JPS5941320B2 - Multilayer circuit board manufacturing method - Google Patents

Multilayer circuit board manufacturing method

Info

Publication number
JPS5941320B2
JPS5941320B2 JP56065927A JP6592781A JPS5941320B2 JP S5941320 B2 JPS5941320 B2 JP S5941320B2 JP 56065927 A JP56065927 A JP 56065927A JP 6592781 A JP6592781 A JP 6592781A JP S5941320 B2 JPS5941320 B2 JP S5941320B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
multilayer circuit
circuit board
layer
manufacturing
resin composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP56065927A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS57181197A (en
Inventor
洋 大平
暢男 岩瀬
健二 長島
博 松本
正高 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP56065927A priority Critical patent/JPS5941320B2/en
Publication of JPS57181197A publication Critical patent/JPS57181197A/en
Publication of JPS5941320B2 publication Critical patent/JPS5941320B2/en
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、溶射を利用した多層回路基板の製造方法に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer circuit board using thermal spraying.

従来、多層回路基板を製造するには各種の方法が実施さ
れている。
Conventionally, various methods have been implemented to manufacture multilayer circuit boards.

2層回路基板に限れば、絶縁性基板の表面および裏面に
それぞれ導体回路を形成し、基板の所要個所に穴あけし
穴中をメツキ等の手法により導体化する方法が有効であ
るが、この方法は2層に限定され3層以上に適用できな
いので、本発明での多層回路基板の範噛とはしない。
For two-layer circuit boards, an effective method is to form conductor circuits on the front and back sides of an insulating board, then drill holes at the required locations on the board and make the holes conductive by plating or other methods. Since it is limited to two layers and cannot be applied to three or more layers, it is not included in the scope of the multilayer circuit board in the present invention.

3層以上の多層回路基板の製造方法としては、一般に次
の2つの方法が実施されている。
As a method for manufacturing a multilayer circuit board having three or more layers, the following two methods are generally implemented.

第1の方法は、まず両面銅張或いは片面銅張の樹脂性基
板を準備する。この場合、樹脂は半硬化状態、すなわち
Bステージ状態にしておく。そして、上記基板上の銅を
所望のパターンにエツチングを施し一層目の基板を得る
。次いで、同様の手法で2層目のパターンを有する基板
を得、さらに3層目以降のパターンを有する各基板を得
る。そして、これらの基板をガイドピンを介して重ね合
わせ、熱プレスを施して一体化する。その後、層間導体
を接続するために所要部位に穴あけを施し、この穴にス
ルホール導体をメツキ等の手法によつて形成する方法で
ある。この第1の方法の問題点としては、次の(1)〜
(4)のようなものがある。(1)熱プレスの段階で樹
脂の流動性が生じ銅箔パターンが崩れる虞れがあり、こ
れによりパターンずれおよびパターン切れが生じること
がある。(2)工程が複雑で歩留りが低下する。さらに
、製造コストも高いものになる。(3)絶縁層が樹脂で
形成されるので、放熱性が悪く、高密度化するとき或い
はパワーが加わる部品を搭載するときに制約を受ける。
In the first method, first, a double-sided copper-clad or single-sided copper-clad resin substrate is prepared. In this case, the resin is kept in a semi-cured state, that is, in a B-stage state. Then, the copper on the substrate is etched into a desired pattern to obtain a first layer substrate. Next, a substrate having a second layer pattern is obtained by the same method, and each substrate having a third layer pattern and subsequent layers is further obtained. These substrates are then stacked on top of each other via guide pins and heat pressed to integrate them. Thereafter, holes are drilled at required locations to connect the interlayer conductors, and through-hole conductors are formed in the holes by plating or other methods. The problems with this first method are as follows (1) -
There is something like (4). (1) There is a possibility that the resin becomes fluid during the hot pressing stage, causing the copper foil pattern to collapse, which may cause pattern displacement and pattern breakage. (2) The process is complicated and the yield is reduced. Furthermore, manufacturing costs are also high. (3) Since the insulating layer is made of resin, heat dissipation is poor, and there are restrictions when increasing the density or when mounting components to which power is applied.

(4)内層には導体層のみしか形成できないので、搭載
する部品の面積によつて小型化が制約される。
(4) Since only the conductor layer can be formed on the inner layer, miniaturization is restricted by the area of the components to be mounted.

一方、第2の方法はセラミツクを利用するものであり、
これは印刷方式とグリーンシート方式とに大別される。
On the other hand, the second method uses ceramics,
This is broadly divided into printing methods and green sheet methods.

印刷方式は、セラミツク基板上に 4導体ペーストを印
刷し焼成する工程と、次いでガラスを主成分とする絶縁
ペーストを上下導体を接続する個所を除いて印刷し焼成
する工程との2つの工程を繰り返すことによつて、所望
層数の多層回路基板を得る方法である。この印刷方式の
問題点としては、次の(1)〜(4)のようなものが掲
げられる。(1)印刷一乾燥一焼成と云う工程を繰り返
すのみで工程は簡単であるが、上下導体の接続をも上層
導体の印刷で達成しようとするので、接続不良や検査工
程等の増大を招き、結局製造コストが高くなる。
The printing method repeats two steps: printing a four-conductor paste on a ceramic substrate and firing it, and then printing and firing an insulating paste whose main component is glass except for the areas where the upper and lower conductors are connected. In particular, it is a method for obtaining a multilayer circuit board with a desired number of layers. Problems with this printing method include the following (1) to (4). (1) The process is simple, just repeating the steps of printing, drying, and firing, but since the connection between the upper and lower conductors is also attempted to be achieved by printing the upper layer conductor, it can lead to poor connections and an increase in the number of inspection steps. As a result, manufacturing costs increase.

(2)ガラスを主体とする絶縁層を使用するので、層数
が多くなり絶縁層が厚くなると放熱性が急激に低下する
ため、高密度化には適さない。
(2) Since an insulating layer mainly made of glass is used, as the number of layers increases and the insulating layer becomes thicker, the heat dissipation property decreases rapidly, so it is not suitable for high density.

(3)最初の基板としてセラミツク板が必要であるが、
反りのない大型のセラミツク板(10cTrL角以上)
は非常に高価になることから、大型基板を実用的な価格
で得ることは極めて困難となる。(4)曲面基板を用い
ることは困難である。また、前記グリーンシート方式は
、セラミツクのグリーンシートを作り、このシートの表
裏にWやMO等の耐火金層ペーストで導体パターンを形
成し、所要の上下導体の接続(スルホール)を施し、こ
れを複数枚重ね合わせ多層化プレスで圧着した後、全体
を還元性雰囲気下で焼成する方法である。これと類似で
あるがグリーンシート上に絶縁層、導体層を交互に印刷
する方法もあるがこれは前記グリーンシート方式と同等
と考えられる。このグリーンシート方式の問題点として
は次の(1)〜(4)のようなものが掲げられる。(1
)グリーンシートは焼成により約10%収縮するが、こ
れを見込んでパターンを予め形成したとしても必要寸法
の±1%程度の誤差が生じるため、その後の印刷、部品
搭載およびパツケージ等の寸法合わせに大幅な余裕を持
たせる必要がある。
(3) A ceramic board is required as the first substrate, but
Large ceramic plate without warping (10cTrL square or more)
is extremely expensive, making it extremely difficult to obtain a large substrate at a practical price. (4) It is difficult to use a curved substrate. In addition, in the green sheet method, a ceramic green sheet is made, a conductor pattern is formed on the front and back of this sheet with a refractory gold layer paste such as W or MO, and the required upper and lower conductor connections (through holes) are made. This is a method in which a plurality of sheets are stacked and pressed together using a multilayer press, and then the entire sheet is fired in a reducing atmosphere. Similar to this, there is a method in which insulating layers and conductive layers are alternately printed on a green sheet, but this is considered to be equivalent to the green sheet method. Problems with this green sheet method include the following (1) to (4). (1
) The green sheet shrinks by approximately 10% during firing, but even if the pattern is formed in advance with this in mind, there will be an error of about ±1% of the required dimension, so it will be difficult to adjust the dimensions for subsequent printing, component mounting, package, etc. It is necessary to provide a large amount of leeway.

(2)WやMO等の耐火金属ペーストを使用するため、
還元性雰囲気下で焼成せざるを得ず、製造設備の複雑大
規模化を招く。
(2) Since refractory metal paste such as W and MO is used,
Firing must be carried out in a reducing atmosphere, leading to an increase in the complexity and scale of manufacturing equipment.

(3)曲面基板を用いることは困難である。(3) It is difficult to use a curved substrate.

(4)製造工程に要する所要時間が長い。このように、
従来各種の多層回路基板の製造方法があるが、いずれの
方法にあつてもそれぞれ前記各項に示した問題点があり
、満足すべきものではなかつた。
(4) The time required for the manufacturing process is long. in this way,
Conventionally, there are various methods for manufacturing multilayer circuit boards, but each method has the problems described in the above sections and is not satisfactory.

このため、多層回路基板の製造方法としては次の(1)
〜(7)に示す項目が要望されている。(1)簡単なプ
ロセスで実施でき、かつ多層回路を計算上何層重ねても
製造工程上無理がないこと。(2)従来の多層回路基板
に比して低コストで製造でぎること。(3)多層化は高
密度化を目指す手段でもあるため、従来基板より放熱性
が良いこと。
For this reason, the following method (1) is used for manufacturing multilayer circuit boards:
The items shown in ~(7) are requested. (1) It can be implemented through a simple process, and it is not unreasonable in terms of the manufacturing process even if the number of layers of multilayer circuits is calculated. (2) It can be manufactured at a lower cost than conventional multilayer circuit boards. (3) Since multilayering is also a means of achieving higher density, it must have better heat dissipation than conventional substrates.

(4)導体層相互接続の信頼性が高いこと。(4) High reliability of conductor layer interconnection.

(5)曲面基板にも適用可能であること。(6)使用材
料が貴金属や高純度材料に限定されないこと。
(5) Applicable to curved substrates. (6) The materials used are not limited to precious metals or high-purity materials.

(7)内層に、導体層のみでなく必要に応じて抵抗、コ
ンデンサ、サーミスタ、スイツチおよび熱素子等の要素
を収容できること。
(7) The inner layer can accommodate not only a conductor layer but also elements such as resistors, capacitors, thermistors, switches, and thermal elements as necessary.

本発明はこのような事情を考慮してなされたもので、そ
の目的とするところは、前記した要望を満足すべき多層
回路基板の製造方法を提供することにある。
The present invention has been made in consideration of these circumstances, and its purpose is to provide a method for manufacturing a multilayer circuit board that satisfies the above-mentioned demands.

すなわち、本発明は絶縁層上に所望の導体パターンと逆
パターンに樹脂からなる溶射レジストを印刷したのち良
導電性の金属材料を溶射しその後上記レジストを除去し
て導体層を形成する工程と、上記導体層上に所望絶縁パ
ターンと逆パ.ターンに樹脂からなる溶射レジストを印
刷したのち絶縁性のセラミツク材料を溶射しその後上記
レジストを除去して絶縁層を形成する工程とを交互に繰
り返すと共に、上記溶射により形成された各層に樹脂組
成物を含浸硬化せしめることによつて、前記目的を達成
せんとしたものである。
That is, the present invention includes the steps of printing a thermal sprayed resist made of resin on an insulating layer in a pattern opposite to a desired conductive pattern, then thermally spraying a highly conductive metal material, and then removing the resist to form a conductive layer; A desired insulating pattern and a reverse pattern are placed on the conductor layer. The process of printing a thermal spray resist made of resin on a turn, then thermal spraying an insulating ceramic material, and then removing the resist to form an insulating layer is repeated alternately, and a resin composition is applied to each layer formed by the thermal spraying. The object is to achieve the above object by impregnating and curing the material.

以下、本発明の詳細を図示の実施例によつて説明する。Hereinafter, details of the present invention will be explained with reference to illustrated embodiments.

第1図a−1は本発明の一実施例に係わる多層回路基板
の製造工程を示す断面模式図である。
FIG. 1a-1 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process of a multilayer circuit board according to an embodiment of the present invention.

まず、任意の大きさの金属板1を準備し、この金属板1
の上面に物理的或いは化学的な粗面処理を施し、次いで
金属板1の上面に第1図aに示す如く所望の絶縁パター
ンと逆パターンに樹脂からなる溶射レジスト2を印刷す
る。この印刷には、スクリーン印刷、ホトレジストを用
いてパターニングする方法、その他各種の方法を適用で
きる。次に、アルミナ、マグネシア、チタニア、ジルコ
ニア或いは珪酸ジルコニア等の良熱伝導性の絶縁性セラ
ミツク材料3を、第1図bに示す如く金属基板1上の全
面に亘つて均一に溶射する。このとき、溶射セラミツク
材料3の最大径を44〔μm〕以下に選択し、溶射条件
を適当に選定すれば、レジスト2上には溶射セラミツク
材料3が付着しないようにできる。その後、適当な溶剤
を用い上記レジスト2を剥離することによつて、第1図
cに示す如く溶射セラミツク材料3からなる第1の絶縁
層4が形成される。次に、上記絶縁層4の上面に第1図
dに示す如く所望の導体パターンと逆パターンに溶射レ
ジスト2を印刷する。続いて、銅、アルミニウム、タン
グステン、モリブデン、或いはこれらを主体とする合金
等からなる金属粉(金属材料)5を第1図eに示す如く
金属板1上および絶縁層4上に溶射する。このとき、溶
射金属材料5の最大径を44〔μm〕以下に選択し、溶
射条件を適当に選定すれば、レジスト2上に溶射金属材
料5が付着しないようにできる。その後、適当な溶剤を
用いレジスト2を剥離することによつて、第1図fに示
す如く溶射金属材料5からなる第1の導体層6が形成さ
れる。次に、上記と同様の手法を繰り返し第2の絶縁層
7および導体層8を形成する。
First, prepare a metal plate 1 of any size, and
The upper surface is roughened physically or chemically, and then a thermal spray resist 2 made of resin is printed on the upper surface of the metal plate 1 in a pattern opposite to the desired insulation pattern as shown in FIG. 1a. For this printing, screen printing, patterning using photoresist, and various other methods can be applied. Next, an insulating ceramic material 3 having good thermal conductivity such as alumina, magnesia, titania, zirconia or zirconia silicate is sprayed uniformly over the entire surface of the metal substrate 1 as shown in FIG. 1b. At this time, if the maximum diameter of the sprayed ceramic material 3 is selected to be 44 [μm] or less and the spraying conditions are appropriately selected, the sprayed ceramic material 3 can be prevented from adhering to the resist 2. Thereafter, by peeling off the resist 2 using a suitable solvent, a first insulating layer 4 made of a thermally sprayed ceramic material 3 is formed as shown in FIG. 1c. Next, a thermal spray resist 2 is printed on the upper surface of the insulating layer 4 in a pattern opposite to the desired conductor pattern, as shown in FIG. 1d. Subsequently, metal powder (metal material) 5 made of copper, aluminum, tungsten, molybdenum, or an alloy mainly composed of these is sprayed onto the metal plate 1 and the insulating layer 4 as shown in FIG. 1e. At this time, if the maximum diameter of the sprayed metal material 5 is selected to be 44 [μm] or less and the spraying conditions are appropriately selected, the sprayed metal material 5 can be prevented from adhering to the resist 2. Thereafter, by peeling off the resist 2 using a suitable solvent, a first conductor layer 6 made of the sprayed metal material 5 is formed as shown in FIG. 1f. Next, the second insulating layer 7 and conductor layer 8 are formed by repeating the same method as above.

すなわち、第1図gに示す如く所望の絶縁パターンと逆
パターンに、つまり第1および第2の導体層6,8の接
続を必要とする部分に溶射レジスト2を印刷したのち、
セラミツク材料3を溶射しその後同図hに示す如くレジ
スト2を剥離して第2の絶縁層7を形成する。そして、
絶縁層7の上面に第1図1に示す如く所望の導体パター
ンと導パターンζ≦溶射レジスト2を印刷したのち、金
属゛材料5を溶・射しその後同図jに示す如くレジスト
2を剥離して第2の導体層8を形成する。続いて、同様
の手法を繰り返し第1図K,Iに示す如く第3の絶縁層
9および導体層10をそれぞれ形成する。かくして3層
の回路基板が形成されるが、このままの状態では電気回
路として使用した場合、前記溶射により形成された各層
4,6,〜,10が多孔質であり微細なクラツクが生じ
て各層4,6,〜,10全体に亘つて連続した空孔を有
しているため、導体層6,8,10および金属板1相互
間の耐圧も小さく、さらに湿時には上下導体の絶縁不良
が生じ回路としての機能を果たさなくなる。
That is, as shown in FIG. 1g, after printing the thermal spray resist 2 in a pattern opposite to the desired insulation pattern, that is, in the areas where the first and second conductor layers 6 and 8 need to be connected,
A ceramic material 3 is thermally sprayed, and then the resist 2 is peeled off as shown in FIG. 6H to form a second insulating layer 7. and,
After printing a desired conductive pattern and conductive pattern ζ≦sprayed resist 2 on the upper surface of the insulating layer 7 as shown in FIG. 1, the metal material 5 is sprayed, and then the resist 2 is peeled off as shown in FIG. Then, the second conductor layer 8 is formed. Subsequently, the same method is repeated to form a third insulating layer 9 and a conductive layer 10, respectively, as shown in FIGS. 1K and 1I. In this way, a three-layer circuit board is formed, but when used as an electric circuit in this state, each layer 4, 6, -, 10 formed by the thermal spraying is porous and minute cracks occur, causing each layer 4 to , 6, -, 10 have continuous holes throughout, so the withstand voltage between the conductor layers 6, 8, 10 and the metal plate 1 is small, and furthermore, when it is humid, insulation failure between the upper and lower conductors may occur, causing circuit damage. It ceases to function as a.

これを防ぐために、モノマー、プレポリマ一或いはその
組合わせた樹脂組成物を低粘度状態にして表面層、つま
り第3の絶縁層9から内層、特に第2および第1の絶縁
層7,4に浸透させる。この際、大気中で行つてもよい
が、真空中で浸透させたり超音波槽中で浸透させる方法
でもよい。また、モノマーおよびプレポリマ一は、重合
して三次元硬化するもので熱的に安定で電気的特性に優
れたものが望ましく、例えばエポキシプレポリマージア
リルフタレート、熱硬化型ポリブタジエン、トリアジン
樹脂、ビスマレイド樹脂、トリアリルシアヌレート、ポ
リミイド樹脂、ジビニルベンゼン、グルシジルメタクリ
レート、ポリジメチルシロキサン系樹脂およびポリウレ
タン樹脂が掲げられる。さらに、モノマーおよびプレポ
リマ一には必要であれば予め触媒硬化剤、開始剤、染料
、顔料、界面活性剤、シランカツプリング剤、酸化防止
剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、レオロジ一調整用微粒
(0.1μm以下)の無機の充填剤、或いは変成組成分
として他の樹脂成分を添加してもよい。さて、前記モノ
マー或いはプレポリマ一を主成分とする樹脂組成物を前
記溶射により形成された各層4,6,〜,10に浸透さ
せたのち、適当な手段によつて、例えば加熱硬化、電子
線硬化、或いは紫外線硬化等の手段によつて、3次元網
状化(硬化)を行う。
In order to prevent this, a resin composition made of a monomer, a prepolymer, or a combination thereof is made to have a low viscosity and penetrates from the surface layer, that is, the third insulating layer 9, into the inner layer, especially the second and first insulating layers 7 and 4. let At this time, it may be carried out in the atmosphere, but it may also be carried out in a vacuum or in an ultrasonic bath. The monomer and prepolymer are preferably those that polymerize and cure three-dimensionally, are thermally stable and have excellent electrical properties, such as epoxy prepolymer diallyl phthalate, thermosetting polybutadiene, triazine resin, bismaleide resin, Examples include triallyl cyanurate, polymide resin, divinylbenzene, glycidyl methacrylate, polydimethylsiloxane resin, and polyurethane resin. Furthermore, if necessary, the monomer and prepolymer must be prepared in advance with catalyst curing agents, initiators, dyes, pigments, surfactants, silane coupling agents, antioxidants, anti-aging agents, ultraviolet absorbers, and fine particles for rheology adjustment. An inorganic filler (0.1 μm or less) or another resin component may be added as a modification component. After the resin composition containing the monomer or prepolymer as a main component is infiltrated into each of the layers 4, 6, to 10 formed by thermal spraying, it is cured by appropriate means, such as heat curing or electron beam curing. Alternatively, three-dimensional reticulation (curing) is performed by means such as ultraviolet curing.

次いで、最上層に残つた樹脂組成焼を物理的に削り落と
すことによつて、最外層の導体層10が露出され、これ
により目的とする3層回路基板が得られることになる。
そして、この樹脂含浸法により上記回路基板は、電気的
に信頼性の高いものになると同時に各層内部同志および
金属板1との密着も確保され機械的強度が増すことにな
る。なお、上記樹脂含浸法は必ずしも前記各層4,6,
〜,10が形成されたのちに行う必要はない。
Next, by physically scraping off the resin composition remaining on the top layer, the outermost conductor layer 10 is exposed, thereby obtaining the intended three-layer circuit board.
By this resin impregnation method, the circuit board becomes electrically reliable, and at the same time secures close contact with each other inside each layer and with the metal plate 1, thereby increasing mechanical strength. Note that the above resin impregnation method does not necessarily require the above-mentioned layers 4, 6,
It is not necessary to do this after ~, 10 are formed.

例えば、第1層目から第3層目の各層を形成する毎に、
つまり第1図F,j,Iの各状態毎に樹脂組成物を含浸
硬化してもよい。さらに、各層毎に樹脂組成物を含浸し
、第3層目までが形成された.第1図1の状態で上記樹
脂組成物を硬化せしめるようにしてもよい。以上説明し
た本実施例方法によれば、次の(1)〜(8)のような
効果を奏する。
For example, each time each layer from the first layer to the third layer is formed,
That is, the resin composition may be impregnated and cured for each state shown in FIG. 1 F, j, and I. Furthermore, each layer was impregnated with a resin composition to form up to the third layer. The resin composition may be cured in the state shown in FIG. 1. According to the method of this embodiment described above, the following effects (1) to (8) are achieved.

(1)金属板1上にレジスト印刷−セラミツク材料 く
溶射−レジスト剥離−レジスト印刷一金属材料溶射−レ
ジスト剥離の工程を繰り返すと共に樹脂組成物を含浸硬
化せしめるのみで、従来方法に比して個々の作業が簡易
であり、かつその自動化が容易である。
(1) The process of resist printing on the metal plate 1 - thermal spraying of ceramic material - resist peeling - resist printing - thermal spraying of metal material - resist peeling is repeated and the resin composition is only impregnated and hardened, which is more effective than conventional methods. The work is simple and easy to automate.

(2)上記(1)項に関連して従来の多層回路基板に比
して、その製造コストが大幅に低減される。
(2) In relation to item (1) above, the manufacturing cost is significantly reduced compared to conventional multilayer circuit boards.

(3)絶縁層4,7,9が金属板1と一体化しており、
かつ良熱伝導性セラミツク材料3で形成されているので
、高放熱構造の多層回路基板を実現でき、高密度化およ
びハイパワー化に適合し得る。(4)導体層5,8,1
0および金属板1相互間の接続に際し、従来の印刷方式
のような凸凹面のための段切れを未然に防止でき、接続
の信頼性が向上する。
(3) The insulating layers 4, 7, 9 are integrated with the metal plate 1,
In addition, since it is made of a ceramic material 3 with good thermal conductivity, a multilayer circuit board with a high heat dissipation structure can be realized, and it can be adapted to high density and high power. (4) Conductor layers 5, 8, 1
0 and metal plate 1, it is possible to prevent breakage due to uneven surfaces as in conventional printing methods, and the reliability of the connection is improved.

(5)溶射に際し金属板1の温度を上昇しないようにで
き、例えば金属板1を冷却しながら溶射するようにすれ
ば、金属板1の温度を室温に保持することもできる。
(5) It is possible to prevent the temperature of the metal plate 1 from rising during thermal spraying; for example, by performing thermal spraying while cooling the metal plate 1, the temperature of the metal plate 1 can be maintained at room temperature.

このため、金属板1、絶縁層4,7,9の各パターンお
よび導体層6,8,10の各パターンの相対位置精度が
可及的に高められ、その後の部品搭載やボンデイング等
の自動化および連続化を容易に行い得る。(6)回路板
として金属板を用いているので、低コストであると共に
、その大きさにも何ら制限がない。
Therefore, the relative positional accuracy of the metal plate 1, each pattern of the insulating layers 4, 7, 9, and each pattern of the conductive layers 6, 8, 10 is increased as much as possible, and the subsequent automation of component mounting, bonding, etc. Continuation can be easily performed. (6) Since a metal plate is used as the circuit board, the cost is low and there are no restrictions on its size.

(7)必要ならば、部品搭載後も必要個所に溶射ができ
る。
(7) If necessary, thermal spraying can be applied to the necessary locations even after parts are mounted.

(8)アースパターンや電源ウインパターン等のように
電流容量の大きな導体層を有する層のみを、厚くするこ
とも容易に可能である。
(8) It is also possible to easily increase the thickness of only a layer having a conductor layer with a large current capacity, such as an earth pattern or a power supply win pattern.

次に、本発明の他の実施例を第2図を参照して説明する
Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

どの実施例は曲面形状を有する金属板11上に多層回路
を製造する方法である。まず、金属板11にプレス加工
等を施し第2図に示す如き曲面を形成する。次いで、金
属板11の上面にサンドプラスト法等により粗面処理を
施す。しかるのち、イックジェット12を用い金属板1
1上に所望のレジストパターンを形成する。ここで、金
属板11を接地しておきイックジェット12内に収容さ
れたレジストインク(溶射レジスト)13に+の高圧信
号を作用させると、先端ノズル12aから金属板11に
向かつて液滴が飛び、この液滴がノズル12aと金属板
11との最短距離部分に到達して金属板11上にレジス
ト膜を形成する。したがつて、イックジェット12に予
めコンピユータに記憶させた情報に基づいて電気信号を
印加すると共に、イックジェット12を紙面左右、表裏
方向に走査すれば、所望のレジストパターンが曲面を有
した金属板11上に形成されることになる。このとき、
金属板11とイックジェット12との相対距離は常に一
定であることが望ましく、金属板11或いはイックジェ
ット12を予めコンピユータに記憶させたデータに基づ
いて上下方向に移動させれば、常に一定の距離でレジス
トを金属板11上に形成できる。レジスト形成後、セラ
ミツク材料を溶射するには、図示しない溶射機のノズル
先端を紙面左右、表裏方向に走査させればよい。また、
レジスト形成時と同様にノズル先端と金属板11との距
離を一定にすることが望ましい。かくして先の実施例と
同様にレジスト塗布(レジスト印刷)−セラミツク材料
溶射−レジスト剥離一レジスト塗布一金属材料溶射一レ
ジスト剥離等の工程を繰り返すことによつて金属板11
上に多層回路が形成されることになる。
Which embodiment is a method of manufacturing a multilayer circuit on a metal plate 11 having a curved surface shape. First, the metal plate 11 is subjected to press working or the like to form a curved surface as shown in FIG. Next, the upper surface of the metal plate 11 is roughened by a sand blasting method or the like. After that, the metal plate 1 is
A desired resist pattern is formed on 1. Here, when the metal plate 11 is grounded and a positive high voltage signal is applied to the resist ink (sprayed resist) 13 housed in the quick jet 12, droplets fly from the tip nozzle 12a toward the metal plate 11. The droplets reach the shortest distance between the nozzle 12a and the metal plate 11 and form a resist film on the metal plate 11. Therefore, by applying an electric signal to the ICJet 12 based on information stored in advance in a computer and scanning the ICJet 12 from side to side and in the front and back directions of the page, a desired resist pattern can be formed on a metal plate with a curved surface. 11. At this time,
It is desirable that the relative distance between the metal plate 11 and the IC jet 12 is always constant, and if the metal plate 11 or the IC jet 12 is moved vertically based on data stored in a computer in advance, the distance will always be constant. A resist can be formed on the metal plate 11 in this manner. After the resist is formed, the ceramic material can be thermally sprayed by scanning the nozzle tip of a thermal spraying machine (not shown) in the left and right, front and back directions of the paper. Also,
It is desirable to keep the distance between the nozzle tip and the metal plate 11 constant as in the case of resist formation. Thus, as in the previous embodiment, the metal plate 11 is formed by repeating the steps of resist coating (resist printing) - ceramic material thermal spraying - resist peeling - resist coating - metal material thermal spraying - resist peeling.
A multilayer circuit will be formed on top.

したがつて、本実施例によれば先の実施例と同様の効果
は勿論のこと、曲面を有した多層回路基板を容易に形成
し得る等の効果を奏する。なお、本発明は上述した各実
施例に限定されるものではない。
Therefore, according to this embodiment, not only the same effects as those of the previous embodiments but also the ability to easily form a multilayer circuit board having a curved surface are achieved. Note that the present invention is not limited to the embodiments described above.

例えば、前記最下層となる金属板の代りに絶縁板を用い
てもよい。この場合、絶縁板上に導体層を形成する工程
と、その後絶縁層を形成する工程とを交互に繰り返せば
よい。さらに、回路層は3層に限らず、それ以上でもよ
いのは勿論のことである。また、導体層および絶縁層の
他に抵抗体やコンデンサ等の形成にも適用することがで
きる。例えば、抵抗体を形成する場合、第3図に示す如
く金属板1上に溶射セラミツク材料からなる絶縁層4を
形成したのち、絶縁層4上に溶射金属材料からなる導体
層21a,21bを形成し、次いでニツケルークロム合
金、ニツケルーリン合金、タンタル、タングステン、モ
リブデン、炭化ケイ素、酸化第1スズ、ゲルマニウム、
酸化ルテニウム、グラフアイト、五酸パナジウム、酸化
チタン、ガラス、或いはセラミツクと抵抗性材料とを組
み合わせたサーメツトタイプの抵抗性材料等の適当な比
抵抗を有する組成物を導体層21a,21bと両端でオ
ーバラツプするように溶射して抵抗体22を形成する。
このとき、比抵抗の異なる抵抗性材料を別々のレジスト
を用いて形成すれば、抵抗体の縦横比と合わせて低抵抗
から高抵抗までカバーできることになる。同様にコンデ
ンサを形成する場合、第4図に示す如く金属板1上に絶
縁層4を形成したのち下部導体層23を形成し、次いで
高誘電率セラミツク材料としてのチタン酸ストロンチウ
ム、酸化チタン、チタン酸カルシウム、チタン酸鉛、チ
タン酸バリウム、或いは低誘電材料としてのアルミナ、
マグネシア、フオルステライト、ステアタイトベリリア
、ジルコニア、珪酸ジルコニア等を溶射して誘電体層2
4を形成し、その後上部導体層25を形成することによ
つて、所望容量のコンデンサを形成することができる。
さらに、同様の手法によつて各種の電気素子、例えばス
イツチ素子、PTC素子およびサーミスタ素子を多層回
路基板の任意の場所に形成可能である。また、前記溶射
材料の大きさや溶射条件等は仕様に応じて適宜定めれば
よい。
For example, an insulating plate may be used instead of the metal plate serving as the bottom layer. In this case, the process of forming the conductor layer on the insulating plate and the process of forming the insulating layer thereafter may be repeated alternately. Furthermore, it goes without saying that the number of circuit layers is not limited to three, and may be more than three. Furthermore, it can be applied to the formation of resistors, capacitors, etc. in addition to conductor layers and insulating layers. For example, when forming a resistor, as shown in FIG. 3, an insulating layer 4 made of a sprayed ceramic material is formed on a metal plate 1, and then conductive layers 21a and 21b made of a sprayed metal material are formed on the insulating layer 4. followed by nickel-chromium alloy, nickel-rulin alloy, tantalum, tungsten, molybdenum, silicon carbide, stannous oxide, germanium,
A composition having a suitable resistivity such as ruthenium oxide, graphite, panadium pentate, titanium oxide, glass, or a cermet type resistive material that combines ceramic and a resistive material is applied to the conductor layers 21a and 21b and both ends thereof. The resistor 22 is formed by thermal spraying in an overlapping manner.
At this time, if resistive materials with different specific resistances are formed using different resists, a range from low resistance to high resistance can be covered in accordance with the aspect ratio of the resistor. Similarly, when forming a capacitor, as shown in FIG. 4, an insulating layer 4 is formed on a metal plate 1, a lower conductive layer 23 is formed, and then strontium titanate, titanium oxide, titanium calcium oxide, lead titanate, barium titanate, or alumina as a low dielectric material,
Dielectric layer 2 is formed by spraying magnesia, forsterite, steatite beryllia, zirconia, zirconia silicate, etc.
4 and then by forming the upper conductor layer 25, a capacitor with a desired capacitance can be formed.
Furthermore, various electric elements, such as switch elements, PTC elements, and thermistor elements, can be formed at arbitrary locations on the multilayer circuit board using similar techniques. Further, the size of the thermal spraying material, thermal spraying conditions, etc. may be determined as appropriate according to specifications.

さらに、前記レジストの材質やレジストパターンの形成
方法等も仕様に応じて適宜定めればよい。その他、本発
明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施するこ
とができる。
Furthermore, the material of the resist, the method of forming the resist pattern, etc. may be appropriately determined according to the specifications. In addition, various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図a−1は本発明の一実施例に係わる多層回路基板
の製造工程を示す断面模式図、第2図は他の実施例を説
明するための模式図、第3図および第4図はそれぞれ変
形例を説明するための断面模式図である。 1,11・・・・・・金属板、2・・・・・溶射レジス
ト、3・・・・・・セラミツク材料、4,7,9・・・
・・・絶縁層、5・・・・・・金属材料、6,8,10
・・・・・・導体層。
FIG. 1 a-1 is a schematic cross-sectional view showing the manufacturing process of a multilayer circuit board according to one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic diagram for explaining another embodiment, and FIGS. 3 and 4 are schematic cross-sectional views for explaining modified examples, respectively. 1, 11... Metal plate, 2... Thermal spray resist, 3... Ceramic material, 4, 7, 9...
... Insulating layer, 5 ... Metal material, 6, 8, 10
・・・・・・Conductor layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 絶縁層上に所望の導体パターンと逆パターンに樹脂
からなる溶射レジストを印刷したのち良導電性の金属材
料を溶射しその後該レジストを除去して導体層を形成す
る第1の工程と、上記導体層上に所望の絶縁パターンと
逆パターンに樹脂からなる溶射レジストを印刷したのち
絶縁性のセラミック材料を溶射しその後該レジストを除
去して絶縁層を形成する第2の工程と、前記第1および
第2の工程を交互に繰り返して所望数の導体層および絶
縁層を形成する工程と、前記溶射により形成された少な
くとも1つの層に樹脂組成物を含浸硬化せしめる工程と
を具備したことを特徴とする多層回路基板の製造方法。 2 最初の第1の工程における絶縁層として、絶縁性基
板を用いたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の多層回路基板の製造方法。 3 最初の第1の工程における絶縁層として、金属板上
に前記第2の工程と同様の工程により形成された絶縁層
を用いたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
多層回路基板の製造方法。 4 前記樹脂組成物を含浸硬化せしめる工程は、前記第
1および第2の工程を交互に繰り返して所望数の導体層
および絶縁層が形成されたのち、最上層から上記各層に
樹脂組成物を含浸し硬化せしめるものであることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の多層回路基板の製造
方法。 5 前記樹脂組成物を含浸硬化せしめる工程は、前記第
1および第2の工程により形成される各層毎に樹脂組成
物を含浸し硬化せしめるものであることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の多層回路基板の製造方法。 6 前記樹脂組成物を含浸硬化せしめる工程は、前記第
1および第2の工程により形成される各層毎に樹脂組成
物を含浸し、全ての層が形成されたのち上記含浸した樹
脂組成物を硬化せしめるものであることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の多層回路基板の製造方法。 7 前記第1の工程により形成された導体層の所望箇所
に電気受動素子を溶射法で収容したことを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の多層回路基板の製造方法。 8 前記金属板は、所望曲面形状を有してなるものであ
ることを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の多層回
路基板の製造方法。
[Claims] 1. A conductor layer is formed by printing a thermal spray resist made of resin on the insulating layer in a pattern opposite to the desired conductor pattern, then thermally spraying a highly conductive metal material, and then removing the resist. Step 1 and a second step of printing a thermal spray resist made of resin on the conductor layer in a pattern opposite to the desired insulation pattern, then spraying an insulating ceramic material, and then removing the resist to form an insulation layer. a step of alternately repeating the first and second steps to form a desired number of conductor layers and insulating layers; and a step of impregnating and curing at least one layer formed by the thermal spraying with a resin composition. A method for manufacturing a multilayer circuit board, comprising: 2. The method of manufacturing a multilayer circuit board according to claim 1, characterized in that an insulating substrate is used as the insulating layer in the first step. 3. The multilayer circuit according to claim 1, characterized in that an insulating layer formed on a metal plate by a step similar to the second step is used as the insulating layer in the first step. Substrate manufacturing method. 4. The step of impregnating and curing the resin composition involves repeating the first and second steps alternately to form a desired number of conductor layers and insulating layers, and then impregnating each layer from the top layer with the resin composition. 2. The method of manufacturing a multilayer circuit board according to claim 1, wherein the multilayer circuit board is cured. 5. Claim 1, wherein the step of impregnating and curing the resin composition is a step of impregnating and curing the resin composition for each layer formed in the first and second steps. A method of manufacturing the multilayer circuit board described above. 6. The step of impregnating and curing the resin composition involves impregnating each layer formed in the first and second steps with the resin composition, and curing the impregnated resin composition after all the layers are formed. 2. The method of manufacturing a multilayer circuit board according to claim 1, wherein the method is a method for manufacturing a multilayer circuit board. 7. The method of manufacturing a multilayer circuit board according to claim 1, characterized in that electrically passive elements are housed in desired locations of the conductor layer formed in the first step by a thermal spraying method. 8. The method of manufacturing a multilayer circuit board according to claim 3, wherein the metal plate has a desired curved surface shape.
JP56065927A 1981-04-30 1981-04-30 Multilayer circuit board manufacturing method Expired JPS5941320B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56065927A JPS5941320B2 (en) 1981-04-30 1981-04-30 Multilayer circuit board manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56065927A JPS5941320B2 (en) 1981-04-30 1981-04-30 Multilayer circuit board manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS57181197A JPS57181197A (en) 1982-11-08
JPS5941320B2 true JPS5941320B2 (en) 1984-10-05

Family

ID=13301084

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56065927A Expired JPS5941320B2 (en) 1981-04-30 1981-04-30 Multilayer circuit board manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5941320B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS57181197A (en) 1982-11-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7072167B2 (en) Co-fired ceramic capacitor and method for forming ceramic capacitors for use in printed wiring boards
US7351915B2 (en) Printed circuit board including embedded capacitor having high dielectric constant and method of fabricating same
KR100867038B1 (en) Printed circuit board with embedded capacitors, and manufacturing process thereof
US6068782A (en) Individual embedded capacitors for laminated printed circuit boards
US5073840A (en) Circuit board with coated metal support structure and method for making same
JP2004342831A (en) Circuit board, manufacturing method therefor and electronic device
JP4207517B2 (en) Embedded substrate
JP3786512B2 (en) Manufacturing method of multilayer wiring board
JP4530605B2 (en) Multi-layer wiring board with built-in capacitor element
JPS5941320B2 (en) Multilayer circuit board manufacturing method
JPH09293968A (en) Method of manufacturing multilayer wiring substrate
KR100715152B1 (en) Methods of forming metal contact pads on a metal support substrate
JPH10107445A (en) Multi-layered wiring board and manufacture thereof
JP2008300846A (en) Circuit board which has internal register, and electric assembly using this circuit board
JP2803754B2 (en) Multilayer electronic circuit board
JP2699980B2 (en) Wiring board with a film element inside
JP3659441B2 (en) Wiring board
EP0417749A2 (en) Thick film resistor/integrated circuit substrate and method of manufacture
JPH055197B2 (en)
JP2004119547A (en) Ceramic wiring board and its manufacturing method
JPH01290279A (en) Wiring board and manufacture thereof
JP3232002B2 (en) Wiring board
JP3610156B2 (en) Manufacturing method of multilayer wiring board
JPH10322029A (en) Multilayered wiring board
JP4022105B2 (en) Manufacturing method of multilayer wiring board