JPS5936219A - Fixed slit type photoelectric microscope - Google Patents

Fixed slit type photoelectric microscope

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JPS5936219A
JPS5936219A JP14705382A JP14705382A JPS5936219A JP S5936219 A JPS5936219 A JP S5936219A JP 14705382 A JP14705382 A JP 14705382A JP 14705382 A JP14705382 A JP 14705382A JP S5936219 A JPS5936219 A JP S5936219A
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JP
Japan
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light
pair
inspected
polarized
slit
Prior art date
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Pending
Application number
JP14705382A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ichiro Mori
一朗 森
Toshiaki Shinozaki
篠崎 俊昭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP14705382A priority Critical patent/JPS5936219A/en
Publication of JPS5936219A publication Critical patent/JPS5936219A/en
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Abstract

PURPOSE:To facilitate adjustment by providing a fixedly arranged couple of slits, a couple of polarizers which have polarization directions crossing with each other at right angles, and a mechanism which generates a couple of light beams alternately at a specific periods as a modulating means of luminous flux incident to a photoelectric transducer. CONSTITUTION:Luminous flux from a scale line 42 on a scale 41 is incident to the photoelectric transducer 58 through slits 54a and 54b of a slit plate 54 alternately by the irradiation with alternate polarized light beams P' and Q' from a light irradiating mechanism which are polarized linearly at right angles to each other and the operation of the slits 54a and 54b of the slit plate 54 and polarizing plates 56a and 56b. This when viewed from the side of the photoelectric transducer 58 is equivalent to the effect when one slit is oscillated mechanically corresponding to a detection origin and the displacement of the scale line 42 on the scale is therefore detected.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、物体上の線状パターンの位置を検出する固定
スリット型光電顕機銃に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a fixed slit type photoelectron microscope machine gun that detects the position of a linear pattern on an object.

〔発明の技術的背景とその間融点〕[Technical background of the invention and its melting point]

従来、線状パターンの位置を光字的に検出するものとし
て各種の光電顕微鏡が提案されているが、これらの代表
的なものを第1図及び第2図に示す。第1図に示す光!
顕微鏡では、検出すべき目盛線(&l状パターン)1を
持つスケール2ill:、スケール2が透明物体の場合
透過照明明物体の場合落射照明系4にょシハーフミラー
5を介して照明される。そして、スケール2上の目盛線
1の像は対物レンズ6にょ如ハーフミラ−7を介して焦
点鏡8に結像されると共に、スリット板9のスリット9
a上に結像される。
Conventionally, various photoelectron microscopes have been proposed for optically detecting the position of a linear pattern, and representative ones of these are shown in FIGS. 1 and 2. The light shown in Figure 1!
In a microscope, a scale 2 having graduation lines (&l-shaped pattern) 1 to be detected is illuminated by transmitted illumination when the scale 2 is a transparent object, and an epi-illumination system 4 for a bright object. The image of the graduation line 1 on the scale 2 is formed on the focusing mirror 8 via the objective lens 6, the half mirror 7, and the slit 9 of the slit plate 9.
The image is formed on a.

焦点鯨8に結像された像は接眼レンズ1θにより肉眼で
モニタされる。スリ、ト板9は発振器11からのち流で
振動される振ld+子12に取着され図中矢印A方向に
振動せられるものであシ、スリブ)9mを通過した光束
は光II変換素子13によ)電気信号に変換される。そ
して、この変換信号がプリアンプ14を介して増幅され
たのち同期整流回路15にょ夛同期整流され、この整流
出力が前記スケール2上の目盛1M1の変位量として指
示メータ16に表示されるものとなっている。
The image formed on the focal whale 8 is monitored with the naked eye through an eyepiece 1θ. The plate 9 is attached to an oscillator 12 which is vibrated by the afterflow from the oscillator 11, and is vibrated in the direction of arrow A in the figure. ) is converted into an electrical signal. After this conversion signal is amplified via the preamplifier 14, it is synchronously rectified by the synchronous rectifier circuit 15, and this rectified output is displayed on the indicator 16 as the displacement amount of the scale 1M1 on the scale 2. ing.

壕だ、第2図に示す光電、h微鋭は% IJ記スリット
板9を振動させる代シに、前記振動子12によル反射続
17を図中矢印B方向に励動せしめるようにしたもので
ある。すなわち、前記スケール2上の目盛線10像は対
物レンズ6によりハーフミラ−5,7及び上記反射鏡1
7を介してスリ、ト板9のスリット9a上に結像される
ものとなっている。
In addition to vibrating the slit plate 9 shown in Fig. 2, the vibrator 12 is configured to excite the reflex chain 17 in the direction of arrow B in the figure. It is something. That is, the scale line 10 image on the scale 2 is transmitted to the half mirrors 5, 7 and the reflecting mirror 1 by the objective lens 6.
The image is formed on the slit 9a of the top plate 9 through the slit 7.

このように第1図及び側2図に示す光電−徹蜆は、スリ
ット板9のスリット9&を透過し光電変換素子13に受
光される光束を変調するのに、スリット板9を振動させ
るか或いは光束を揚動させるかの違いがあるだけで、そ
の他の構成は内1様である。そして、この釉の光′fI
L顕微鏡では、第3図に示す如き変位−出力−5圧特性
が得られる。また、光電変換素子13に受光される光束
が変調されているので、交bj℃増幅器を使用すること
ができ、S’N比の高い検出出力が得られることも知ら
れている。しかしながら、前記スリット9a或いは反射
鏡17を機械的に振動させその振動中心を検出原点に対
応させる原理であるため、振動中心の変動量以上の高い
検出精度が得られないと云う欠点があった。っまシ、ス
リット9a或−は反射鏡17を機械的に振動させている
ため、その振動中心を検出原点に正確に一致させること
は困難であシ、振動中心の変動に起因する検出精度の低
下を防ぐことはできなかった。
In this way, the photoelectric transducer shown in FIGS. 1 and 2 modulates the light beam transmitted through the slit 9& of the slit plate 9 and received by the photoelectric conversion element 13 by vibrating the slit plate 9 or by vibrating the slit plate 9. The only difference is whether the luminous flux is lifted, and the other configurations are the same. And this glazed light'fI
With the L microscope, displacement-output-5 pressure characteristics as shown in FIG. 3 can be obtained. It is also known that since the light beam received by the photoelectric conversion element 13 is modulated, an AC bj°C amplifier can be used and a detection output with a high S'N ratio can be obtained. However, since the principle is to mechanically vibrate the slit 9a or the reflecting mirror 17 and make the vibration center correspond to the detection origin, there is a drawback that detection accuracy higher than the amount of variation in the vibration center cannot be obtained. However, since the slit 9a or the reflecting mirror 17 is mechanically vibrated, it is difficult to accurately align the center of vibration with the detection origin, and detection accuracy may be affected due to fluctuations in the center of vibration. The decline could not be prevented.

一方、上記の欠点を取如除いた装置として、文献(Pr
oc o’f Internatinal Conte
rsnce onMlcrolithography 
、 Mierocircult Engineerin
g80 、Amsterdam (1980) P2S
5 )に記載されているような、集積回路のマスクツ奇
ターン焼き付けのために使用されるアライナのアライメ
ン信号検出装置が提案されている。この装置itは、第
4図に示す如くウェーハ2ノ上の回折格子構造のアライ
メントマーク22が、レチクルマスク23上のマルチス
リット24IL、24bの中心位置に対する変位を検出
するものである。光源25からの光は音部光学変調器2
6にょシ葡駒かつ偏向され、ハーフミラ−27及びレン
ズ28を介してウェーハ21上のアライメントマーク2
2に照射される。このとき、音皆元学質調器26からの
光はレチクルマスク23上のマルチスリット24h、2
4bk透過するので、アライメントマーク22に照射さ
れる光束は上記マルチスリット24&、24bの形状と
相似に整形される、アライメントマーク22で2′M回
折された光束は、レンズ28を通シ再びマルチスリット
24*、24bを透過した後、ハーフミラ−27、反射
鏡29及び焦光レンズ3Qを介して光電変換素子13に
受光される。そして、この光!変換素子13にて電気信
号に変換された変換信号がプリアンプ14及び同期整流
回路15を介して増幅及び同期整流され、先に説明した
のと同様に指示メータ16にアライメントマーク22の
変位量が表示されるものとなっている。なお、図中31
は前記音蕃光学変調器26及び同期整流回路15に基準
信号を与えるためのドライバを示している。
On the other hand, the literature (Pr.
International Conte
rsnce onMlcrolithography
, Mierocircult Engineerin
g80, Amsterdam (1980) P2S
5), an alignment signal detection device for an aligner used for mask-to-odd turn printing of integrated circuits has been proposed. This device IT detects the displacement of the alignment mark 22 of the diffraction grating structure on the wafer 2 with respect to the center position of the multi-slits 24IL and 24b on the reticle mask 23, as shown in FIG. The light from the light source 25 is transmitted to the acoustic optical modulator 2
6. The alignment mark 2 on the wafer 21 is deflected through the half mirror 27 and the lens 28.
2. At this time, the light from the sound source quality adjuster 26 is transmitted through the multi-slits 24h and 2 on the reticle mask 23.
4bk is transmitted through the lens 28, so the light beam irradiated to the alignment mark 22 is shaped to be similar to the shape of the multi-slits 24&, 24b. After passing through 24* and 24b, the light is received by the photoelectric conversion element 13 via the half mirror 27, the reflecting mirror 29, and the focusing lens 3Q. And this light! The conversion signal converted into an electric signal by the conversion element 13 is amplified and synchronously rectified via the preamplifier 14 and the synchronous rectification circuit 15, and the displacement amount of the alignment mark 22 is displayed on the indicator 16 in the same way as described above. It has become something that will be done. In addition, 31 in the figure
indicates a driver for providing a reference signal to the acoustic optical modulator 26 and the synchronous rectifier circuit 15.

この装置では、光電変換素子13へ入射する光束の変調
に音譬光学的変調器26及び2つの固定された回折格子
構造マルチス’)、ト24m。
In this device, an acoustic optical modulator 26 and two fixed diffraction grating structures 24m are used to modulate the light beam incident on the photoelectric conversion element 13.

24bを利用しているので、前述したスリット9a及び
反射鏡17等の振動中心の変位に起因する検出り度の低
下を回避することができる。
24b, it is possible to avoid a decrease in the detection accuracy due to the displacement of the vibration centers of the slit 9a, the reflecting mirror 17, etc. described above.

しかしながら、アライメントマーク22の検出に2重回
折を利用しているので、マルチスリ。
However, since double diffraction is used to detect the alignment mark 22, multiple pick-ups occur.

ト24m、24bのピッチ間隔を、アライメントマーク
22のピッチ間隔にレンズ28の倍率を掛けた寸法に厳
缶に一致させる必要があシ、これがために装置の調整の
煩雑化を招いた。さラニ、アライメントマーク22やマ
ルチスリ。
It is necessary to make the pitch interval of the marks 24m and 24b exactly match the dimension obtained by multiplying the pitch interval of the alignment mark 22 by the magnification of the lens 28, which makes the adjustment of the apparatus complicated. Sarani, Alignment Mark 22 and Multisuri.

上24*、24b等の形成工程が煩雑化する等の間肪も
あった。
There were also some gaps that made the process of forming upper 24*, 24b, etc. complicated.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、スリットや反射鏡等の機械的振動に起
因する検出精度の低下を招くことなく、被検査物体上の
線状・母ターンの位置を高精度に検出することができ、
かっ−整の容易化をはか#)得る固定スリ、ト型光電顕
微鏡を提供することにある。
The purpose of the present invention is to be able to detect the position of a line or main turn on an object to be inspected with high precision without causing a decrease in detection accuracy due to mechanical vibrations of slits, reflectors, etc.
The object of the present invention is to provide a fixed slot-type photoelectron microscope that facilitates the adjustment.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明の骨子は、光電変換素子に入射する光束の変調方
法として、固定配置された一対のスリット、相互に直交
する偏光方向を有する一対の偏光器及び上記各偏光方向
にそれぞれ偏光された一対の偏光光を一定周期で交互に
発生する機構を用いることにある。
The gist of the present invention is to provide a method for modulating a light flux incident on a photoelectric conversion element, including a pair of fixedly arranged slits, a pair of polarizers having polarization directions perpendicular to each other, and a pair of polarizers polarized in each of the above polarization directions. The purpose is to use a mechanism that generates polarized light alternately at a constant period.

すなわち本発明は、被検査物体上の線状i4ターンの位
置を検出する光電、顕徹鋺において、対物レンズに関し
て上記線状ノ4ターンと共役な位置に平行配置された一
対のスリ、トと、相互に直交する偏光方向を有し上記ス
リットの前方或いは後方に配置された一対の偏光器と、
上記被検査物体上の線状パターンに上記各偏光方向にそ
れぞれ対応して偏光された一対の偏光光を一定の周期で
交互に照射する光照射機構と、この光照射機構による被
検食物体からの反射光或いは透過光を上記スリ、ト及び
偏光器を介して検出する光電変換素子と、この光電変換
素子の検出信号を上記光照射機構による一対の偏光光の
交互照射に同期して整流する同期整流回路と、この同期
整流回路の出力信号を表示する表示器とを具備してなる
ものである。
That is, the present invention provides a photoelectric detector for detecting the position of a linear i4 turn on an object to be inspected, in which a pair of slits and slits are arranged in parallel at a position conjugate with the linear i4 turn with respect to the objective lens. , a pair of polarizers having mutually orthogonal polarization directions and disposed in front or behind the slit;
A light irradiation mechanism that alternately irradiates a linear pattern on the object to be inspected with a pair of polarized lights that are polarized in accordance with each of the polarization directions at a constant cycle; a photoelectric conversion element that detects the reflected light or transmitted light of the light through the slit, the polarizer, and the polarizer, and the detection signal of this photoelectric conversion element is rectified in synchronization with the alternating irradiation of the pair of polarized lights by the light irradiation mechanism. This device includes a synchronous rectifier circuit and a display that displays the output signal of the synchronous rectifier circuit.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、スリットや反射鏡等を機械的に振動さ
せることなく、光を焚換素子に入射する光束を変調させ
ることができる。このため、機械的振動に起因する検出
精度の低下を未然に防止することができ、検出精度の大
幅な向上をはかシ得る。また、2重回折を利用するもの
ではなく、その調整が容易である吟の効果を奏する。
According to the present invention, it is possible to modulate the light flux that enters the combustion element without mechanically vibrating the slit, the reflecting mirror, or the like. Therefore, it is possible to prevent the detection accuracy from decreasing due to mechanical vibration, and it is possible to significantly improve the detection accuracy. Moreover, it does not utilize double diffraction, and has the advantage of being easy to adjust.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

第5図は本発明の一笑施例を示す概略構成図である。図
中41は透明物体のスケールであり、このスケール41
上には目盛線(線状−臂ターン)42が形成されている
。スケール41の下方には光源43、ハーフミラ−44
,45、反射鏡46.47、偏光板48.49及びチョ
ッパ5゜からなる光照射機構が設けられている。この光
照射機構では、光源43からの光がハーフミラー44を
介して偏光板48)’(照射されると共に、ハーフミラ
−44及び反射鏡46を介して偏光板49に照射される
。偏光板48.49はそれぞれの偏光方向が直交するよ
う配置されておシ、これらの偏光板48.49によシ直
交する方向に直線偏光された一対の偏光光はそれぞれチ
ヨ、パ50に照射される。チ、ツバ5oVi、例えば不
透明円板体の外周近傍を一定の間隔で一部切欠して形成
されたものであわ、とのチ、、パ60を図中C方向に回
転せしめることによシ、詑6図に示す如く前記直線偏光
された一対の偏光光P、Qが一定の周期Tで交互に0N
−OFFされる。チヨ、)々5θによし選択された偏光
光はハーフミラ−45を介して、或いは反射鏡47及び
ハーフミラ−45を介してスケール41上の目盛線42
に照射される。つまり、光照射機構によ如相互に直交す
る方向に偏光された一対の偏光光が一定の周期で交互に
、上記スケール41上の目盛m42に照射されるものと
なっている。
FIG. 5 is a schematic diagram showing a simple embodiment of the present invention. 41 in the figure is a scale of a transparent object, and this scale 41
A scale line (linear-arm turn) 42 is formed on the top. Below the scale 41 is a light source 43 and a half mirror 44.
, 45, reflecting mirrors 46, 47, polarizing plates 48, 49, and a chopper 5°. In this light irradiation mechanism, light from a light source 43 is irradiated via a half mirror 44 to a polarizing plate 48)', and is also irradiated to a polarizing plate 49 via a half mirror 44 and a reflecting mirror 46. .49 are arranged so that their respective polarization directions are perpendicular to each other, and a pair of polarized lights linearly polarized in directions orthogonal to each other by these polarizing plates 48 and 49 are irradiated onto the front and rear 50, respectively. By rotating the brim 5oVi in the direction C in the figure, the brim 5oVi is formed, for example, by cutting out part of the outer circumference of an opaque disc body at regular intervals. As shown in Figure 6, the pair of linearly polarized lights P and Q are alternately 0N with a constant period T.
-Turned off. ) The polarized light selected according to 5θ passes through the half mirror 45 or through the reflecting mirror 47 and the half mirror 45 and reaches the graduation line 42 on the scale 41.
is irradiated. In other words, a pair of polarized lights polarized in directions orthogonal to each other by the light irradiation mechanism are alternately irradiated onto the scale m42 on the scale 41 at a constant period.

スケール41の上方には対物レンズ51が配置されてお
シ、この対物レンズ51によりスケール41上の目盛線
42の像がハーフミラ−52を介して焦点鏡53及びス
リット板54上に結像される。そして、焦点鏡53に結
像された像は接眼レンズ55によ如肉眼で検出されるも
のとなっている。スリット板54は一対の平行配置され
たスリット54&、54bを設けられたもので、このス
リ、ト板54の上面には相互に直交する偏光方向を有す
る一対の偏光板(偏光器)56* 、56bが被着され
ている。
An objective lens 51 is disposed above the scale 41, and the objective lens 51 forms an image of the graduation lines 42 on the scale 41 onto a focusing mirror 53 and a slit plate 54 via a half mirror 52. . The image formed on the focusing mirror 53 can be detected with the naked eye through an eyepiece lens 55. The slit plate 54 is provided with a pair of slits 54&, 54b arranged in parallel, and on the top surface of the slit plate 54, a pair of polarizing plates (polarizers) 56* having mutually orthogonal polarization directions, 56b is applied.

つまり、第7図(a)に示す如き偏光板56*、56b
と同図(b)に示す如きスリ、ト板54とが、同図(e
)に示す如く積層されている。ここで、偏光板56m 
、56bの各偏光方向り、Eは、前記光照射機構により
スケール41上の目盛線42に交互照射される光束のそ
れぞれの偏光方向と一致するよう定められている。つま
シ、前記偏光光Pをハーフミラ−45を介して得られる
偏光光P/の偏光方向と上記偏光板56mの偏光方向り
とが一致し、前記偏光光Qf反射鏡47を介して得られ
る偏光光Q′の偏光方向と上記偏光板56bの偏光方向
Eとが一致するものとなっている。これにより、偏光光
P′は偏光板56bでは遮断されることになシ、偏光光
P′はスリ。
In other words, the polarizing plates 56*, 56b as shown in FIG. 7(a)
The pickpocket board 54 as shown in FIG.
) are laminated as shown. Here, the polarizing plate 56m
, 56b, and E are determined to match the respective polarization directions of the light beams alternately irradiated onto the graduation lines 42 on the scale 41 by the light irradiation mechanism. In other words, the polarization direction of the polarized light P/ obtained by passing the polarized light P through the half mirror 45 matches the polarization direction of the polarizing plate 56m, and the polarized light obtained by passing the polarized light Qf through the reflecting mirror 47. The polarization direction of the light Q' and the polarization direction E of the polarizing plate 56b are made to match. As a result, the polarized light P' is not blocked by the polarizing plate 56b, and the polarized light P' is not blocked.

ト板54のス’)vト54瓢及び偏光板56aを透過し
、焦光レンズ57によ多熱光され光電変換素子58に入
射する。同様に、偏光光Q/は偏光板5611では遮断
されることKなシ、スリ、ト板54のスリyト54b及
び偏光板56bを透過して光電変換素子58に入射する
ものとなってい石。
The light passes through the front plate 54 and the polarizing plate 56a, is heated by the focusing lens 57, and enters the photoelectric conversion element 58. Similarly, the polarized light Q/ is not blocked by the polarizing plate 5611, but passes through the slit 54b of the top plate 54 and the polarizing plate 56b, and enters the photoelectric conversion element 58. .

光電変換素子58にて検出され電気信号に変換された信
号は、プリアンプ59を介して増幅された後同期瞥流回
路60に供給される。同期整流回路60では、上記入力
した信号が前記光照射機構による一対の偏光光の交互照
射に同期して整流される。そして、この同期整流回路6
0の出力信号が、指示メータ(表示器)61によ如前記
スケール41上の目盛線42の変位として表示されるも
のとなっている。なお、図中62は前記チョッ/4’5
17に付設されチョッ/f50による偏光光P、Qの交
互照射のタイミングを検出するだめのフォトインタラプ
タであ如、このフォトインタラプタ62から前記同期整
流回路60に基準信号が与えられるものとなっている。
The signal detected by the photoelectric conversion element 58 and converted into an electric signal is amplified via a preamplifier 59 and then supplied to a synchronous current circuit 60 . In the synchronous rectification circuit 60, the input signal is rectified in synchronization with the alternating irradiation of a pair of polarized lights by the light irradiation mechanism. And this synchronous rectification circuit 6
An output signal of 0 is displayed by the indicator 61 as a displacement of the graduation line 42 on the scale 41. In addition, 62 in the figure is the above-mentioned Cho/4'5
The photointerrupter 62 is attached to the photointerrupter 17 and detects the timing of alternate irradiation of the polarized lights P and Q by f50.A reference signal is supplied from the photointerrupter 62 to the synchronous rectifier circuit 60. .

このような構成であれば、光照射機構による相互に直交
する方向に直線偏光された一対の偏光光p / 、 Q
/の交互照射、スリ、ト板54めスリvト54*−54
b及び偏光板56m、56bの作用によって、スケール
4ノ上の目盛線42からの光束(位置情報)がスリ、ト
板54のスリット54h、54bを交互に介して光電変
換素子58に入射することになる。これは、光電変換素
子58側から見ると、単一のスリットを検出原点に対応
させて機械的に振動させた場合と等測1である。しだが
って、前記第1図及び舘2図に示した光電顕微鏡と同様
にして、スケール41上の目盛線42の変位を検出でき
ることになる。
With such a configuration, a pair of polarized lights p/, Q linearly polarized in mutually orthogonal directions by the light irradiation mechanism
Alternate irradiation of /, pickpocket, to plate 54th slit vto 54*-54
b and the polarizing plates 56m and 56b, the light flux (positional information) from the graduation line 42 on the scale 4 is incident on the photoelectric conversion element 58 through the slits 54h and 54b of the top plate 54 alternately. become. When viewed from the photoelectric conversion element 58 side, this is equivalent to the case where a single slit is mechanically vibrated in correspondence with the detection origin. Therefore, the displacement of the graduation line 42 on the scale 41 can be detected in the same way as the photoelectron microscope shown in FIGS. 1 and 2.

そしてこの場合、光電変換素子58に入射する光束をf
調するのに機械的振動子を用いる必要がなく、機緘的振
動による振動中心の変動を完全に取り除くことができる
。このため、スケール4ノ上の目盛線42の位置検出を
極めて高い精度で行うことができる。本発明者等の実験
によれば、0.01[:μm〕と云う極めて高い位置検
出軸度が得られることが確認された。また、目盛線42
0幅と前記スリット54息、54bの幅及び間隔とは、
対物レンズ51の倍率によシ最適に設定する必要がある
が、2重回折をオリ用する場合のように製法上の制限も
左程厳1〜〈ないため、スリ、ト54g、54bの製作
の際の煩雑さはない。さらに、2重回折を利用するもの
に比して、その調整が極めて容易である等の利点もある
In this case, the luminous flux incident on the photoelectric conversion element 58 is f
There is no need to use a mechanical vibrator for tuning, and fluctuations in the vibration center due to mechanical vibration can be completely eliminated. Therefore, the position of the graduation line 42 on the scale 4 can be detected with extremely high accuracy. According to experiments conducted by the present inventors, it has been confirmed that an extremely high position detection axis of 0.01 [: μm] can be obtained. In addition, the scale line 42
0 width and the width and spacing of the slits 54 and 54b are:
It is necessary to optimally set the magnification of the objective lens 51, but as with the case where double diffraction is used, the manufacturing method limitations are not as strict as shown on the left. There are no complications during production. Furthermore, compared to those using double diffraction, there are also advantages such as extremely easy adjustment.

第8図は他の実施例を示す概略構成図である。FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing another embodiment.

なお、第5図と同一部分には同一符号を付して、その詳
しい詳細な省略する。この実施例が先に説明した実施例
と異なる点は、前記光照射機構として電気光学変調器6
3f用いたことにある。
Note that the same parts as in FIG. 5 are given the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. This embodiment differs from the previously described embodiments in that an electro-optic modulator 6 is used as the light irradiation mechanism.
The reason is that 3f was used.

KDP (mFR2水素カリウム)等の結晶からなる電
気光学変調器は、結晶の特性によって決まる一定の電圧
を印加してbる状態と印加していない状態とでは、透過
した光の偏光状態が異なる。
In an electro-optic modulator made of a crystal such as KDP (mFR2 potassium hydrogen), the polarization state of transmitted light differs between a state in which a constant voltage determined by the characteristics of the crystal is applied and a state in which no voltage is applied.

そして、両者の偏光方向が互いに直交している偏光光を
取り出すことが可能である。このような電気光学変調器
63に第9図に示す如きデユーティ比5oc*〕の矩形
波状の交流電圧を印加することによって、互いに直交す
る偏光方向に偏光された偏光光が一定周期Tで交互に取
シ出される。そして、これらの偏光光は反射鏡64を介
して前記スケール41上の目盛線42に照射されるもの
となっている。なお、反射鏡64を介してスケール41
に照射される一対の偏光光は前記偏光板56& 、56
bの各偏光方向にそれぞれ対応するものとなっている。
Then, it is possible to extract polarized light whose polarization directions are perpendicular to each other. By applying a rectangular wave alternating current voltage with a duty ratio of 5oc* as shown in FIG. It is taken out. These polarized lights are then irradiated onto the graduation lines 42 on the scale 41 via the reflecting mirror 64. Note that the scale 41 is
A pair of polarized lights irradiated to the polarizing plates 56 & , 56
This corresponds to each polarization direction of b.

また、図中65はMTI記デユーティ比50C% 〕の
矩形状波の交流電圧を電気光学変調器63に印加するた
めのドライバを示し、さらにこのドライバ650出力電
圧は基準信号として前記同期整流回路60に与えられる
ものとなっている。
Further, 65 in the figure indicates a driver for applying a rectangular wave alternating current voltage with a duty ratio of 50C% described in the MTI to the electro-optic modulator 63, and the output voltage of this driver 650 is used as a reference signal to the synchronous rectifier circuit 60. It is to be given to

このような構成であれば、光源43、電気光学変調器6
3及び反射鏡64からなる光照射機sK、よシ、先の実
施例と同様に相互に直交する方向に偏光された一対の偏
光光を、一定周期で交互にスケール41上の目盛線42
に照射することができる。しだがって、先の実施例と同
様な効果を奏する。また、前記チョッノ950等の機械
的に回転させる部品が不要とな夛、その構成の簡略化を
はかシ得る等の利点もある。
With such a configuration, the light source 43 and the electro-optic modulator 6
As in the previous embodiment, a light irradiator sK consisting of a mirror 3 and a reflecting mirror 64 sends a pair of polarized lights polarized in mutually orthogonal directions alternately at regular intervals to the graduation line 42 on the scale 41.
can be irradiated. Therefore, the same effects as in the previous embodiment can be achieved. Further, there are also advantages such as no need for mechanically rotating parts such as the above-mentioned Chocno 950, and the structure thereof can be simplified.

なお、本発明は上述した各実施例に限定されるものでは
な・い。例えば、前記光照射機構は被検査物体の下方側
に配置されると限るものではなく、祖検査物体の上方側
に配置し光照射機構を反射照明糸として用いることが可
能である。
It should be noted that the present invention is not limited to the embodiments described above. For example, the light irradiation mechanism is not limited to being placed below the object to be inspected, but may be placed above the original inspection object and the light irradiation mechanism may be used as a reflective illumination thread.

また、光照射機構として、磁界の印加によシ偏光方向を
変える磁気光学変調器を用いることが可能である。さら
に、前記一対の偏光光を辿択する手段としては、前記チ
1.パ、電気光学変調器及び磁気光学変調器等に限定さ
れるものではなく、一対の一光光に対応する2つの光源
(半導体発行系子)を用い、これらの光源を交互に点灯
するようにしてもよい。また、前記偏光器としては偏光
板の代シに偏光プリズム、その他自然光を直線偏光に変
える素子であれば用いてもよい。要するに本発明は、そ
の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施すること
ができる。
Further, as the light irradiation mechanism, it is possible to use a magneto-optic modulator that changes the polarization direction by applying a magnetic field. Further, as means for tracing the pair of polarized lights, The present invention is not limited to optical modulators, electro-optic modulators, magneto-optic modulators, etc., but uses two light sources (semiconductor light source) corresponding to a pair of single light beams, and these light sources are turned on alternately. It's okay. Further, as the polarizer, a polarizing prism or any other element that converts natural light into linearly polarized light may be used instead of a polarizing plate. In short, the present invention can be implemented with various modifications without departing from the gist thereof.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

tipJ1図及び第2図はそれぞれ従来の光電顕微鏡を
示す概略構成図、第3図に上記−i亀顕微鋭における変
位−出力電圧特性を示す模式図、第4図は従来のンライ
メント信号検出装置を示す概略構成図、第5図は本発明
の一実施例に係わる固定スリット型光%顕微鏡を示す概
略本成図、第6図は上記実施例における照明用偏光光の
時間的変化を示す信号波形図、第7図(a)〜(c)は
上記実施例に使用されカスリット及び偏光板を示す平面
図、第8図は他の実施例を示す概略構成図、第9図は上
記他の実施例に使用した電気光学変調器へ印加する抽圧
信号を示す信号波形図である。 41・・・スケール(被検査物体)、42・・・目盛線
(線状)平ターン)、43・・・光源、44.46・・
・ハーフミラ−145,47,64・・・反射鏡、48
.49・・・偏光板、50・・・チョッパ、5ノ・・・
対物レンズ、54・・・スリ、ト板、54h、54b・
・・スリット、56m、56b・・・偏光板(偏光器)
、57・・・焦光レンズ、58・・・光電替換素子、6
0・・・同期整流回路、61・・・指示メータ(表示器
)、62・・・フォトインタラプタ、63・・・電気光
学変調器、65・・・ドライバ。 出願人代理人  弁理士 鈴 江 武 彦第1図 第2図
FIG. 1 and FIG. 2 are schematic diagrams showing a conventional photoelectron microscope, respectively. FIG. 3 is a schematic diagram showing the displacement-output voltage characteristics of the above-mentioned -i turtle microscope, and FIG. 4 is a diagram showing a conventional alignment signal detection device. 5 is a schematic diagram showing a fixed slit optical microscope according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a signal waveform showing temporal changes in polarized illumination light in the above embodiment. 7(a) to (c) are plan views showing the caslit and polarizing plate used in the above embodiment, FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing another embodiment, and FIG. 9 is a plan view showing the other embodiment. FIG. 3 is a signal waveform diagram showing a extraction signal applied to an electro-optic modulator used in an example. 41...Scale (object to be inspected), 42...Graduation line (linear, flat turn), 43...Light source, 44.46...
・Half mirror 145, 47, 64...Reflector, 48
.. 49...Polarizing plate, 50...Chopper, 5...
Objective lens, 54... pickpocket, top plate, 54h, 54b.
...Slit, 56m, 56b...Polarizing plate (polarizer)
, 57... Focusing lens, 58... Photoelectric conversion element, 6
0...Synchronous rectifier circuit, 61...Indication meter (indicator), 62...Photointerrupter, 63...Electro-optic modulator, 65...Driver. Applicant's representative Patent attorney Takehiko Suzue Figure 1 Figure 2

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)対物レンズに関して被検査物体上の線状ツクター
ンと共投な位置に平行配負された一対のスリットと、相
互に直交する偏光方向を有し上記スリ、トの前方或いは
後方忙それぞれ配置された一対の偏光器と、前記被検査
物体の線状ノ9ターンに上記偏光器の各偏光方向にそれ
ぞれ対応して偏光された偏光光を一定の周期で交互に照
射する光照射機構と、この光照射機構による前記被検査
物体からの反射光或いは透過光を前記スリット及び偏光
器を介して検出する光電変換素子と、この光電変換素子
の検出信号を前記光照射機構による一対の偏光光の交互
照射に同期して整流する同期整流回路と、この同期整流
回路の出力信号を表示する表示器とを具備してなること
を特徴とする固定スリ、ト型光電崩微鏡。
(1) With respect to the objective lens, a pair of slits are arranged parallel to each other in the same position as the linear projection on the object to be inspected, and the slits have mutually orthogonal polarization directions, and are arranged in front or behind the slits, respectively. a pair of polarizers, and a light irradiation mechanism that alternately irradiates nine linear turns of the object to be inspected with polarized light that is polarized in accordance with each polarization direction of the polarizer at a constant cycle; A photoelectric conversion element that detects reflected light or transmitted light from the object to be inspected by the light irradiation mechanism via the slit and a polarizer; A fixed slot, G-type photoelectric collapsing microscope characterized by comprising a synchronous rectifier circuit that rectifies in synchronization with alternating irradiation, and a display that displays an output signal of the synchronous rectifier circuit.
(2)  前記光照射機構は、光源からの光を相互に直
交する方向に偏光する一対の偏光器、これらの偏光器を
介して得られる偏光光をチW、ピングするチョッノ!及
びこのチ、、パによシ選択された偏光光を前記被検査物
体の線状ノ母ターンに照射する光学系からなるものであ
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の固定ス
リット型元電、#b4微鏡。
(2) The light irradiation mechanism includes a pair of polarizers that polarize light from a light source in mutually orthogonal directions, and a polarizer that polarizes the polarized light obtained through these polarizers. The fixing device according to claim 1, further comprising an optical system that irradiates the linear main turn of the object to be inspected with selected polarized light. Slit type generator, #b4 micromirror.
(3)  前記光照射機構は、電界印加により光源から
の光を交互に直交する方向に偏光する電気光学変調素子
、及びこの電気光学変調素子を介して得られる偏光光を
前記被検査物体上の線状パターンに照射する光学系から
なるものであることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の固定スリヅト型元電顕微鋭。
(3) The light irradiation mechanism includes an electro-optic modulation element that alternately polarizes light from the light source in orthogonal directions by applying an electric field, and polarized light obtained through the electro-optic modulation element onto the object to be inspected. A fixed slit type original electron microscope microaccurate according to claim 1, characterized in that it comprises an optical system that irradiates a linear pattern.
(4)  前記光照射機構は、磁界印加によ多光源から
の光を交互に直交する方向に偏光する磁気光生変1lJ
l累子、及びこの磁気光字変調素子を介して得られる偏
光光1に前記被検査物体上の線状ノ4ターンに照射する
光学系からなるものであることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の固定スリット型光電顕微鏡。
(4) The light irradiation mechanism is a magneto-optical mechanism that polarizes light from multiple light sources alternately in orthogonal directions by applying a magnetic field.
1, and an optical system that irradiates polarized light 1 obtained through the magneto-optical modulation element to four linear turns on the object to be inspected. The fixed slit photoelectron microscope according to item 1.
(5)  前記光照射機構は、交互に点灯される一対の
半導体発光素子、これらの半導体発光素子からの光をそ
れぞれ相互に直交する方向に偏光する一対の偏光器及び
これらの偏光器を介して得られる偏光光を前記被検査物
体上の線状パターンに照射する光学系からなるものであ
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の固定ス
リブ ト型元−′顕微鋭。
(5) The light irradiation mechanism includes a pair of semiconductor light emitting devices that are turned on alternately, a pair of polarizers that polarize the light from these semiconductor light emitting devices in directions perpendicular to each other, and a pair of light emitting devices that emit light through these polarizers. 2. The fixed slit mold microsharpening device according to claim 1, further comprising an optical system that irradiates the obtained polarized light onto a linear pattern on the object to be inspected.
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