリ金属塩の製造は隔膜を使用しない電解槽において、
塩化ナトリウムのようなハロゲン化アルカリ金属塩を電
解することによつて製造されて来た。
カリ金属塩の製造は隔膜を使用しない電解槽において、
塩化ナトリウムのようなハロゲン化アルカリ金属塩を電
解することによつて製造されて来た。
塩化ナトリウムの電解においてはアノードでＣ！が形成
され、カソードでＮａＯＨが形成され、それらが次のよ
うに反応して次亜塩素酸ナトリウムが製造される：２Ｎ
ａ０Ｈ＋Ｃｔ２→ＮａＣｔ０＋ＮａＣｔ＋Ｈ２Ｏ−般に
このような電解において原料として供給する塩化ナトリ
ウム水溶液、すなわち食塩にはＣａ、Ｍｇ等のアルカリ
土類金属を含んでいる。
され、カソードでＮａＯＨが形成され、それらが次のよ
うに反応して次亜塩素酸ナトリウムが製造される：２Ｎ
ａ０Ｈ＋Ｃｔ２→ＮａＣｔ０＋ＮａＣｔ＋Ｈ２Ｏ−般に
このような電解において原料として供給する塩化ナトリ
ウム水溶液、すなわち食塩にはＣａ、Ｍｇ等のアルカリ
土類金属を含んでいる。
このようなＣａ、Ｍｇ等を含む食塩水を電解すると、こ
のようなＭｇ、Ｃａ等がカソード上に沈澱し、その上に
スケールとなつて沈着し、連続電解操作を不可能とした
。本発明では、アニオン透過性隔膜を使用し、アノード
室に食塩等の原料を供給し、カソード室には水を供給し
ながら電解することによつてカソード上にアルカリ土類
金属の沈着を防ぐことができることを発見し本発明に至
つた。
のようなＭｇ、Ｃａ等がカソード上に沈澱し、その上に
スケールとなつて沈着し、連続電解操作を不可能とした
。本発明では、アニオン透過性隔膜を使用し、アノード
室に食塩等の原料を供給し、カソード室には水を供給し
ながら電解することによつてカソード上にアルカリ土類
金属の沈着を防ぐことができることを発見し本発明に至
つた。
この発明は、液体不透過性、カチオン不透過性およびア
ニオン透過性隔膜により分離されたアノド室およびカソ
ード室を有し、かつアノード室はアノードを有しそして
カソード室にはカソードを有する電解槽のアノード室を
通してアルカリ金属ハロゲン化物水溶液を通過させカソ
ード室には運転開始時はアルカリ金属を含む電解液が満
たされておシ、正常運転時カソード室には水を供給し、
アノードでハロゲンを発生させかつカソードで水を還元
するに充分な電位差を電解槽を横切つて印加し、次亜ハ
ロゲン酸アルカリ金属塩を含む排出液をアノード室から
回収することよりなる次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩溶
液の電解製造法に関する。
ニオン透過性隔膜により分離されたアノド室およびカソ
ード室を有し、かつアノード室はアノードを有しそして
カソード室にはカソードを有する電解槽のアノード室を
通してアルカリ金属ハロゲン化物水溶液を通過させカソ
ード室には運転開始時はアルカリ金属を含む電解液が満
たされておシ、正常運転時カソード室には水を供給し、
アノードでハロゲンを発生させかつカソードで水を還元
するに充分な電位差を電解槽を横切つて印加し、次亜ハ
ロゲン酸アルカリ金属塩を含む排出液をアノード室から
回収することよりなる次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩溶
液の電解製造法に関する。
塩化ナトリウムの電解を想定して本発明をさらに詳しく
説明する。
説明する。
原理的にはカソード室には運転開始時にＮａＯＨ、Ｎａ
Ｃｔ、ＮａＣｔ０等の電解質を加えなくても電解は行な
えるが、水は電導性は低いので水の電導性を上昇させて
電解能率を上げるために運転開始時にＮａＯＨ，ＮａＣ
ＡＮａＣｔＯ等のアルカリ金属を含む電解質を加える。
Ｃｔ、ＮａＣｔ０等の電解質を加えなくても電解は行な
えるが、水は電導性は低いので水の電導性を上昇させて
電解能率を上げるために運転開始時にＮａＯＨ，ＮａＣ
ＡＮａＣｔＯ等のアルカリ金属を含む電解質を加える。
アノード室は運転中塩化ナトリウムの水溶液を通過させ
る。この電解中次の反応が起る。
る。この電解中次の反応が起る。
カソード室での反応
Ｈ２はカソード室から取出される。
その０Ｈ−イオンはアニオン透過膜を通つてカソード室
からアノード室に移る。アノード室での反応 Ｃｔ２＋Ｎａ＋＋０Ｈ−（カソード室から移行された）
→このＮａＣｔＯ，ＮａＣｔおよびＨ２Ｏはアノード室
の上部から排出される。
からアノード室に移る。アノード室での反応 Ｃｔ２＋Ｎａ＋＋０Ｈ−（カソード室から移行された）
→このＮａＣｔＯ，ＮａＣｔおよびＨ２Ｏはアノード室
の上部から排出される。
原料のＮａＣｔ水溶液中に含まれたＣａ，Ｍｇ等はアノ
ード上に沈着せず、又アニオン透過性膜のためカソード
室へも移行しないので、そのままＮａＣｔＯ，ＮａＣｔ
およびＨ２Ｏと共に上部から排出され、カソード上に沈
着することはない。
ード上に沈着せず、又アニオン透過性膜のためカソード
室へも移行しないので、そのままＮａＣｔＯ，ＮａＣｔ
およびＨ２Ｏと共に上部から排出され、カソード上に沈
着することはない。
従つて本発明ではＣａ，Ｍｇ等が沈着のため運転休止は
不必要となる。カソード室では水素の発生のため水が消
費されるので、運転中カソード室に水を補給する。
不必要となる。カソード室では水素の発生のため水が消
費されるので、運転中カソード室に水を補給する。
カソード室では運転中カチオンの移動はないので、運転
開始時に加えたアルカリ金属イオンは実質上増加も減少
もしない。アノード室では次の反応が生ずる。
開始時に加えたアルカリ金属イオンは実質上増加も減少
もしない。アノード室では次の反応が生ずる。
次いで次亜塩素酸は、次の平衡によシ部分的に水素イオ
ンと次亜塩素酸イオンに解離する：両反応（１）および
（２）の平衡定数は、溶液のＰＨに左右される。
ンと次亜塩素酸イオンに解離する：両反応（１）および
（２）の平衡定数は、溶液のＰＨに左右される。
例えば、５以下のＰＨ値では、活性塩素は全部次亜塩素
酸および次亜塩素酸イオンとして存在するが、高ＰＨ値
では殆んど全部の活性塩素が次亜塩素酸イオンとして存
在する。したがつて、活性塩素濃度は、分子状塩素も含
んでいるが、一般に次亜塩素酸および次亜塩素酸イオン
で示される。次亜塩素酸塩溶液生成に用いる電解槽では
、溶液のＰＨは一般に７．５以上に保たれるので殆んど
全部の活性塩素は、次亜塩素酸イオンとして存在する。
酸および次亜塩素酸イオンとして存在するが、高ＰＨ値
では殆んど全部の活性塩素が次亜塩素酸イオンとして存
在する。したがつて、活性塩素濃度は、分子状塩素も含
んでいるが、一般に次亜塩素酸および次亜塩素酸イオン
で示される。次亜塩素酸塩溶液生成に用いる電解槽では
、溶液のＰＨは一般に７．５以上に保たれるので殆んど
全部の活性塩素は、次亜塩素酸イオンとして存在する。
さらに、温度は次亜塩素酸塩の塩素酸塩への変換を防止
するのに充分な低さ（一般に３５℃以下）に保たれ、塩
水は稀薄で一般に２０〜４０ｒ／ｔの塩化物イオンを含
み、海水がしばしば電解液として用いられる。排出液の
活性塩素（即ち次亜塩素酸イオン）の濃度は、一般に２
〜３ｙ／Ｔ．以下である。次亜塩素酸塩のよシ高濃度は
、致命的な電流効率損失をもたらす。
するのに充分な低さ（一般に３５℃以下）に保たれ、塩
水は稀薄で一般に２０〜４０ｒ／ｔの塩化物イオンを含
み、海水がしばしば電解液として用いられる。排出液の
活性塩素（即ち次亜塩素酸イオン）の濃度は、一般に２
〜３ｙ／Ｔ．以下である。次亜塩素酸塩のよシ高濃度は
、致命的な電流効率損失をもたらす。
カソードでの次亜塩素酸塩の塩化物への還元は、熱力学
的観点より水の還元ようも優先するので、水素発生に関
しては非常に競合的である。公知の電解槽では、実用上
の最高次亜塩素酸塩濃度は、８〜１０Ｐ／ｔ以上にはで
きない。この限度以上では、次亜塩素酸イオンは生成す
るとともにカソードで還元されるので、電流効率はＯに
なる。電解槽を酸性溶液例えば塩酸溶液で周期的に洗滌
するのが、連続操業を維持する唯一の効果的手段であ択
この洗滌は用いた塩の品質および／または工場の操業条
件によう数日から１〜２週間の規則的間隔で行われる。
的観点より水の還元ようも優先するので、水素発生に関
しては非常に競合的である。公知の電解槽では、実用上
の最高次亜塩素酸塩濃度は、８〜１０Ｐ／ｔ以上にはで
きない。この限度以上では、次亜塩素酸イオンは生成す
るとともにカソードで還元されるので、電流効率はＯに
なる。電解槽を酸性溶液例えば塩酸溶液で周期的に洗滌
するのが、連続操業を維持する唯一の効果的手段であ択
この洗滌は用いた塩の品質および／または工場の操業条
件によう数日から１〜２週間の規則的間隔で行われる。
上記の装置では、最小の固定、一体化洗滌システムを設
け、固定洗滌システムは塩素化装置を明らかに複雑化し
かつ追加コストを要する以外に、用いる洗滌剤に対し非
腐触性の適当な材料を選ぶ必要がある。
け、固定洗滌システムは塩素化装置を明らかに複雑化し
かつ追加コストを要する以外に、用いる洗滌剤に対し非
腐触性の適当な材料を選ぶ必要がある。
例えば、カソードは反覆する洗滌に耐えるように塩酸に
充分抵抗性の材料で作らねばならず、チタンまたは他の
バルブメタルを用いるのが普通であシこれは明らかに高
コストと高い水素過電圧をもたらす。さらに、反覆酸洗
滌は、電気触媒的、非不動態化性材料の表面層で被覆し
たチタンアノードの平均操業寿命を低下させる。チタン
ベースは、腐触をもたらす酸による攻撃の結果として電
気触媒的被覆を損失する傾向がある。塩素酸アルカリ金
属塩の製造では、次亜塩素酸塩製造に用いたのと類似の
電解槽が用いられるが、操業条件を次亜塩素酸塩および
／または次亜塩素酸の塩素酸塩への変換が優先するよう
にして、次亜塩素酸塩のカソード還元による電流効率損
失を低減させる。したがつて、電解質の温度を約６０〜
９０℃に保ち、塩酸を加えてＰＨを３〜４以下に維持す
る。電解液は電解槽および保持タンクよｂなる回路を流
れて、電解槽内の滞留時間を短縮させかつ電解液が電解
槽に戻る前に保持タンク中で次亜塩素塩を塩素酸塩に変
換させる。両方の場合とも、溶液中で生成した次亜塩素
酸塩がカソードに向つて拡散するのを防止する手段を用
いる。
充分抵抗性の材料で作らねばならず、チタンまたは他の
バルブメタルを用いるのが普通であシこれは明らかに高
コストと高い水素過電圧をもたらす。さらに、反覆酸洗
滌は、電気触媒的、非不動態化性材料の表面層で被覆し
たチタンアノードの平均操業寿命を低下させる。チタン
ベースは、腐触をもたらす酸による攻撃の結果として電
気触媒的被覆を損失する傾向がある。塩素酸アルカリ金
属塩の製造では、次亜塩素酸塩製造に用いたのと類似の
電解槽が用いられるが、操業条件を次亜塩素酸塩および
／または次亜塩素酸の塩素酸塩への変換が優先するよう
にして、次亜塩素酸塩のカソード還元による電流効率損
失を低減させる。したがつて、電解質の温度を約６０〜
９０℃に保ち、塩酸を加えてＰＨを３〜４以下に維持す
る。電解液は電解槽および保持タンクよｂなる回路を流
れて、電解槽内の滞留時間を短縮させかつ電解液が電解
槽に戻る前に保持タンク中で次亜塩素塩を塩素酸塩に変
換させる。両方の場合とも、溶液中で生成した次亜塩素
酸塩がカソードに向つて拡散するのを防止する手段を用
いる。
例えば、溶液を高速で短かい滞留時間で電解槽を通過さ
せながら、電極間の電解液の流れをできるだけ層流に保
つてから保持タンクに入れる。電解液中に存在する水素
の泡は、乱流を特に電極近辺でもたらして対流移動によ
ジ次亜塩素酸イオンのカソート−の拡散を強くする。塩
水電気分解は、非常に工業的に重要な高度に発達した技
術分野であ沢恒常的な研究に努力しているが、技術的改
良の重要性は非常に大きく、この発明の方法は今まで実
施されてなくその利点も今まで得られていなかつた。
せながら、電極間の電解液の流れをできるだけ層流に保
つてから保持タンクに入れる。電解液中に存在する水素
の泡は、乱流を特に電極近辺でもたらして対流移動によ
ジ次亜塩素酸イオンのカソート−の拡散を強くする。塩
水電気分解は、非常に工業的に重要な高度に発達した技
術分野であ沢恒常的な研究に努力しているが、技術的改
良の重要性は非常に大きく、この発明の方法は今まで実
施されてなくその利点も今まで得られていなかつた。
アルカリ金属水酸化物溶液を運転開始時にカソード室に
供給したときは、ハロゲン化物イオンはアノード室から
隔膜を通つて移動し、隔膜の反対側表面の滲透圧差が等
しくなるようなハロゲン化物濃度に達するまで、カソー
ド液中でアルカリ金属ハロゲン化物を生成する。
供給したときは、ハロゲン化物イオンはアノード室から
隔膜を通つて移動し、隔膜の反対側表面の滲透圧差が等
しくなるようなハロゲン化物濃度に達するまで、カソー
ド液中でアルカリ金属ハロゲン化物を生成する。
この点で、隔膜を通るカソード室からアノード室への水
酸イオンの流れは、電解槽を通過する電流に対応する平
衡値まで減少する。逆に、アノード室に供給したのと同
じアルカリ金属ハロゲン化物水溶液を、最初にカソード
室に供給したときは、操業初期数分間にハロゲン化物イ
オンは隔膜を通つてカソード液からアノード液に移動し
、アルカリ金属水酸化物がカソード液中に生成する。カ
ソード液中の水酸イオン濃度が、定常状態値に達すると
、隔膜を通る水酸イオンの流れは、電解槽を通過する電
流に対応する平衡値に達する。
酸イオンの流れは、電解槽を通過する電流に対応する平
衡値まで減少する。逆に、アノード室に供給したのと同
じアルカリ金属ハロゲン化物水溶液を、最初にカソード
室に供給したときは、操業初期数分間にハロゲン化物イ
オンは隔膜を通つてカソード液からアノード液に移動し
、アルカリ金属水酸化物がカソード液中に生成する。カ
ソード液中の水酸イオン濃度が、定常状態値に達すると
、隔膜を通る水酸イオンの流れは、電解槽を通過する電
流に対応する平衡値に達する。
連続操業では、カソード液のレベルは損失分を補充する
のに充分な水を加えて一定に保持する。添加水は、脱イ
オン水またはカルシウム、マグネシウムおよびその他の
アルカリ土類金属を含まぬものが好ましい。上記の処理
中、塩素はアノードで発生し、カソード室での水の電解
の結果として水素はカソードで発生する。
のに充分な水を加えて一定に保持する。添加水は、脱イ
オン水またはカルシウム、マグネシウムおよびその他の
アルカリ土類金属を含まぬものが好ましい。上記の処理
中、塩素はアノードで発生し、カソード室での水の電解
の結果として水素はカソードで発生する。
カソードで発生した水酸イオンは、アニオン透過性隔膜
を通過して移動し、アノード液中のハロゲンと定量的に
反応して次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩を生成する。ア
ニオン透過性隔膜を通る電解用電流は、隔膜を通過する
水酸化物イオンによりカソード液からアノード液に運ば
れる。アニオン透過性隔膜は、実質上カチオンに対し非
透過性であるので、カチオン性不純物例えばカルシウム
｝よびマグネシウムのカソート−の移動は効果的に阻止
される。
を通過して移動し、アノード液中のハロゲンと定量的に
反応して次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩を生成する。ア
ニオン透過性隔膜を通る電解用電流は、隔膜を通過する
水酸化物イオンによりカソード液からアノード液に運ば
れる。アニオン透過性隔膜は、実質上カチオンに対し非
透過性であるので、カチオン性不純物例えばカルシウム
｝よびマグネシウムのカソート−の移動は効果的に阻止
される。
したがつて、アノード液は多量のカルシウム、マグネシ
ウムおよび他の不純物を含みカソードはスケール形成か
ら効果的に保護されてカソードでの問題を生じることは
ない。このことは、処理を複雑化したりカソードの酸洗
滌を必要とせずに、不純な塩水を使用できるようにする
。無隔膜電解槽の使用に比しての他の利点は、アノード
室を循環するハロゲン化物溶液にガス相がないことで、
これは塩素化水から水素を分離する脱ガス塔またはタン
クを必要とせず資本投下を節約できるので、塩素化冷却
水に用いた装置で特に有利である。
ウムおよび他の不純物を含みカソードはスケール形成か
ら効果的に保護されてカソードでの問題を生じることは
ない。このことは、処理を複雑化したりカソードの酸洗
滌を必要とせずに、不純な塩水を使用できるようにする
。無隔膜電解槽の使用に比しての他の利点は、アノード
室を循環するハロゲン化物溶液にガス相がないことで、
これは塩素化水から水素を分離する脱ガス塔またはタン
クを必要とせず資本投下を節約できるので、塩素化冷却
水に用いた装置で特に有利である。
カソード室で発生した水素は、ベントを介してカソード
室から容易に回収できる。液体不透過性、カチオン不透
過性およびアニオン透過性隔膜の使用は、次亜ハロゲン
酸イオンがカソードで還元される傾向がないので、この
方法の電流効率に有利な影響がある。テストの結果は、
次亜ハロゲン酸イオンは透過性であるが隔膜は、無隔膜
電解槽で起きる次亜ハロゲン酸イオン拡散に関して動力
学的阻害を与えることを示している。実際上、隔膜は次
亜ハロゲン酸イオンのカソート−の対流移動を排除して
、無隔膜電解槽に比してこの発明方法の電流効率上昇に
貢献する。さらにこの方法で用いた支持電解液は、操業
的のカソード液のレベルを維持する少量の水の添加以外
は、連続的交換または他の何らの処理も必要としない。
さらに、運転開始時、クロム酸または重クロム酸のアル
カリ金属塩のようなフイルム形成剤をカソード室中に加
えることができ、これを１〜１０ｔ／ｔの少量で添加す
ると、カソード表面に隣接するカソード液のアルカリ性
層中に不溶性化合物の沈澱を生じる結果、カソード上に
安定な力ソートフィルムを生成する性質がある。このよ
うなフイルムは次亜ハロゲン酸イオンがフイルムを通う
拡散するのを防止しかつカソードで還元され、さらにフ
イルムは何らかの分極抵抗を生じない。例えば１〜７ｙ
／ｌの重クロム酸ソーダをカソード液に加えると、電流
効率は少なくとも３（！）上昇する。ファラデー収率の
増加は、普通の無隔膜電解槽で起きる急激な電流効果の
低下なしに、アノード液の次亜・・ロゲン酸塩濃度を高
くできる。実施例で示したように、８０９６以上の電流
効率でアノード液中の約８ｆ／ｔの次亜ハロゲン酸塩濃
度が得られた。アノード室を流れるアルカリ金属ハロゲ
ン化物溶液は、ハロゲン化物を１０ｒ／ｔ程の低濃度か
ら飽和値まで含むことができ、ハロゲン化溶液の最終用
途に応じて２５〜１００ｐ／ｔが好ましい。生物学的活
動を抑制するために水塩素化装置で、冷却水またはプー
ル水を殺生物剤処理することもあう、アルカリ金属塩化
物溶液は海水または塩化ソーダ１０〜６０？／ｌ含む人
工塩水である。電解槽の温度は、通常３０〜３５℃以下
で次亜塩素酸塩の塩素酸塩への変換を防止する。図面を
参照すると、塩化ソーダを電気分解してＮａＣｔＯを作
るのに用いる単一電極電解槽１個のみを簡明化のために
示してある。しかし、当業者にはこの発明はよ）広範な
応用を含み、直列にした多数の電解槽または２極電解槽
を用いて工場の建設および操業が有利になることは自明
である。第１図で、次亜塩素酸ソーダ製造のための電気
分解は、アノード１、カソード２および液体不透過性、
アニオン透過性隔膜３で行われた。アノード１は、ＵＳ
Ｐ３７ｌｌ３８５およびＵＳＰ３６３２４９８に示され
たような、貴金属およびバルブ金属の酸化物の電気触媒
的被覆を有するチタンのような常用のバルブ金属のアノ
ード材料よジなつている。カソード２は低水素過電圧の
鋼鉄、ニツケルまたは他の導電性材料のスクリーンよジ
なつている。アノード１およびカソード２はそれぞれ直
流電源の正極および負極に接続してある。隔膜３は、ア
ノード液およびカソード液の両者に化学的抵抗性で低い
電気抵抗低下を示す、市販の液体不透過性、カチオン不
透過性およびアニオン透過性隔膜から任意に選択する。
室から容易に回収できる。液体不透過性、カチオン不透
過性およびアニオン透過性隔膜の使用は、次亜ハロゲン
酸イオンがカソードで還元される傾向がないので、この
方法の電流効率に有利な影響がある。テストの結果は、
次亜ハロゲン酸イオンは透過性であるが隔膜は、無隔膜
電解槽で起きる次亜ハロゲン酸イオン拡散に関して動力
学的阻害を与えることを示している。実際上、隔膜は次
亜ハロゲン酸イオンのカソート−の対流移動を排除して
、無隔膜電解槽に比してこの発明方法の電流効率上昇に
貢献する。さらにこの方法で用いた支持電解液は、操業
的のカソード液のレベルを維持する少量の水の添加以外
は、連続的交換または他の何らの処理も必要としない。
さらに、運転開始時、クロム酸または重クロム酸のアル
カリ金属塩のようなフイルム形成剤をカソード室中に加
えることができ、これを１〜１０ｔ／ｔの少量で添加す
ると、カソード表面に隣接するカソード液のアルカリ性
層中に不溶性化合物の沈澱を生じる結果、カソード上に
安定な力ソートフィルムを生成する性質がある。このよ
うなフイルムは次亜ハロゲン酸イオンがフイルムを通う
拡散するのを防止しかつカソードで還元され、さらにフ
イルムは何らかの分極抵抗を生じない。例えば１〜７ｙ
／ｌの重クロム酸ソーダをカソード液に加えると、電流
効率は少なくとも３（！）上昇する。ファラデー収率の
増加は、普通の無隔膜電解槽で起きる急激な電流効果の
低下なしに、アノード液の次亜・・ロゲン酸塩濃度を高
くできる。実施例で示したように、８０９６以上の電流
効率でアノード液中の約８ｆ／ｔの次亜ハロゲン酸塩濃
度が得られた。アノード室を流れるアルカリ金属ハロゲ
ン化物溶液は、ハロゲン化物を１０ｒ／ｔ程の低濃度か
ら飽和値まで含むことができ、ハロゲン化溶液の最終用
途に応じて２５〜１００ｐ／ｔが好ましい。生物学的活
動を抑制するために水塩素化装置で、冷却水またはプー
ル水を殺生物剤処理することもあう、アルカリ金属塩化
物溶液は海水または塩化ソーダ１０〜６０？／ｌ含む人
工塩水である。電解槽の温度は、通常３０〜３５℃以下
で次亜塩素酸塩の塩素酸塩への変換を防止する。図面を
参照すると、塩化ソーダを電気分解してＮａＣｔＯを作
るのに用いる単一電極電解槽１個のみを簡明化のために
示してある。しかし、当業者にはこの発明はよ）広範な
応用を含み、直列にした多数の電解槽または２極電解槽
を用いて工場の建設および操業が有利になることは自明
である。第１図で、次亜塩素酸ソーダ製造のための電気
分解は、アノード１、カソード２および液体不透過性、
アニオン透過性隔膜３で行われた。アノード１は、ＵＳ
Ｐ３７ｌｌ３８５およびＵＳＰ３６３２４９８に示され
たような、貴金属およびバルブ金属の酸化物の電気触媒
的被覆を有するチタンのような常用のバルブ金属のアノ
ード材料よジなつている。カソード２は低水素過電圧の
鋼鉄、ニツケルまたは他の導電性材料のスクリーンよジ
なつている。アノード１およびカソード２はそれぞれ直
流電源の正極および負極に接続してある。隔膜３は、ア
ノード液およびカソード液の両者に化学的抵抗性で低い
電気抵抗低下を示す、市販の液体不透過性、カチオン不
透過性およびアニオン透過性隔膜から任意に選択する。
隔膜は、液体通過に対し非透過性でかつ実質上カチオン
不透過性でなければならない。特にニューシャーシ州、
バーミンガムのＩＯ皿ＥＣｈｅｍｉｃａｌＣＯ．製の特
に適したアニオン性隔膜がイタリ一，ミラノ市のＳｙｂ
ｒＯｎＲｅｓｉｎｄｉＯｎからＭＡ−３４７５として発
売されている。定常操業では、第１図に示すカソード液
は苛性ソーダの稀薄水溶液および少量の塩化ンーダよう
なりかつカソード２およびアニオン性隔膜のカソード側
に接触する。
不透過性でなければならない。特にニューシャーシ州、
バーミンガムのＩＯ皿ＥＣｈｅｍｉｃａｌＣＯ．製の特
に適したアニオン性隔膜がイタリ一，ミラノ市のＳｙｂ
ｒＯｎＲｅｓｉｎｄｉＯｎからＭＡ−３４７５として発
売されている。定常操業では、第１図に示すカソード液
は苛性ソーダの稀薄水溶液および少量の塩化ンーダよう
なりかつカソード２およびアニオン性隔膜のカソード側
に接触する。
カソード液の苛性ソーダ濃度は、用いる電流密度および
アニオン性隔膜のタイプに応じて１０〜１００ｆ／ｔの
範囲である。塩化ソーダの濃度は、アノード１および隔
膜３のアノード側と接触してアノード室を循環するアノ
ード液の塩化ソーダよう僅かに低くしてある。アノード
およびカソード間に充分に高い電圧（例えば４〜４．５
Ｖ）を印加して、電解電流を電解槽に流してアノード表
面で塩素をカソード表面で水素を発生させる。カソード
で発生した水素は、カソード液およびカソード液ヘツド
を通つて泡立ちかつベントを介して回収される。水酸イ
オンは、隔膜を通つてカソード液からアノード液に移動
し、そこで塩素と反応してアノード液中で次亜塩素酸ソ
ーダを生じアノード室から稀薄排出液として回収される
。次亜塩素酸イオンは、アノード液とカソード液との間
に存在する濃度差およびアニオン性隔膜を横切つて存在
する電界の効果から得られる駆動力の下に、隔膜を通つ
てカソード液に向つて移動する。
アニオン性隔膜のタイプに応じて１０〜１００ｆ／ｔの
範囲である。塩化ソーダの濃度は、アノード１および隔
膜３のアノード側と接触してアノード室を循環するアノ
ード液の塩化ソーダよう僅かに低くしてある。アノード
およびカソード間に充分に高い電圧（例えば４〜４．５
Ｖ）を印加して、電解電流を電解槽に流してアノード表
面で塩素をカソード表面で水素を発生させる。カソード
で発生した水素は、カソード液およびカソード液ヘツド
を通つて泡立ちかつベントを介して回収される。水酸イ
オンは、隔膜を通つてカソード液からアノード液に移動
し、そこで塩素と反応してアノード液中で次亜塩素酸ソ
ーダを生じアノード室から稀薄排出液として回収される
。次亜塩素酸イオンは、アノード液とカソード液との間
に存在する濃度差およびアニオン性隔膜を横切つて存在
する電界の効果から得られる駆動力の下に、隔膜を通つ
てカソード液に向つて移動する。
定常操業では、ある濃度の 素酸塩がカソード液に
存在するが、力ソー 中の濃度はアノード液の平均次
亜塩素酸塩 の３０９６をまれに越えることがある。
次亜塩素酸塩のカソード還元による電流効率損失を決定
するフアクタ一は、所謂カソードニ重層（二重槽とは拡
散層とも言い、電解時の定常状態で存在するもので、電
極の表面上を覆うように形成される電解液の１つの層で
ある。
存在するが、力ソー 中の濃度はアノード液の平均次
亜塩素酸塩 の３０９６をまれに越えることがある。
次亜塩素酸塩のカソード還元による電流効率損失を決定
するフアクタ一は、所謂カソードニ重層（二重槽とは拡
散層とも言い、電解時の定常状態で存在するもので、電
極の表面上を覆うように形成される電解液の１つの層で
ある。
）を通る次亜塩素酸イオンの拡散速度である。対流およ
び隔膜が次亜塩素酸イオン移動に対して加える阻害の不
存在は、カソード液に低い次亜塩素酸塩濃度を与え、ア
ノード液に高い次亜塩素酸塩濃度を用いても、カソード
ニ重層を通る次亜塩素酸塩の拡散速度を低下させる。し
かし、カソード液中の非常に低下した次亜塩素酸塩濃度
でさえも、少量の電流効率損失が、カソードニ重層を通
る移動後にカソード表面に隣接した次亜塩素酸イオンの
不可避的なカソード還元のために生じる。電流効率の損
失は、カソード液にクロム酸ソーダまたは重クロム酸ソ
ーダのようなフイルム形成剤を添加してさらに低減でき
る。
び隔膜が次亜塩素酸イオン移動に対して加える阻害の不
存在は、カソード液に低い次亜塩素酸塩濃度を与え、ア
ノード液に高い次亜塩素酸塩濃度を用いても、カソード
ニ重層を通る次亜塩素酸塩の拡散速度を低下させる。し
かし、カソード液中の非常に低下した次亜塩素酸塩濃度
でさえも、少量の電流効率損失が、カソードニ重層を通
る移動後にカソード表面に隣接した次亜塩素酸イオンの
不可避的なカソード還元のために生じる。電流効率の損
失は、カソード液にクロム酸ソーダまたは重クロム酸ソ
ーダのようなフイルム形成剤を添加してさらに低減でき
る。
これらの塩は、カソード液に１〜７ｔ／ｔの量で加えら
れる。塩の効果は、カソード表面に隣接する電解質のア
ルカリ性層中に不溶性クロム化合物の沈澱によるカソー
ドニ重層における安定なフイルムを生成することである
。このフイルムは、カソード表面に向う次亜塩素酸イオ
ンの拡散に対し障壁として働く。電解槽温度は、３５℃
以下に保つてアノード液中での次亜塩素酸の塩素酸塩へ
の変換を防止するのが好ましい。アノード溶液は、アノ
ード室およびアノード液室に並列に接続した外部タンク
を通して、排出液に望まれる次亜塩素酸塩濃度に応じて
１回またはそれ以上循環させる。この発明方法を実施す
るに適した装置を示す第２図では、電解槽はアノード室
２１およびカソード室２２を有している。
れる。塩の効果は、カソード表面に隣接する電解質のア
ルカリ性層中に不溶性クロム化合物の沈澱によるカソー
ドニ重層における安定なフイルムを生成することである
。このフイルムは、カソード表面に向う次亜塩素酸イオ
ンの拡散に対し障壁として働く。電解槽温度は、３５℃
以下に保つてアノード液中での次亜塩素酸の塩素酸塩へ
の変換を防止するのが好ましい。アノード溶液は、アノ
ード室およびアノード液室に並列に接続した外部タンク
を通して、排出液に望まれる次亜塩素酸塩濃度に応じて
１回またはそれ以上循環させる。この発明方法を実施す
るに適した装置を示す第２図では、電解槽はアノード室
２１およびカソード室２２を有している。
アノード室は端部プレート２３および外部フランジ２５
を有するフレーム２４ようなつている。したがつて、ア
ノード室は、厚さ数ミリメーター好ましくは２〜４Ｔｆ
ｒ１ｔのボツクス形である。ポリ塩化ビニルで作るのが
好ましいが、他の不活性かつ電気絶縁性樹脂材料、チタ
ンまたは他のバルブ金属、またはエポキシ樹脂または他
の不活性材料で適当に被覆した鋼鉄で作ることもできる
。好ましくはバルブ金属酸化物一酸化ルテニウムの電気
触媒的被覆で活性化したチタンで作つたアノード２６を
端部プレート２３に固定し、直流源の正極に接続した端
子２７が端部プレート２３を通つて延びている。
を有するフレーム２４ようなつている。したがつて、ア
ノード室は、厚さ数ミリメーター好ましくは２〜４Ｔｆ
ｒ１ｔのボツクス形である。ポリ塩化ビニルで作るのが
好ましいが、他の不活性かつ電気絶縁性樹脂材料、チタ
ンまたは他のバルブ金属、またはエポキシ樹脂または他
の不活性材料で適当に被覆した鋼鉄で作ることもできる
。好ましくはバルブ金属酸化物一酸化ルテニウムの電気
触媒的被覆で活性化したチタンで作つたアノード２６を
端部プレート２３に固定し、直流源の正極に接続した端
子２７が端部プレート２３を通つて延びている。
アノード２６は端部プレート２３に設けた凹陥部に固定
して、アノード室を流れる電解液が実質上平坦な表面に
沿つて流れるようにするのが好ましい。
して、アノード室を流れる電解液が実質上平坦な表面に
沿つて流れるようにするのが好ましい。
電解槽の組立中に、シーリング剤を用いてアノード２６
を凹陥部に固着させるのが好ましい。アノード室２１に
は、アノード液循環用の入口２８および出口２９を設け
てある。カソード室２２は、アノード室と実質上同様で
あう、端部プレート２１０および外部フランジ２１２を
有するフレーム２１１よりなつている。
を凹陥部に固着させるのが好ましい。アノード室２１に
は、アノード液循環用の入口２８および出口２９を設け
てある。カソード室２２は、アノード室と実質上同様で
あう、端部プレート２１０および外部フランジ２１２を
有するフレーム２１１よりなつている。
このカソード室は、アノード室を作るのに用いたと同じ
または異なる材料で作られている。好ましくは鋼鉄また
はニツケルのスクリーンまたは拡開シートで作つたカソ
ード２１３は、フランジ２１２の平面と実質上共平面の
位置に固定する。カソードは、端部プレート２１０を貫
通する端子２１４で直流源の負極に接続する。一対のネ
オプレン絶縁ガスケツト２１５および２１６を、それぞ
れアノード室およびカソード室のフランジ２５および２
１２の上に位置させた。
または異なる材料で作られている。好ましくは鋼鉄また
はニツケルのスクリーンまたは拡開シートで作つたカソ
ード２１３は、フランジ２１２の平面と実質上共平面の
位置に固定する。カソードは、端部プレート２１０を貫
通する端子２１４で直流源の負極に接続する。一対のネ
オプレン絶縁ガスケツト２１５および２１６を、それぞ
れアノード室およびカソード室のフランジ２５および２
１２の上に位置させた。
液体不透過性、カチオン不透過性およびアニオン透過性
隔膜２１７をアノード２６およびカソード２１３に関し
て平行関係でネオプレンガスケツト２１５と２１６との
間に位置させる。隔膜２１７は、２つの室２１および２
２の全開口部に張勺渡し、アノード２６をカソード２１
３から分離してアノード室およびカソード室をそれぞれ
規定す込。縦方向パイプ２１８は、カソード室の上部を
フロートバルブ２２０を備えてカソード液ヘツドを一定
に保ちかつカソードガスを抜き出す出口２２１を有する
タンクまたは貯槽２１９に連結している。電解槽の操業
中、カソード室およびタンク２１９は、アルカリ金属塩
化物またはアルカリ金属の水酸化物または炭酸塩のよう
な他の適当な支持電解質の溶液で、好ましくは１〜７？
／ｔの重クロム酸アルカリ金属塩を含むものでタンク２
１９のレベル２２２まで充満させておく。アルカリ金属
塩化物溶液を入口２８からアノード室は導入し、電気分
解によう生じた次亜塩素酸塩を含む溶液を出口２９から
回収する。カソード２１３で発生した水素は、カソード
液を通つて泡立ち出口２２１から電解槽を離れる。カソ
ード液ヘツドで生じた圧力よシ僅かに高い静水圧をアノ
ード室に維持して、隔膜２１７を僅かに隣接カソードに
押し付けるのが好ましい。アノード液は第２図のアノー
ド室を通して１回またはそれ以上循環させるか、または
第２図と同様な複数の電解槽を直列に連結して、アノー
ド液を連結電解槽を流してアノード液排出液中の次亜塩
素酸塩濃度を大きくできる。次の実施例では、幾つかの
好ましい具体例を示してこの発明を説明している。
隔膜２１７をアノード２６およびカソード２１３に関し
て平行関係でネオプレンガスケツト２１５と２１６との
間に位置させる。隔膜２１７は、２つの室２１および２
２の全開口部に張勺渡し、アノード２６をカソード２１
３から分離してアノード室およびカソード室をそれぞれ
規定す込。縦方向パイプ２１８は、カソード室の上部を
フロートバルブ２２０を備えてカソード液ヘツドを一定
に保ちかつカソードガスを抜き出す出口２２１を有する
タンクまたは貯槽２１９に連結している。電解槽の操業
中、カソード室およびタンク２１９は、アルカリ金属塩
化物またはアルカリ金属の水酸化物または炭酸塩のよう
な他の適当な支持電解質の溶液で、好ましくは１〜７？
／ｔの重クロム酸アルカリ金属塩を含むものでタンク２
１９のレベル２２２まで充満させておく。アルカリ金属
塩化物溶液を入口２８からアノード室は導入し、電気分
解によう生じた次亜塩素酸塩を含む溶液を出口２９から
回収する。カソード２１３で発生した水素は、カソード
液を通つて泡立ち出口２２１から電解槽を離れる。カソ
ード液ヘツドで生じた圧力よシ僅かに高い静水圧をアノ
ード室に維持して、隔膜２１７を僅かに隣接カソードに
押し付けるのが好ましい。アノード液は第２図のアノー
ド室を通して１回またはそれ以上循環させるか、または
第２図と同様な複数の電解槽を直列に連結して、アノー
ド液を連結電解槽を流してアノード液排出液中の次亜塩
素酸塩濃度を大きくできる。次の実施例では、幾つかの
好ましい具体例を示してこの発明を説明している。
しかし、この発明はこれらの特定の具体例に限定される
ものではない〜 実施例 １ 第２図に示したと同様のポリ塩化ビニル製の電解槽を用
いた。
ものではない〜 実施例 １ 第２図に示したと同様のポリ塩化ビニル製の電解槽を用
いた。
アノードは、バルブ金属の酸化物混合物、酸化チタン、
および白金族金属、二酸化ルテニウムの層で被覆したチ
タン金属シートよりなり、カソードはステンレススチー
ルのスクリーンよシなつている。液体不透過性、カチオ
ン不透過性、アニオン透過性隔膜は、イタリ一，ミラノ
市ＳｙｂｒＯｎＲｅ８ｌｎｄｉＯｎから市販のタイプＭ
Ａ３４７５であつた。カソード室は、塩化ソーダ４０ｐ
／ｔおよびＮａ２Ｃｒ２Ｏ７２ｆ／ｔ含む水溶液で満た
した。塩化ソーダ３０ｆ／Ｔ．カルシウム約１１０ｐｐ
ｍおよびマグネシウム７０ｐ含む塩水を、循環タンクに
並列に連結した電解槽のアノード室を通して二傘連続的
に循環した。アノード室からの排出液を、アノード室出
口で除去しタンクに集めた。可変供給ポンプを用いて循
環比を２ないし２０１即ちアノード室を通るアノード液
のスピードを１０倍に変化させ、一方排出液の除去速度
は同じにした。電解Ｐ況度は、期間中１４〜２５℃に保
つた。操業結果を、第１表に示す。２５０時間操業後、
結果は殆んど変化せず、隔膜およびカソードの両者にス
ケ＝ル形成はなかつた。
および白金族金属、二酸化ルテニウムの層で被覆したチ
タン金属シートよりなり、カソードはステンレススチー
ルのスクリーンよシなつている。液体不透過性、カチオ
ン不透過性、アニオン透過性隔膜は、イタリ一，ミラノ
市ＳｙｂｒＯｎＲｅ８ｌｎｄｉＯｎから市販のタイプＭ
Ａ３４７５であつた。カソード室は、塩化ソーダ４０ｐ
／ｔおよびＮａ２Ｃｒ２Ｏ７２ｆ／ｔ含む水溶液で満た
した。塩化ソーダ３０ｆ／Ｔ．カルシウム約１１０ｐｐ
ｍおよびマグネシウム７０ｐ含む塩水を、循環タンクに
並列に連結した電解槽のアノード室を通して二傘連続的
に循環した。アノード室からの排出液を、アノード室出
口で除去しタンクに集めた。可変供給ポンプを用いて循
環比を２ないし２０１即ちアノード室を通るアノード液
のスピードを１０倍に変化させ、一方排出液の除去速度
は同じにした。電解Ｐ況度は、期間中１４〜２５℃に保
つた。操業結果を、第１表に示す。２５０時間操業後、
結果は殆んど変化せず、隔膜およびカソードの両者にス
ケ＝ル形成はなかつた。
第１図は電解槽内で起きる電気分解を説明し、第２図は
電解槽の好ましい具体例の断面図である。
電解槽の好ましい具体例の断面図である。
Claims (1)
- １ 液体不透過性、カチオン不透過性およびアニオン透
過性隔膜により分離されたアノード室およびカソード室
を有し、かつアノード室にはアノードを有しそしてカソ
ード室にはカソードを有する電解槽のアノード室を通し
てアルカリ金属ハロゲン化物水溶液を通過させ、カソー
ド室には運転開始時はアルカリ金属を含む電解液が満た
されており、正常運転時、カソード室には水を供給し、
アノードでハロゲンを発生させかつカソードで水を還元
するに充分な電位差を電解槽を横切つて印加し、次亜ハ
ロゲン酸アルカリ金属塩を含む排出液をアノード室から
回収することよりなる次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩溶
液の電解製造法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT20232A/79 | 1979-02-15 | ||
| IT20232/79A IT1113412B (it) | 1979-02-15 | 1979-02-15 | Procedimento eletttrolitico ed apparecchiatura per la preparazione di ipoalogenito di metallo alcalino |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55122886A JPS55122886A (en) | 1980-09-20 |
| JPS5949318B2 true JPS5949318B2 (ja) | 1984-12-01 |
Family
ID=11164976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55009884A Expired JPS5949318B2 (ja) | 1979-02-15 | 1980-01-30 | 次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩の電解製造法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4240884A (ja) |
| JP (1) | JPS5949318B2 (ja) |
| CA (1) | CA1153982A (ja) |
| DE (1) | DE3005358A1 (ja) |
| FR (1) | FR2449137A1 (ja) |
| GB (1) | GB2047272B (ja) |
| IT (1) | IT1113412B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0371537U (ja) * | 1989-11-14 | 1991-07-19 |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3037302A1 (de) | 1980-10-02 | 1982-05-27 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Bissilylierte l-hydroxycyclopropancarbonsaeuren, verfahren zu ihrer herstellung sowie ihre verwendung als zwischenprodukte |
| US4434033A (en) | 1982-05-27 | 1984-02-28 | Olin Corporation | Process for producing concentrated solutions containing alkali metal chlorates and alkali metal chlorides |
| FR2574094A1 (fr) * | 1984-12-03 | 1986-06-06 | Chauffe Cie Gle | Procede electrolytique pour la production d'une solution aqueuse d'hypochlorite de sodium |
| NL8501104A (nl) * | 1985-04-15 | 1986-11-03 | Tno | Werkwijze voor het elektrolytisch bereiden van hypochloriet in stromend zouthoudend water, alsmede een voor het uitvoeren van een dergelijke werkwijze geschikte inrichting. |
| US5976346A (en) * | 1993-11-22 | 1999-11-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Membrane hydration in electrochemical conversion of anhydrous hydrogen halide to halogen gas |
| GB2316090B (en) * | 1996-09-26 | 1998-12-23 | Julian Bryson | Method and apparatus for producing a sterilising solution |
| US7349733B2 (en) * | 2001-11-02 | 2008-03-25 | Ceramatel, Inc. | Iontophoretic drug delivery systems |
| US7047069B2 (en) | 2002-02-04 | 2006-05-16 | Ceramatec, Inc. | Iontophoretic fluid delivery device |
| US6775570B2 (en) | 2002-02-04 | 2004-08-10 | Ceramatec, Inc. | Iontophoretic treatment device |
| US20070084718A1 (en) * | 2004-03-29 | 2007-04-19 | Fleming Edward A | Apparatus and method for creating a hydrogen network using water treatment facilities |
| US20050211567A1 (en) * | 2004-03-29 | 2005-09-29 | Fleming Edward A | Apparatus and method for integrated hypochlorite and hydrogen fuel production and electrochemical power generation |
| US20080116144A1 (en) | 2006-10-10 | 2008-05-22 | Spicer Randolph, Llc | Methods and compositions for reducing chlorine demand, decreasing disinfection by-products and controlling deposits in drinking water distribution systems |
| US20080177219A1 (en) * | 2007-01-23 | 2008-07-24 | Joshi Ashok V | Method for Iontophoretic Fluid Delivery |
| US8197844B2 (en) | 2007-06-08 | 2012-06-12 | Activatek, Inc. | Active electrode for transdermal medicament administration |
| HUP0700669A2 (en) * | 2007-10-12 | 2010-04-28 | Ivan Dr Raisz | Process for preparation of drinking water by an electrochemical method using ionselective membrane, without using any chemical |
| US8862223B2 (en) | 2008-01-18 | 2014-10-14 | Activatek, Inc. | Active transdermal medicament patch and circuit board for same |
| US20110135562A1 (en) * | 2009-11-23 | 2011-06-09 | Terriss Consolidated Industries, Inc. | Two stage process for electrochemically generating hypochlorous acid through closed loop, continuous batch processing of brine |
| US9777383B2 (en) | 2010-01-08 | 2017-10-03 | Clarentis Holding, Inc. | Cell and system for preparation of antimicrobial solutions |
| EP2521455A4 (en) * | 2010-01-08 | 2014-10-01 | Clenox Man Llc | SYSTEM AND METHOD FOR PREPARING ANTIMICROBIAL SOLUTIONS |
| JP2014508779A (ja) * | 2011-03-09 | 2014-04-10 | ミオックス コーポレーション | 第四級アンモニウム化合物の電気化学的生成 |
| US8882972B2 (en) | 2011-07-19 | 2014-11-11 | Ecolab Usa Inc | Support of ion exchange membranes |
| US8617403B1 (en) * | 2013-06-25 | 2013-12-31 | Blue Earth Labs, Llc | Methods and stabilized compositions for reducing deposits in water systems |
| US10172360B2 (en) | 2014-12-09 | 2019-01-08 | Johnson Matthey Public Limited Company | Methods for the direct electrolytic production of stable, high concentration aqueous halosulfamate or halosulfonamide solutions |
| US11225723B2 (en) * | 2020-06-19 | 2022-01-18 | Hien Tu Le | System and method for making hypochlorous acid using saltwater with sodium bicarbonate |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2014148A (en) * | 1935-09-10 | Preparation of lead borate | ||
| US2183299A (en) * | 1937-09-23 | 1939-12-12 | Hooker Electrochemical Co | Means for supplying electrolyte to electrolytic cells |
| CH290288A (de) * | 1950-02-22 | 1953-04-30 | Lonza Ag | Verfahren und Einrichtung zur Herstellung von zwei verschiedenen Gasen unter praktisch gleichem Druck in elektrolytischen Druckzersetzern. |
| US3438879A (en) * | 1967-07-31 | 1969-04-15 | Hooker Chemical Corp | Protection of permselective diaphragm during electrolysis |
| US3761369A (en) * | 1971-10-18 | 1973-09-25 | Electrodies Inc | Process for the electrolytic reclamation of spent etching fluids |
| US3976549A (en) * | 1973-02-26 | 1976-08-24 | Hooker Chemicals & Plastics Corporation | Electrolysis method |
| US3975246A (en) * | 1973-06-09 | 1976-08-17 | Sachs-Systemtechnik Gmbh | Method of disinfecting water |
| US3897320A (en) * | 1973-11-01 | 1975-07-29 | Hooker Chemicals Plastics Corp | Electrolytic manufacture of chlorates, using a plurality of electrolytic cells |
| JPS5118996A (ja) * | 1974-08-09 | 1976-02-14 | Showa Denko Kk | |
| US3974051A (en) * | 1975-05-07 | 1976-08-10 | Diamond Shamrock Corporation | Production of hypochlorite from impure saline solutions |
| FR2355926A1 (fr) * | 1975-11-21 | 1978-01-20 | Rhone Poulenc Ind | Diaphragme selectif d'electrolyse |
| US4142950A (en) * | 1977-11-10 | 1979-03-06 | Basf Wyandotte Corporation | Apparatus and process for electrolysis using a cation-permselective membrane and turbulence inducing means |
| IT1110461B (it) * | 1978-03-01 | 1985-12-23 | Oronzio De Nora Impianti | Membrane anioniche costituite da copolimeri di (2) o (4)-vinilpiridina con divinilbenzene o con monomeri vinilici alogenati |
| IT1094825B (it) * | 1978-05-11 | 1985-08-10 | Panclor Chemicals Ltd | Procedimento ed apparecchiatura per l'alogenazione dell'acqua |
-
1979
- 1979-02-15 IT IT20232/79A patent/IT1113412B/it active
- 1979-06-19 US US06/050,143 patent/US4240884A/en not_active Expired - Lifetime
-
1980
- 1980-01-17 GB GB8001624A patent/GB2047272B/en not_active Expired
- 1980-01-30 JP JP55009884A patent/JPS5949318B2/ja not_active Expired
- 1980-02-12 FR FR8003096A patent/FR2449137A1/fr active Granted
- 1980-02-13 DE DE19803005358 patent/DE3005358A1/de not_active Withdrawn
- 1980-02-15 CA CA000345753A patent/CA1153982A/en not_active Expired
- 1980-06-04 US US06/156,352 patent/US4308124A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0371537U (ja) * | 1989-11-14 | 1991-07-19 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2047272A (en) | 1980-11-26 |
| GB2047272B (en) | 1983-01-12 |
| FR2449137B1 (ja) | 1983-02-18 |
| DE3005358A1 (de) | 1980-09-04 |
| FR2449137A1 (fr) | 1980-09-12 |
| IT1113412B (it) | 1986-01-20 |
| US4308124A (en) | 1981-12-29 |
| IT7920232A0 (it) | 1979-02-15 |
| CA1153982A (en) | 1983-09-20 |
| US4240884A (en) | 1980-12-23 |
| JPS55122886A (en) | 1980-09-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5949318B2 (ja) | 次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩の電解製造法 | |
| US5041196A (en) | Electrochemical method for producing chlorine dioxide solutions | |
| US3976549A (en) | Electrolysis method | |
| US5084149A (en) | Electrolytic process for producing chlorine dioxide | |
| US5082543A (en) | Filter press electrolysis cell | |
| JP3428998B2 (ja) | 混合酸化剤ガスを生成する電解槽 | |
| RU97100560A (ru) | Способ электролиза водных растворов хлористоводородной кислоты | |
| KR830002163B1 (ko) | 염소-알칼리 전해조 | |
| JPH05504170A (ja) | 塩素酸・アルカリ金属塩素酸塩混合物の電気化学的製造方法 | |
| US5158658A (en) | Electrochemical chlorine dioxide generator | |
| US4279712A (en) | Method for electrolyzing hydrochloric acid | |
| KR870001768B1 (ko) | 염수 전해전지내의 선택 투과성 이온-교환막의 개선된 작동 및 재생방법 | |
| US20050011753A1 (en) | Low energy chlorate electrolytic cell and process | |
| US5242552A (en) | System for electrolytically generating strong solutions by halogen oxyacids | |
| JP3561130B2 (ja) | 過酸化水素製造用電解槽 | |
| JP3115440B2 (ja) | 塩化アルカリ水溶液の電解方法 | |
| JPH10291808A (ja) | 過酸化水素水の製造方法及び装置 | |
| EP3161185B1 (en) | Narrow gap, undivided electrolysis cell | |
| JP3677078B2 (ja) | 過酸化水素水の製造方法及び装置 | |
| JPH0125835B2 (ja) | ||
| US20120247970A1 (en) | Bubbling air through an electrochemical cell to increase efficiency | |
| FI82078C (fi) | Elektrokemiskt avlaegsnande av hypokloriter ur kloratcelloesningar. | |
| JPH05179475A (ja) | 次亜塩素酸塩の製造方法 | |
| JP3538271B2 (ja) | 塩酸電解装置 | |
| US4699701A (en) | Electrochemical removal of chromium from chlorate solutions |