JPS593239A - サンプル収容混合装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は特に軽炭化水素が注入されでいる原油であるス
パイク原油、或いは脱ガス前に抽出されたままの原油で
ある生原油のような高蒸気圧を有する月利を貯Ｒづるの
に適した新規な且つ改良されたリンプル収容混合装置に
開田る。

生原油のような材料のリーンプルを取り、次により少な
い→ノンプルの分析をするのにそれを貯蔵りる必要がし
ばしばある。この事は幾つかの問題を早覆る。バルクリ
ンプルは好ましくは常時その個有の熱気斤以十に保って
、揮発性成分の損失を避ＩＪ’　＜ｒ　Ｉノればならな
い。これは不正確な分析に導くおイれがあるからぐある
。ｆ！含により約１３．５バールの圧力が維持されな（
）ればならない。バルクサンプルの輸送又は貯蔵中その
容器から漏れがあってはならない。漏れがあると軽成分
又は単成分が優先的に損失し、従ってサンプルの代表的
１（１質を破壊する。更に、このような漏れは潜在的に
危険である。貯蔵中、生原油のような利お１は不均一性
成分に層形成する傾向があり、従って分析用にリンプル
のアリコートをとる時、これらのサンプルが真に代表的
なものである事を６′１ｆかにする必要がある。この要
求を満足づるために、バルク督ナンプルは全体的に混合
されなければならず、又混合を容易にするためリンプル
を加熱Ｊ゛る事が時々必要である。

幾つかの装置は外側ボンプループを有し、静止混合部Ｈ
を使用覆る。この事は外側死空間を有する不利がある。

他の装置はシリンダ内に収容された自動抑制手動操作混
合仕切りを有し、それはシリングの直径より断面が小ざ
く、従ってサンプルの若干の成分が接Ｗ−Ｊるかもしれ
ないシリンダ壁をぬくわない。この描造は幾つかの摺動
シールを使用し、摩耗及び漏れがおぎやすい。更に、そ
れは傷つきやすい突出シＡ７）１へを有する。

我々は今そこから漏れがおぎやすい外側ダイナミックシ
ールを所有しないサンプル室を備えたリンプル収容混合
装置であって、混合がビス１〜ンにより静止仕切りの孔
を通して内容物を押圧する事により達成されるような装
置を弁明した。

従って、本発明は下記のものを備えた筒室ハウジングを
含む１ノンプル収容混合装置、即ら（ａ　）はぼイの中
央に位置し、リーンプルがその一側から他側へ通る事が
できるように覆る少くとも一つの孔を有する固定横仕切
りと、（１））仕切りのいり゛れの側に位置して、それ
と共に二つの可変容量の流体防漏性リブ室を形成する二
つのピストンであって、付与された流体圧力に応答して
シリンダの軸に沿って運動可能のビス１〜ンと、（Ｃ）
１ナンプルを該サブ室に導入１ノ且つり゛ンプルをザブ
室から５− 取出１手段ど、（ｄ　）流体圧力をビス１〜ンの仕切り
から最も遠い側に付与する手段を備えて、それにより仕
切りに対して相並んでピストンの運動で→ノンプルを一
つのりブ室から他のサブ室へ仕切りの孔を通しで押圧し
て混合を達成するようにした装置を備えるものである。

固定横仕切りは好ましくはハウジングど一体の或いはそ
の中にｆｆ　１８２自在に設けられたブロックである。

それが者ＩＩ；（自在に設【）られる所では、好ましく
はハウジングの壁から横方向に延長する一つ又はそれ以
上のスピゴットによりハウジング内の位置に挿入され、
その場に保持される。スビゴツ１〜は一つ又は・でれ以
上の内側室を有し、サンプルが仕切りの孔を通してり゛
ブ室に注入され且つそこから取出される事ができるよう
にする。

ハウジング中、各ビスｈンのサブ室と逆側の後の空間は
各ビス１〜ンへの圧カイζｔ　’３手段に連結している
。圧力は好ましくは流体導入１］を通して空間に導入さ
れた流体によりイ」与される。流体は好ましくはガスで
ある。従ってガス状クッションが各６− ビス１〜ンの後に備えられる。各ビス１〜ンの後の空間
は又減圧弁に接続し、ガス導入口が一つのピストンの斤
縮行程で開放すると、関係減圧弁が閉じられ、ピストン
がその収縮行程にある時、関係カス導入口は閉じられる
が、減圧弁は開放しているようにづる。ハウジング中、
温度変化のため形成される過度の圧力を防ぐのに十分以
上の逃し空間がある。従ってガス圧が各ビス１〜ンに交
Ｈに与えられると、対のビス１ヘンがｆｉｔ後の活動を
ひき起し、その間にサンプルを保持する。ビス１〜ンの
摺動運動によりり゛ンプルが一つのサブ室から他のサブ
室へ什切りの孔を通して押圧され、それにＪ：ってリブ
室に保持されたリンプルの怠速な混合を生ずるＪ、うに
しである。

好ましい実施例では、二つの相対したスピゴットを備え
、各室の壁から横に延長りる内側みぞを有し、一つはリ
ンプル導入口として、他はリンプル排出口として作用す
る。スビゴッ；〜は室の壁に一体でも、或いは室の壁に
加工された穴にら台り−るユニツ１〜であるプラグとし
て挿入してもよく、各スビゴッ１〜がいずれがのり一ブ
室にサンプルを導入し及び／又はリーブ室がらサンプル
を取出す装置を収容するようになっている。中心に位置
したイ１切りはリーンプルを一つのりブ至がら他の１ノ
ブ室への通行を可能にする二つの孔を有する。これらの
孔は好ましくはスピゴットの溝と連通して、それにより
゛リンプルがサブ室へ導入され口っそこがら取出される
事ができる。

リンプル導入口は好ましくはニードル弁のような従来の
調整弁を通してサンプル源に接続している。

リンプルは好ましくはサブ室から仕切り孔を通して、当
該技術に精通する者にはよく知られているｍｃｉ及びシ
リンジ構造により取出される。隔壁／シリンジ構造の使
用により装置の外側死空間が殆ど排除される。

この実施例において、サンプル導入［］はリンプル源に
接続しており、サンプルはスピゴットのみぞを介して什
切りの孔を通り、−リブ室に流れる。

次にガス圧をピストンの一つに（ｄ与して、１ノンプル
を相対する１ノブ室に孔を通して押圧する。次に他のピ
ストンにガス圧を付与して工程を逆にし、それに３１、
ってリーンプルを第１室へ仕切りの孔を通して押圧する
。ピストンを１２回はど横移動した後、リンプルの完全
な混合と均質が達成され、シリンジを隔膜を通して排出
口に導入して、混合したサンプルを取出ず。次に取出し
たサンプルを分析する。

当該技術に精通Ｊ゛る者４Ｔらば、室壁への−っの通口
で、適当な弁を隔膜とシリンジ構造に該通口を通し−（
連結Ｊる事により、リンプル導入口及びＩＪＩ出口とし
て両方に作用できる事が明らかである。

混合の効果を改良するために、仕切りの孔はその表面が
凹凸のある、例えばねじ口型のように造形してもよい、
表面の凹凸によりサンプルが孔を通して抑圧される時、
乱流が生じ混合を助長７る。

更に、ｉナブ室の内面は好ましくはナンブルの成分がそ
の壁に付着するのを減少する材料で被覆又は裏打らされ
る。スパイク又は生源油がサンプルの場合はサブ室の壁
をボリテ１〜ラフルオロエヂレン９− （１つＴ　Ｆ　Ｅ　）のような疎水材料で裏打ちされ、
水のようなリンプルの成分が４ノブ室の壁に何着Ｊるの
を減らＪ、、このような処置により分析された→ノンプ
ルが大部分を代表する事が確かになる。

ピストン（，１好ましくは磁気性のモニターを担持づる
のが好ｔｂ＜、それによりその位置が室の外側に位置し
たセンサ又はインジケータににり決定される。ピストン
により担持されたモニターが磁気性ならば、外側センサ
又はインジケータも又好ましくは磁気性である１３リー
ンプルが導入口に入るとピストンは仕切りから１１１１
すれて移動し、それによつ外側磁気性インジケータの運
動を引起す。磁気性インジケータに適当な色、例えば通
常用に緑のような一色を１つ異常用に赤のような仙の色
を用いる事により、１ナブ室の過充填が直ちに明らかに
なる。

ピストンの位置をさぐり且つそれにＪ：つて室の充填程
度を観視する変形構造は各ビス１〜ンの後の空間に密閉
された流体の圧力を測定するものである。通常、これら
二つの圧力は常に同じであり、−１０− その価は個々の空間内の容積の圧縮の程庭を表示してい
る。

次１こ本発明を添付の図を参照して更に説明Ｊる。

図中、本装置は孔３と孔４を有し、スピゴット７と１０
により位置に保持された中心位置固定横仕切り２を備え
た筒室ハウジング１を有する。孔３はスピゴット７のみ
ぞ６を通してニードル弁２６により調節されたサンプル
導入口５に接続しており、孔４はスピゴット１０のみぞ
９を介してサンプル排出口８に接続している。二つのピ
ストン１１と１２が仕切り２の各側に設けらｈｌぞれと
共にそれぞれリブ室１３と１４を形成する。ピストンは
磁気性モニター１５を備え、ビス１〜ンの運動をモニタ
ー１５により生じたインパルスに応答りる外側磁気性ラ
ツダーインジケータ１６により検出される。各ピストン
１１と１２の後の二つの空間１７ど１８はガス導入口１
９及び２０にイれぞれ接続したガスクッションである。

各ガス導入口に個々のガス弁２１と２２が連合している
。

サンプル導入口は安全キ（７ツプ２５を備えた隔膜ボル
ダ２４内の隔膜２３により閉塞される。サンプルの整除
物を取出ずのに、４−ヤプ２５を脱し、隔膜２３を通し
て導入したシリンジ（図示せず）をスピゴットのみぞ９
に延長する。

作動において、サンプル排出口８を安全ギャップ２５で
閉塞し、生原油のリーンプルをザブ室に、サンプル導入
口５を直接原油源に連結して導入する。リーンプルをリ
ブ室に導入し且つガス導入］］を通して二つのピストン
に差動圧力を維持する事により、ピストン１２が仕切り
２から離れて移動を起す。ビス１−ン１２がハウジング
の端部に当接してその行程の終りに達した時、仙のビス
Ｉ〜ン１１が什切りから離れて移動はじめ、それによっ
て第１サブ室１４がリンプルの全分量を受入れた事を示
１゜次にサンプル導入口を閉じ、増加したガス圧力を仕
切り２から最ｚｔ３遠いピストン１２に付与し、サンプ
ルが仕切りの孔３と４を通して相対するり一ブ室１３に
流れるようにする。ビスＩ〜ン１２に（＝Ｊ与された圧
力はピストン１１が逆側のその行程の終りに５Ｉ　’Ｊ
−るまで維持される。その後ピストン１２に付与された
圧力が除去され、ビス１〜ン１１に１１勺された圧力が
それによって工程を逆にし、リーンプルが１ナシ室１４
に逆流り゛るようにする。

工程は完全な混合と均質が達成されるまでくり返される
。その後、リンプル排出［１５が先ず安全キャップ２５
を脱Ｊ事により開放され、次にシリンジ（図示せず）を
隔膜を通して導入し、分析用の１ノンプルのアリコート
を取出す。

この工程の利点はピストンの連続運動をサンプルの取出
し中停止する必要はなく、従ってり゛ンブル仙出の瞬間
まで完全な混合を確かにする。更にこの構造はハウジン
グから漏れやすい動力学的シールがなく、いったん捕集
されたサンプルが不慮に逃げる事ができないようになっ
ている。ピストンの摺動作用は又シリンダ壁が混合物、
特に油／水の混合物のどんな成分をすっかりこＪり落さ
れるようになっている。さもないと急速な液体の動きに
よりこの、Ｊ：うな成分は除去されない。ビス］〜ンを
通ってガスクッション空間に不慮の漏れがあると、不活
性ガスのサンプルが炭化水素ガスに分１３− 折され、適当な矯正がなされる。この事は異常な出来事
であるが、この構造の二重安全性を示す作用をなしてい
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は１ｊンプル収収容台装置の横断面図、第２図は
サンプル排出口構造の拡大断面図である。 １・・・筒室ハウジング、２・・・仕切り、３．４・・
・仕切りの孔、５・・・サンプル導入口、６．９・・・
スピゴツ１〜のみぞ、 ７．１０・・・スピゴット、８・・・サンプル排出口、
１１．１２・・・ピストン、１３．１４・・・ザブ室、
１９．２０・・・ガス導入口。 代理人　浅　祠　　　皓 １４−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　サンプルを収容し目っ混合Ｊる装置であって、筒
   室ハウジングを含み、はぼその中央に位置し、リンプル
   がその一側から伸側へ通る事かできるようにする少くと
   も一つの孔を有する固定横仕切りと、仕切りのいずれの
   側に位置して、それど共に二つの司変容吊の流体防漏性
   １ノブ室を形成する二つのビス１〜ンであって、伺与さ
   れた流体圧力に応答してシリンダの軸に沿って運動しう
   るピストンと、リンプルを該ザブ室に導入し１１っそこ
   から１ノンプルを取出す手段と、流体圧力をビス］・ン
   のイ１切りから最も遠い側に６１与する手段とを備え、
   それにより仕切りに対して相並んだビスｉ〜ンの運動で
   リンプルを一つのサブ室から仙のザブ室へ仕切りの孔を
   通して押圧して混合を達成するようにした装置。 ２、特許請求の範囲第１項記載の装置において、イ１切
   りがハウジング内に着脱自在に設（プられたブロックで
   ある装置。 ３、　特許請求の範囲第２項記載の装置において、仕切
   りがハウジングの壁から横方向から延長する一つ又はイ
   れ以上のスピゴットによりハウジング内の位置に挿入さ
   れ、その場に固定される装置。 １、　特許請求の範囲第１項から第３項までのいずれか
   １Ｊ口に記載の装置において、スビゴツｉ〜が内側みぞ
   を右し、リンプルを該（ノブ室に注入し且つ【こから取
   出７１’Ｊ、うにした装置。 ５、　特許２１請求の範囲第１項から第４１負までのい
   ずれか１項に記載の装置においで、各のビスＩ〜ンに圧
   力を（＋Ｉ’ｊ−！Ｊる手段がガス導入口を通して各ビ
   ス１〜ンの後の空間に導入されたガスである装置。。 ６、　特許請求の範囲第１項から第５１０までのいずれ
   か１項記載の装置において、ビスｌ〜ンの後の各空間が
   又減圧弁に接続している装置。 ７、　特許請求の範囲第１項から第６項までのいずれか
   １項に記載の装置において、サンプルを什切りの孔を通
   してザブ室から取出す手段が隔膜を含み、それを通して
   シリンジを挿入できるにうにしＩこ）侮「６゜ ８、　特許請求の範囲第１項から第７　］１’Ｊまでの
   いずれか１項に記載の装置において、サブ室の内面が疎
   水性′＋Ａ利が被覆されている装置。 ９、　特許請求の範囲第１項から第８項までのいずれか
   １項に記載の装置において、ピストンがモニターを担持
   し、それによってそのハウジング内の位置がハウジング
   の外側に位置したセンサにより決定される装置。