JPS5939325A - プレツシヤ−スイング法によるガス精製法 - Google Patents
プレツシヤ−スイング法によるガス精製法Info
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- JPS5939325A JPS5939325A JP57150338A JP15033882A JPS5939325A JP S5939325 A JPS5939325 A JP S5939325A JP 57150338 A JP57150338 A JP 57150338A JP 15033882 A JP15033882 A JP 15033882A JP S5939325 A JPS5939325 A JP S5939325A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は深冷ガス分離4Altに送る前の原料ガス中
の不純物をプレッシャースイング法によって除去して精
製ガスを得るガス精製法に関するものである。
の不純物をプレッシャースイング法によって除去して精
製ガスを得るガス精製法に関するものである。
例えば、空気χ液化分離する方法においては、原料空気
中の水分、二酸化炭素等を除去する心安があるが、この
除去方法としてプレッシャースイング法によるガス精製
法がある。第1図に示す方法は、従来公知の一例ケ示し
たもので、原料空気は′#1より王縮機2に送られ、こ
こで加圧された後、予冷機3.切換弁4a’に経て切替
使用される2基の吸着塔5.6の一万の吸着塔5に導入
されろ。上記吸着塔5.6には水分(以下、11.Uと
配子)および二酸化炭素(以下、COlと記−1′″)
を優先的に吸着する吸着剤、例えばN a X型合成ゼ
オライトがそれぞれ充填されており力11圧状態で吸着
塔5に導入され1こ原料空気中のII、0およびC,O
、が吸着剤に吸着される、このようにして得られた精製
ガス(梢#窒気]は、切換弁7a、管8を経て空気分離
装置(深冷ガス分S装置)9に送られろ4吸層工程)。
中の水分、二酸化炭素等を除去する心安があるが、この
除去方法としてプレッシャースイング法によるガス精製
法がある。第1図に示す方法は、従来公知の一例ケ示し
たもので、原料空気は′#1より王縮機2に送られ、こ
こで加圧された後、予冷機3.切換弁4a’に経て切替
使用される2基の吸着塔5.6の一万の吸着塔5に導入
されろ。上記吸着塔5.6には水分(以下、11.Uと
配子)および二酸化炭素(以下、COlと記−1′″)
を優先的に吸着する吸着剤、例えばN a X型合成ゼ
オライトがそれぞれ充填されており力11圧状態で吸着
塔5に導入され1こ原料空気中のII、0およびC,O
、が吸着剤に吸着される、このようにして得られた精製
ガス(梢#窒気]は、切換弁7a、管8を経て空気分離
装置(深冷ガス分S装置)9に送られろ4吸層工程)。
次に、上記のようにして空気分離装置f 9に送られた
精製ガスは、該装+19において液化分離されるが、分
離ガスの一部が減圧され再生用ガスとして、切換弁12
bを経て他方の吸着塔6に送り込まれる一吸着塔6に導
入された再生用ガスは、吸着筒6内の吸着削中奢通過し
、吸庸工程において吸着したt−i、oおよびco、y
脱着てる。このようにしてH,0、GO2′f?!:脱
附して吸着筒6の底部に至った再生用ガスは、切替弁1
3bV経て排気される(再生工程)。
精製ガスは、該装+19において液化分離されるが、分
離ガスの一部が減圧され再生用ガスとして、切換弁12
bを経て他方の吸着塔6に送り込まれる一吸着塔6に導
入された再生用ガスは、吸着筒6内の吸着削中奢通過し
、吸庸工程において吸着したt−i、oおよびco、y
脱着てる。このようにしてH,0、GO2′f?!:脱
附して吸着筒6の底部に至った再生用ガスは、切替弁1
3bV経て排気される(再生工程)。
土’ir”rのように、切換弁4 a s 7 a *
] 21〕*13b4開の状態に、そして切換弁4b
、7b。
] 21〕*13b4開の状態に、そして切換弁4b
、7b。
12a、13aY閉の状態にすると吸着塔5内は吸着操
作中、吸着塔6内は脱着(再生)操作中となる。この関
係ケー足時間毎に切換えることにより、連続的に1ft
I製ガスV得ることができる。
作中、吸着塔6内は脱着(再生)操作中となる。この関
係ケー足時間毎に切換えることにより、連続的に1ft
I製ガスV得ることができる。
ところで、ryh梢製システムにおいて、原料ガス中の
特定成分(不純物)を数層除去する場合、原料ガス中に
共存成分が多くなれば再生工程で上記特定成分を減圧N
jBガスにより減圧パージする際、再生用の梢喪ガス中
の共存成分の一部が特定成分の脱着を妨げる傾向がある
。このような現象は、特定成分の低濃度領域で特にその
傾向が著しくなる。例えば、空気中のH,0,CO,ガ
スを特定成分として、これを除去する場合、共存成分と
しての0.、N、が再生時、H,O,Cutの吸着剤か
らの脱WY妨げる傾向がある訳である、これを第2図に
従って説明する、吸着剤としてNaX型合成ゼオライト
単独を使用して、第1図に示した精製システムで空気中
の飽和H,U。
特定成分(不純物)を数層除去する場合、原料ガス中に
共存成分が多くなれば再生工程で上記特定成分を減圧N
jBガスにより減圧パージする際、再生用の梢喪ガス中
の共存成分の一部が特定成分の脱着を妨げる傾向がある
。このような現象は、特定成分の低濃度領域で特にその
傾向が著しくなる。例えば、空気中のH,0,CO,ガ
スを特定成分として、これを除去する場合、共存成分と
しての0.、N、が再生時、H,O,Cutの吸着剤か
らの脱WY妨げる傾向がある訳である、これを第2図に
従って説明する、吸着剤としてNaX型合成ゼオライト
単独を使用して、第1図に示した精製システムで空気中
の飽和H,U。
4001)pmcO,を除去する場合、第2図中直線a
に示すように、再生用ガス量が吸着ガス量の80俤の時
は、吸着時に吸着筒出口のCO7はlppm以下に抑え
ることができる。しかし1図中直線すに示すように、再
生ガス蟻が吸着ガスh(の60チの時は、出口co、は
3PPm、さらに図中直線Cに示すように、同再生用ガ
ス量が50係の時は、出口CO3は10ppnlにも増
えてしまう。このことから、図に示すように、特に40
pI)In以下の低濃度吸層頭域では、土gr2 再生
ガス縫が減少すると、CO2の脱着が容易でないことが
わかる、 一部、一般vC窒気分離装!(深冷分離i置]では、原
料空気に対して智品のU、、N、7約40係採取し、残
りの約604yal−廃N、として吸着筒の再生に使用
することかり能であるが、製品収率の向上など空気分難
装置の性能向よを番工かるためには廃N、の量?50チ
以下にしておかなげればなら乙【いe しかし、上記のように廃Nt!1iン513 %以下に
して空気分離装置の性能ケ向上させることは、前記し定
ように、この9気分離システムの前処理(ガス精製シス
テム)において、低譲度吸N領域では再生用ガス量が減
少でると、GO,の脱着が容易でないことから実現でき
ないでいるのが現状である。
に示すように、再生用ガス量が吸着ガス量の80俤の時
は、吸着時に吸着筒出口のCO7はlppm以下に抑え
ることができる。しかし1図中直線すに示すように、再
生ガス蟻が吸着ガスh(の60チの時は、出口co、は
3PPm、さらに図中直線Cに示すように、同再生用ガ
ス量が50係の時は、出口CO3は10ppnlにも増
えてしまう。このことから、図に示すように、特に40
pI)In以下の低濃度吸層頭域では、土gr2 再生
ガス縫が減少すると、CO2の脱着が容易でないことが
わかる、 一部、一般vC窒気分離装!(深冷分離i置]では、原
料空気に対して智品のU、、N、7約40係採取し、残
りの約604yal−廃N、として吸着筒の再生に使用
することかり能であるが、製品収率の向上など空気分難
装置の性能向よを番工かるためには廃N、の量?50チ
以下にしておかなげればなら乙【いe しかし、上記のように廃Nt!1iン513 %以下に
して空気分離装置の性能ケ向上させることは、前記し定
ように、この9気分離システムの前処理(ガス精製シス
テム)において、低譲度吸N領域では再生用ガス量が減
少でると、GO,の脱着が容易でないことから実現でき
ないでいるのが現状である。
本発明者を工、」−記事情に鑑み、その改善策につぎ揮
々検討を市ねた結果前記従来技術の欠点は、特定除去成
分の尚匿両濃度領域において、同じ切換時間でプレッシ
ャースイング法を行なっていた点にあることを見出しに
。即ち本来、高濃匿領域では、特定除去成分が吸着剤粒
子の細孔の内部に入っても、脱着時の共存成分の妨害を
受けにくいが、前記したように低濃度領域で特定除去成
分の分圧が低い場合は共存成分による脱着妨害が大きく
なる。また、特定除去成分が吸着剤粒子の細孔の内部に
入り丁ぎると、脱着されにくくなり、ひいては吸着時の
特定除去成分の除去率の低下につながる。従って、低濃
度領域では脱着され易く、かつ脱着が短時間で行なわれ
る吸着剤を選ンこし、それを使用でればよい訳である。
々検討を市ねた結果前記従来技術の欠点は、特定除去成
分の尚匿両濃度領域において、同じ切換時間でプレッシ
ャースイング法を行なっていた点にあることを見出しに
。即ち本来、高濃匿領域では、特定除去成分が吸着剤粒
子の細孔の内部に入っても、脱着時の共存成分の妨害を
受けにくいが、前記したように低濃度領域で特定除去成
分の分圧が低い場合は共存成分による脱着妨害が大きく
なる。また、特定除去成分が吸着剤粒子の細孔の内部に
入り丁ぎると、脱着されにくくなり、ひいては吸着時の
特定除去成分の除去率の低下につながる。従って、低濃
度領域では脱着され易く、かつ脱着が短時間で行なわれ
る吸着剤を選ンこし、それを使用でればよい訳である。
このことχ特定除去成分として、前記従来例と同様GO
,乞例にとって調べてみた。吸着剤としてNaX型合成
ゼオライトとシリカアルミナ(二酸化ケイ素40〜60
%、酸化アルミニウム60〜4 Q % ) %’選び
、N、巾約401) f) Ill含まれるco、vプ
レッシャースイング法によって切換時間を10分として
除去した。その結果、第3図に示すよ5に、曲線αで示
し7.1NaX型合成ゼオライトと曲線βで示したシリ
カアルミナともに0〜5分間において脱庸CO1濃度の
ピークが形成され、特にNaX型合成ゼオライトより細
孔径の大きなシリカアルミナの万が0〜5分間における
腕看率が優れていることを実験的に確かめ得た。
,乞例にとって調べてみた。吸着剤としてNaX型合成
ゼオライトとシリカアルミナ(二酸化ケイ素40〜60
%、酸化アルミニウム60〜4 Q % ) %’選び
、N、巾約401) f) Ill含まれるco、vプ
レッシャースイング法によって切換時間を10分として
除去した。その結果、第3図に示すよ5に、曲線αで示
し7.1NaX型合成ゼオライトと曲線βで示したシリ
カアルミナともに0〜5分間において脱庸CO1濃度の
ピークが形成され、特にNaX型合成ゼオライトより細
孔径の大きなシリカアルミナの万が0〜5分間における
腕看率が優れていることを実験的に確かめ得た。
この発明は−e ii:の如き知見に基づいてなされた
もので、その目的はその再生用ガスの財ヲ大rlJに低
減することができ、それによつ′C精製ガス収率の向上
および再生時の圧力損失の低減を実現でき、その結果、
深冷ガス分離装置の性能を向上させることのできるプレ
ッシャースイング法によるガス1Wjil!!法を提供
することにあり、吸着筒?上流側と下流側とに2分割し
て、上流lN11吸漕筒に合成ゼオライトを充填し、下
流側吸着筒にシリカアルミナ系吸着剤を充填するととも
に下流側吸着筒の吸着・脱着のサイクル時間を上流11
す吸着筒の同時間より少なく【7て最も効率的に再生用
ガスを消*するようにして再生用ガスの消費駄χ低減化
したものである。
もので、その目的はその再生用ガスの財ヲ大rlJに低
減することができ、それによつ′C精製ガス収率の向上
および再生時の圧力損失の低減を実現でき、その結果、
深冷ガス分離装置の性能を向上させることのできるプレ
ッシャースイング法によるガス1Wjil!!法を提供
することにあり、吸着筒?上流側と下流側とに2分割し
て、上流lN11吸漕筒に合成ゼオライトを充填し、下
流側吸着筒にシリカアルミナ系吸着剤を充填するととも
に下流側吸着筒の吸着・脱着のサイクル時間を上流11
す吸着筒の同時間より少なく【7て最も効率的に再生用
ガスを消*するようにして再生用ガスの消費駄χ低減化
したものである。
以下、この発明の一実施例?第4図Y呑照して説明する
が、図中比1図と共通する部分には同一符号Y付して説
明ケ簡略化する。第4図より明らかなようにこのガス精
製装置においては、切換使用される2基の吸着筒はそれ
ぞれ上流側と下流側とに2分割されている。−万のよ@
側吸漸筒20aと下流側吸着筒20bとは切換弁217
¥弁して連結され、他方の上流側吸着筒22aと下流側
吸着筒22bとは切換弁23を弁して連結されている。
が、図中比1図と共通する部分には同一符号Y付して説
明ケ簡略化する。第4図より明らかなようにこのガス精
製装置においては、切換使用される2基の吸着筒はそれ
ぞれ上流側と下流側とに2分割されている。−万のよ@
側吸漸筒20aと下流側吸着筒20bとは切換弁217
¥弁して連結され、他方の上流側吸着筒22aと下流側
吸着筒22bとは切換弁23を弁して連結されている。
また、−万の上流側吸着筒20aと他方の下流側吸着筒
22bとは切換弁24を介して連結され、他方の上流側
吸着筒22aと一万の下流側吸着筒20bとは切換弁2
5を弁して連結されている。
22bとは切換弁24を介して連結され、他方の上流側
吸着筒22aと一万の下流側吸着筒20bとは切換弁2
5を弁して連結されている。
そして、各上流偶数N筒20a 、22aにはNaX型
合成ゼオライトが充填され、各下流側吸着筒20b、2
2b6Cはシリカアルミナが厄項されている。この実施
例において、F流側吸宥筒20b、22bの切換時間を
下流側吸着筒20 a 、 22aの切換時間の半分に
して効率的な運転乞行なうものである。以下、この作動
例乞詳しく説明する。
合成ゼオライトが充填され、各下流側吸着筒20b、2
2b6Cはシリカアルミナが厄項されている。この実施
例において、F流側吸宥筒20b、22bの切換時間を
下流側吸着筒20 a 、 22aの切換時間の半分に
して効率的な運転乞行なうものである。以下、この作動
例乞詳しく説明する。
まず、原料空気は管1よりIE縮磯2に送られ、ここで
加圧されに後、予冷機3.切換弁4a’a’経て上流側
吸着筒20 a K導入される。この上流1+I11吸
着塔20 aに加圧状態で導入され定原料望気は、その
中のH,0、CO,の大部分がNaX型合成ゼオライト
に吸着除去された後、切換弁21乞経て下流側吸着筒2
0bに導入される。下流側吸着筒20bに送り通すれL
空気は俟りの1−1. U 。
加圧されに後、予冷機3.切換弁4a’a’経て上流側
吸着筒20 a K導入される。この上流1+I11吸
着塔20 aに加圧状態で導入され定原料望気は、その
中のH,0、CO,の大部分がNaX型合成ゼオライト
に吸着除去された後、切換弁21乞経て下流側吸着筒2
0bに導入される。下流側吸着筒20bに送り通すれL
空気は俟りの1−1. U 。
CO,がシリカアルミナに吸着され、このようにしてH
,O、C(J、の除去された空気(精製ガス)は切換弁
7al’#8乞経て空気分離装置9に送られる。この工
程を一定時間、例えば5分間行なったら、切換弁21を
閉じ、切懐弁24Y開け、上流側吸着筒20ayal−
通過してぎた空気を下流側吸着筒22bへ導入する。こ
の下流側吸着筒22b内のシリカアルミナでH,0、C
O,Y除去され定空気は、切換弁12a、管8を経て空
気分離装置9へ送られる。この工程も5分間行なう。従
って、下流側吸着筒20aは10分間の吸N乞行なうの
に対して、下流側吸着筒20b 、22bは半分の5分
間の吸着ケ行なうことになる。以上が吸着工程である。
,O、C(J、の除去された空気(精製ガス)は切換弁
7al’#8乞経て空気分離装置9に送られる。この工
程を一定時間、例えば5分間行なったら、切換弁21を
閉じ、切懐弁24Y開け、上流側吸着筒20ayal−
通過してぎた空気を下流側吸着筒22bへ導入する。こ
の下流側吸着筒22b内のシリカアルミナでH,0、C
O,Y除去され定空気は、切換弁12a、管8を経て空
気分離装置9へ送られる。この工程も5分間行なう。従
って、下流側吸着筒20aは10分間の吸N乞行なうの
に対して、下流側吸着筒20b 、22bは半分の5分
間の吸着ケ行なうことになる。以上が吸着工程である。
次に、装[N9において液化分離されL分備ガスの一部
ン減圧し、切換弁12bを経て下流側吸着筒22bK再
生用ガスとして送り込み、引きつづき切換弁23を経て
上流側吸着筒22aに送り込む、下流側吸着筒22bお
よび上流l111吸清筒22aに送り込まれた再生用ガ
スは、それぞれ下流側吸着筒22b内のシリカアルミナ
および下流側吸着筒22a内のNaX型合成ゼオライト
中?通過し、吸層工aにおいて吸着し矩吸着1−1.0
、 CO,?脱着する。(この時、よ流側吸着筒20
aおよび下流側吸着筒20bは吸着工程を行なっている
。)この工程を5分間行なったら、切換弁12bχ閉じ
てり換弁7bおよび25を開け、再生用ガスケ下流側吸
着筒20.bおよび上流側吸着筒22aに送り込み、下
流側吸着筒20b内のシリカアルミナおよび上流側吸着
筒22a内のNaX型合成ゼオライトに吸着されている
。)l、 0 、 CO,の脱着を行なう。(この時、
上流側吸着筒20aおよび下流側吸着筒22bは吸着工
程を行なっている。]従って、上流側吸着筒22aは1
0分間の脱着を行なうのに対して、下流側吸着筒20b
、22bは半分の5分間の脱N?行なうことになる。
ン減圧し、切換弁12bを経て下流側吸着筒22bK再
生用ガスとして送り込み、引きつづき切換弁23を経て
上流側吸着筒22aに送り込む、下流側吸着筒22bお
よび上流l111吸清筒22aに送り込まれた再生用ガ
スは、それぞれ下流側吸着筒22b内のシリカアルミナ
および下流側吸着筒22a内のNaX型合成ゼオライト
中?通過し、吸層工aにおいて吸着し矩吸着1−1.0
、 CO,?脱着する。(この時、よ流側吸着筒20
aおよび下流側吸着筒20bは吸着工程を行なっている
。)この工程を5分間行なったら、切換弁12bχ閉じ
てり換弁7bおよび25を開け、再生用ガスケ下流側吸
着筒20.bおよび上流側吸着筒22aに送り込み、下
流側吸着筒20b内のシリカアルミナおよび上流側吸着
筒22a内のNaX型合成ゼオライトに吸着されている
。)l、 0 、 CO,の脱着を行なう。(この時、
上流側吸着筒20aおよび下流側吸着筒22bは吸着工
程を行なっている。]従って、上流側吸着筒22aは1
0分間の脱着を行なうのに対して、下流側吸着筒20b
、22bは半分の5分間の脱N?行なうことになる。
このようにして上流側吸着筒22aの底部に至った再生
用ガスは、切換弁13bを経て排気される。以上が再生
工程である。
用ガスは、切換弁13bを経て排気される。以上が再生
工程である。
上記のようにして一定時間(10分間]、吸着、脱着工
程を行7よったら、各切換弁を上記の場合と逆にして上
流側吸着筒22aiallで吸着工程を行ない、上流側
吸着筒2Oa側は再生工程乞行なう。
程を行7よったら、各切換弁を上記の場合と逆にして上
流側吸着筒22aiallで吸着工程を行ない、上流側
吸着筒2Oa側は再生工程乞行なう。
このように上流側吸着時20aと上流側吸着筒22aY
交互に切換え便用することにより連続的vcf#現ガス
(空気)χ得ることがでさる、この発明においては、上
記のように上流1目す吸着時2Qa 、22aにNaX
型合成ゼオライトを充填し、上流側吸着筒20 b 、
22 bに脱着され易くかつ脱着時間が短かくて済む
シリカアルミナな充填するとともに上流側吸着筒2Qb
、22bの切換時間ン上流1111吸看筒2Qa、2
2Hの切換時間の半分にしてガス精製を行なうものなの
で、少喰の再生用ガスによって光分な脱M Y frな
うことができ、吸着時において一足のH,0,CO,の
ス収率の向上および再生時の圧力損失の低減乞実現でき
、その結果、深冷ガス分離装置t9の性能χ向上させる
ことができる。
交互に切換え便用することにより連続的vcf#現ガス
(空気)χ得ることがでさる、この発明においては、上
記のように上流1目す吸着時2Qa 、22aにNaX
型合成ゼオライトを充填し、上流側吸着筒20 b 、
22 bに脱着され易くかつ脱着時間が短かくて済む
シリカアルミナな充填するとともに上流側吸着筒2Qb
、22bの切換時間ン上流1111吸看筒2Qa、2
2Hの切換時間の半分にしてガス精製を行なうものなの
で、少喰の再生用ガスによって光分な脱M Y frな
うことができ、吸着時において一足のH,0,CO,の
ス収率の向上および再生時の圧力損失の低減乞実現でき
、その結果、深冷ガス分離装置t9の性能χ向上させる
ことができる。
なお、上記実施例において、下流111!I e、N筒
20b、22bの切換時間を上流側吸着筒20a、22
aの切換時間の半分にしたが、これに限足されることな
く、その状況により最適な比率馨選択丁ればよい。例え
ば、上流側吸着筒20a 122aの切換時間710分
とし、−万のF流側吸着筒20bの切換時間を6分とし
た時は他方の上流側吸着筒22bの切換時間奢4分と丁
ればよい。
20b、22bの切換時間を上流側吸着筒20a、22
aの切換時間の半分にしたが、これに限足されることな
く、その状況により最適な比率馨選択丁ればよい。例え
ば、上流側吸着筒20a 122aの切換時間710分
とし、−万のF流側吸着筒20bの切換時間を6分とし
た時は他方の上流側吸着筒22bの切換時間奢4分と丁
ればよい。
以上説明し定ように、この発明は吸着筒を上流側と下流
1111とic2分割し、上流側吸着筒に合成ゼオライ
トχ充填でるとともに上流側吸着筒にシリカアルミナ系
吸着剤を充填し、下流側枝M商の吸着・脱着のサイクル
時間乞上流偶数層筒のサイクル時間より少な(シタので
、再生用ガスの量を大巾に低減することができ、それに
伴/、Cつて精製ガス収率の向上および再生時の圧力損
失の低減ン実現でき、その結果、深冷ガス分離装置の性
能ケ向上させることができる。
1111とic2分割し、上流側吸着筒に合成ゼオライ
トχ充填でるとともに上流側吸着筒にシリカアルミナ系
吸着剤を充填し、下流側枝M商の吸着・脱着のサイクル
時間乞上流偶数層筒のサイクル時間より少な(シタので
、再生用ガスの量を大巾に低減することができ、それに
伴/、Cつて精製ガス収率の向上および再生時の圧力損
失の低減ン実現でき、その結果、深冷ガス分離装置の性
能ケ向上させることができる。
このようなこの発明の効果乞定量的に確認するために下
記のような実験2行なった。
記のような実験2行なった。
第4図に示したガス精製装置を用いて特定除去成分とし
て飽和11.Qおよび約400 p pmCO。
て飽和11.Qおよび約400 p pmCO。
を含む空気?プレッシャースイング法による下記3条件
で除去じ、出口CO3#度を比較した?(11各吸着m
KはNaX型合成ゼオライトのみY充填し、吸着・説層
切換時間を10分とし途中での上流側吸着筒への切換え
は行なわなかった・(比較例1)。
で除去じ、出口CO3#度を比較した?(11各吸着m
KはNaX型合成ゼオライトのみY充填し、吸着・説層
切換時間を10分とし途中での上流側吸着筒への切換え
は行なわなかった・(比較例1)。
(2] 各吸着時にはN a X型合成ゼオライトの
みを充填し、上流側の吸着・脱着切換時間を10分 4
゜とじ、下流側の同切換時間を5分とした(比較例2)
。
みを充填し、上流側の吸着・脱着切換時間を10分 4
゜とじ、下流側の同切換時間を5分とした(比較例2)
。
(3)上流側吸着時にはN a 、X型合成ゼオライト
ヲ充填し、上流側吸着筒にはシリカアルミナを充填し、
上流((ljlの吸着・脱着切換時間’&10分とし、
下流側の同切換時間を5分とし1こ(本発明しなお、上
記11021+31とも再生用ガス瞳は吸着ガス量の5
0チとした。
ヲ充填し、上流側吸着筒にはシリカアルミナを充填し、
上流((ljlの吸着・脱着切換時間’&10分とし、
下流側の同切換時間を5分とし1こ(本発明しなお、上
記11021+31とも再生用ガス瞳は吸着ガス量の5
0チとした。
その結果、第5図の1a線Cに示すように比較例1では
吸着筒出口COR濃度は]Oppmとなり、同図+M@
dに示すように、比較例2で(工出口αへ濃度は5 p
p mとなり、これ[対し本発明で(・工同図直線e
に示すように、出口CO7濃度はippm以下となった
。そして、直線eは前記第2図の直線a(再生用ガス瞬
80チ)と同じ傾きと1fつでおり、本発明を採用する
ことによって、再生用ガスtを従来の80係から50%
とすることができ、大11Jに再生用ガス喰を減少でき
ることが確認された0
吸着筒出口COR濃度は]Oppmとなり、同図+M@
dに示すように、比較例2で(工出口αへ濃度は5 p
p mとなり、これ[対し本発明で(・工同図直線e
に示すように、出口CO7濃度はippm以下となった
。そして、直線eは前記第2図の直線a(再生用ガス瞬
80チ)と同じ傾きと1fつでおり、本発明を採用する
ことによって、再生用ガスtを従来の80係から50%
とすることができ、大11Jに再生用ガス喰を減少でき
ることが確認された0
第1図は従来のプレッシャースイング法によるガスf#
製法に使われていたガス精製装置の構成図、第2図は第
1図の装置によりNaX型合成ゼオライトで空気の精製
乞行なう際、吸漸ガス歓に対する再生用ガス縫の比率を
変えた場合の職層筒内のCO,9度勾配をプロットした
グラフ、第3図は脱着時間に対1−る脱着CO,濃度ケ
NaX型合成ゼオライトとシリカアルミナとについてプ
ロットしたグラフ、第4図はこの発明の一実施例乞税明
するためのもので、この発明を実施するのに最適なガス
精製装置の構成図、第5図は第4図の装置を用いて行な
われた空気の精製における職層筒内のCO2O2濃度勾
配全本発明較例2例についてプロットしたグラフである
。 2・・・空気圧縮機、20a 、22a・・・上#t、
側吸着筒。 20b 、22b・・・下流側吸着筒、出願人 日本
酸素株式会社 第1図 第2図 峨1情 U良−笥入口
ムロ 第3図 口vL塩 晴 11
製法に使われていたガス精製装置の構成図、第2図は第
1図の装置によりNaX型合成ゼオライトで空気の精製
乞行なう際、吸漸ガス歓に対する再生用ガス縫の比率を
変えた場合の職層筒内のCO,9度勾配をプロットした
グラフ、第3図は脱着時間に対1−る脱着CO,濃度ケ
NaX型合成ゼオライトとシリカアルミナとについてプ
ロットしたグラフ、第4図はこの発明の一実施例乞税明
するためのもので、この発明を実施するのに最適なガス
精製装置の構成図、第5図は第4図の装置を用いて行な
われた空気の精製における職層筒内のCO2O2濃度勾
配全本発明較例2例についてプロットしたグラフである
。 2・・・空気圧縮機、20a 、22a・・・上#t、
側吸着筒。 20b 、22b・・・下流側吸着筒、出願人 日本
酸素株式会社 第1図 第2図 峨1情 U良−笥入口
ムロ 第3図 口vL塩 晴 11
Claims (1)
- 原料ガス中の特定除去成分乞選択的に吸Nする複数の吸
着筒ケ吸着・再生の各工程に切換えることにより連続H
9に精製ガス馨得るプレッシャースイング法によるガス
精製法において、上記各吸着筒Y上流側吸屑筒と下流側
吸層筒とに分割しかつ上流側吸N筒に合成ゼオライIY
、′F流側吸着筒にシリカアルミナ系吸着剤χそれぞれ
充填するとともに、下流1FI11牧看筒の吸着・再生
切換時間を士流側吸層・再生切換時間より少なくしたこ
とy!′特徴とするプレッシャースイング法によるガス
l*製法0
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57150338A JPS5939325A (ja) | 1982-08-30 | 1982-08-30 | プレツシヤ−スイング法によるガス精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57150338A JPS5939325A (ja) | 1982-08-30 | 1982-08-30 | プレツシヤ−スイング法によるガス精製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5939325A true JPS5939325A (ja) | 1984-03-03 |
JPH039766B2 JPH039766B2 (ja) | 1991-02-12 |
Family
ID=15494816
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57150338A Granted JPS5939325A (ja) | 1982-08-30 | 1982-08-30 | プレツシヤ−スイング法によるガス精製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5939325A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5593475A (en) * | 1995-04-13 | 1997-01-14 | Liquid Air Engineering Corporation | Mixed bed adsorber |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5531492A (en) * | 1978-08-21 | 1980-03-05 | Air Prod & Chem | Separation of multiicomponent gas mixture |
-
1982
- 1982-08-30 JP JP57150338A patent/JPS5939325A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5531492A (en) * | 1978-08-21 | 1980-03-05 | Air Prod & Chem | Separation of multiicomponent gas mixture |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5593475A (en) * | 1995-04-13 | 1997-01-14 | Liquid Air Engineering Corporation | Mixed bed adsorber |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH039766B2 (ja) | 1991-02-12 |
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