JPS5929210A - 光伝送結合装置の製造方法 - Google Patents
光伝送結合装置の製造方法Info
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- JPS5929210A JPS5929210A JP13877182A JP13877182A JPS5929210A JP S5929210 A JPS5929210 A JP S5929210A JP 13877182 A JP13877182 A JP 13877182A JP 13877182 A JP13877182 A JP 13877182A JP S5929210 A JPS5929210 A JP S5929210A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）発明の分野
この発明は光導波路と光ファイバ等その他の光伝送手段
とを結合する光伝送結合装置の製造方法に関する。
とを結合する光伝送結合装置の製造方法に関する。
（ロ）従来技術とその問題点
光導波路とたとえば光ファイバ等の光伝送手段を結合さ
せる方法として第１図に示すものがある。
せる方法として第１図に示すものがある。
第１図において、高分子フィルム１に、導波路２を所定
パターン（たとえば主導波路２Ｂと分岐導波路２ｂを持
つパターン）のマスクによる紫外線露光により作成し、
その光導波路２の開口面に光ファイバ５・４・５を接着
剤乙による直接結合によって外付は接続している。しか
しこのような結合方法では、■光導波路作成後に光ファ
イバを接続するため工程が２工程となシ製作に時間がか
かる。■機械的な接続であるために軸合わせの調整が困
難であシ、振動や衝撃によシ軸ずれが生じる。
パターン（たとえば主導波路２Ｂと分岐導波路２ｂを持
つパターン）のマスクによる紫外線露光により作成し、
その光導波路２の開口面に光ファイバ５・４・５を接着
剤乙による直接結合によって外付は接続している。しか
しこのような結合方法では、■光導波路作成後に光ファ
イバを接続するため工程が２工程となシ製作に時間がか
かる。■機械的な接続であるために軸合わせの調整が困
難であシ、振動や衝撃によシ軸ずれが生じる。
■先導波路と光ファイバの接続を接着剤で行なうので高
温時の軽化によシ軸ずれが生じ、接続ロスが増大する。
温時の軽化によシ軸ずれが生じ、接続ロスが増大する。
等の欠点がある。
（ハ）発明の目的
この発明の目的は、上記した従来方法の欠点を解消し、
製作が容易で結合ロスの少ない光伝送結合装置の製造方
法を提供するにある。
製作が容易で結合ロスの少ない光伝送結合装置の製造方
法を提供するにある。
に）発明の構成および効果
上記目的を達成するためにこの発明の光伝送結合装置の
製造方法は、基板上に１重合光の照射を受けると屈折率
の大となる高分子フィルム層を形成するとともに、この
高分子フィルム層に所定パターンの露光によシ光導波路
を形成する一方、この光導波路の開口端と所定距離おい
て光伝送手段（たとえば光ファイバ）を配し、先ず光導
波路および光伝送手段の両方もしくはいずれか一方よシ
Ｈｅ−Ｎｅレーザ光等の重合光を出射して前記光導波路
と前記光伝送手段間に高屈折率層を形成し。
製造方法は、基板上に１重合光の照射を受けると屈折率
の大となる高分子フィルム層を形成するとともに、この
高分子フィルム層に所定パターンの露光によシ光導波路
を形成する一方、この光導波路の開口端と所定距離おい
て光伝送手段（たとえば光ファイバ）を配し、先ず光導
波路および光伝送手段の両方もしくはいずれか一方よシ
Ｈｅ−Ｎｅレーザ光等の重合光を出射して前記光導波路
と前記光伝送手段間に高屈折率層を形成し。
次に紫外光等の定着光をこの高屈折率層に照射して安定
化して集光手段とし、光導波路と、光伝送手段と、集光
手段とよりなる光伝送結合装置を得るようにしている。
化して集光手段とし、光導波路と、光伝送手段と、集光
手段とよりなる光伝送結合装置を得るようにしている。
この発明によれば、光導波路と光伝送手段の両方からも
しくはいずれか一方から結合部に重合光を出射して高屈
折率層を得、この高屈折率層に定着光を照射することに
よシ集光手段を得、この集光手段により光導波路と光伝
送手段を結合するものであるから、従来のように面倒な
光軸合わせ等不要であり製作が容易となる。また光導波
路と光伝送手段の光軸が若干ずれていてもそのずれた状
態で両手段から出射される重合光により高屈折率層が固
定されるので、製作後の光、伝送時の光ビームの伝送も
結合損失を生じることなく行なうことができる。そのた
めラフな製作に対しても結合ロスを低減できる。その上
光導波路と集光手段と光伝送手段は定着光照射後は１体
化されるので振動・衝撃や温度変化によって光軸がずれ
ることもない。
しくはいずれか一方から結合部に重合光を出射して高屈
折率層を得、この高屈折率層に定着光を照射することに
よシ集光手段を得、この集光手段により光導波路と光伝
送手段を結合するものであるから、従来のように面倒な
光軸合わせ等不要であり製作が容易となる。また光導波
路と光伝送手段の光軸が若干ずれていてもそのずれた状
態で両手段から出射される重合光により高屈折率層が固
定されるので、製作後の光、伝送時の光ビームの伝送も
結合損失を生じることなく行なうことができる。そのた
めラフな製作に対しても結合ロスを低減できる。その上
光導波路と集光手段と光伝送手段は定着光照射後は１体
化されるので振動・衝撃や温度変化によって光軸がずれ
ることもない。
（ホ）実施例の説明
以下図面に示す実施例によりこの発明の詳細な説明する
。
。
第２図ないし第４図を参照してこの発明が光導波路とフ
ァイバの結合に実施される場合について説明する。
ァイバの結合に実施される場合について説明する。
第２図はこの発明が実施される光伝送結合装置の斜視図
である。同図において１０は誘電体基板たとえばアクリ
ル系のプラスチック基板でアシ。
である。同図において１０は誘電体基板たとえばアクリ
ル系のプラスチック基板でアシ。
この基板１０上に高分子フィルム層１１が形成されてお
シ、この高分子フィルム層１１には入力導波路１３１分
岐導波路１４・１５からなる光導波路１２が形成されて
お９この光導波路１２と入力用光ファイバ１６及び出力
用光ファイバ１７・１８が集光手段としての導波形レン
ズ１９Ｂ・１９ｂ・１９ｅによシ結合されて１体的に構
成されている。なお２０は表面コートされたクラッド層
である。
シ、この高分子フィルム層１１には入力導波路１３１分
岐導波路１４・１５からなる光導波路１２が形成されて
お９この光導波路１２と入力用光ファイバ１６及び出力
用光ファイバ１７・１８が集光手段としての導波形レン
ズ１９Ｂ・１９ｂ・１９ｅによシ結合されて１体的に構
成されている。なお２０は表面コートされたクラッド層
である。
この光＠走、結合装置は次のようにして製造される。
先ずプラスチック基板１０の上にコア径が２００（ｐ
ｍ ）の入力用光ファイバ１６および出力用光ファイバ
１７・１８を置き、ギヤスティングによリタとえばモノ
マとしてアクリルアミド、溶媒トしてエチレングリコー
ルおよび重合開始剤、定着剤等を混合した重合液を流し
表面張力によって各ファイバと１体となった厚みが２０
０〔μｍ〕の高分子フィルム層１１を形成する。
ｍ ）の入力用光ファイバ１６および出力用光ファイバ
１７・１８を置き、ギヤスティングによリタとえばモノ
マとしてアクリルアミド、溶媒トしてエチレングリコー
ルおよび重合開始剤、定着剤等を混合した重合液を流し
表面張力によって各ファイバと１体となった厚みが２０
０〔μｍ〕の高分子フィルム層１１を形成する。
次に重合開始光としてＨｅ −Ｎ ｅレーザ光を用い。
さらに光導波路１２用のパターンのガラスマスクを高分
子フィルム層１１に重ねて重合光を照射する。この重合
光が照射されることによシモノマであるアクリルアミド
は屈折率が大となシ重金光の照射された部分の屈折率ｎ
２は１周囲の非照射部の屈折率ｎ１に対しｎ２＞ｎｌと
なシこの部分が光導波路１２のコア部を形成する。
子フィルム層１１に重ねて重合光を照射する。この重合
光が照射されることによシモノマであるアクリルアミド
は屈折率が大となシ重金光の照射された部分の屈折率ｎ
２は１周囲の非照射部の屈折率ｎ１に対しｎ２＞ｎｌと
なシこの部分が光導波路１２のコア部を形成する。
この場合各党ファイバ１６・１７・１８に対する光導波
路１２の開口部は光軸を一致させるにこしたことがない
が、それほど厳密に調整する必要はない。
路１２の開口部は光軸を一致させるにこしたことがない
が、それほど厳密に調整する必要はない。
上記重合光の照射によシ光導波路１２が形成された状態
での光伝送結合装置の平面図を示すと第３図となる。図
で明らかなように光導波路１２の入力導波路１６２分岐
導波路１４・１５の各開口部２’ｌａ・２１ｂ・２１ｃ
はラッパ状に開口したテーパを持つ形状に形成する。し
かし、この開口部２１ａ・２１ｂ・２１０の角度は導波
路１２の各開口角よシも小さく設定される。
での光伝送結合装置の平面図を示すと第３図となる。図
で明らかなように光導波路１２の入力導波路１６２分岐
導波路１４・１５の各開口部２’ｌａ・２１ｂ・２１ｃ
はラッパ状に開口したテーパを持つ形状に形成する。し
かし、この開口部２１ａ・２１ｂ・２１０の角度は導波
路１２の各開口角よシも小さく設定される。
次に第４図に示すように入力用ファイバ１６に。
重合光であるＮｅ−Ｈｅレーザ光ａを入射すると。
ファイバ１６の開口角で出射した光ａは入力導波路１３
のテーパ状の開口部２１ａに入射され、開口部２１ａ内
に高屈折率層２２を形成する。さらにこの重合光ａが入
力導波路１６を経て分岐導波路１４・１５から出射する
。そして分岐導波路１４・１５のテーパ状の開口部２１
ｂ・２１ｃよシ出射する。この出射の際に開口部２１ｂ
・２１ｃ内にそれぞれ高屈折率層２３・２４を形成する
。同様に出力用光ファイバ１７・１日にも重合光ｂ・Ｃ
を入射する。やはり光フアイバ用１７・１８の開口角で
各ファイバよシ出射した重合光ｂ−ｃは分岐導波路１４
・１５のテーパ状の開口部２１ｂ・２１ｃに入射され、
開口部２１ｂ・２１ｃ内にそれぞれ高屈折率層２５・２
６ｆｆ：形成する。この折率層２６によってそれぞれ導
波形レンズ１９ｂ・１９ｃが作成される。また開口部２
１ｂ・２ｔｃのテーパによってガイドされ入射された重
合量ｂ・Ｃはそれぞれ分岐導波路１４・１５を経て入力
導波路１３に導かれ、開口部２１ａよシ出射されるため
開口部２１ａ内にも高屈折率層２７を形成する。そのた
め開口部２１ａにも上記した高屈折率層２２と高屈折率
層２７で導波形レンズ１９ａが作成される。
のテーパ状の開口部２１ａに入射され、開口部２１ａ内
に高屈折率層２２を形成する。さらにこの重合光ａが入
力導波路１６を経て分岐導波路１４・１５から出射する
。そして分岐導波路１４・１５のテーパ状の開口部２１
ｂ・２１ｃよシ出射する。この出射の際に開口部２１ｂ
・２１ｃ内にそれぞれ高屈折率層２３・２４を形成する
。同様に出力用光ファイバ１７・１日にも重合光ｂ・Ｃ
を入射する。やはり光フアイバ用１７・１８の開口角で
各ファイバよシ出射した重合光ｂ−ｃは分岐導波路１４
・１５のテーパ状の開口部２１ｂ・２１ｃに入射され、
開口部２１ｂ・２１ｃ内にそれぞれ高屈折率層２５・２
６ｆｆ：形成する。この折率層２６によってそれぞれ導
波形レンズ１９ｂ・１９ｃが作成される。また開口部２
１ｂ・２ｔｃのテーパによってガイドされ入射された重
合量ｂ・Ｃはそれぞれ分岐導波路１４・１５を経て入力
導波路１３に導かれ、開口部２１ａよシ出射されるため
開口部２１ａ内にも高屈折率層２７を形成する。そのた
め開口部２１ａにも上記した高屈折率層２２と高屈折率
層２７で導波形レンズ１９ａが作成される。
以上のようにして作成された導波形レンズ１９ａ伊１９
ｂ・１９ｅは各光ファイバ１６・１７・１８よシの重合
光と各導波路１３・１４・１５のテーパ状の開口部２１
ａ−２１ｂ・２１０よシの重合光の両方が照射される部
分でちゃ、シたがって照射される重合光の量も他の領域
に比べて大となる。
ｂ・１９ｅは各光ファイバ１６・１７・１８よシの重合
光と各導波路１３・１４・１５のテーパ状の開口部２１
ａ−２１ｂ・２１０よシの重合光の両方が照射される部
分でちゃ、シたがって照射される重合光の量も他の領域
に比べて大となる。
高分子フィルム層１１は重合光の１（（耐量が大きいほ
どその屈折率も大となるので、上記導波形レンズ１９ａ
・１９ｂ・１９ｃの屈折率ｎ３は各導波路１３・１４・
１５内の屈折率ｎ２に対してｎ３＞ｎ２となる。また光
ファイバおよび導波路のコア部は一般的にステップイン
デックス状の屈折率分布を形成しているが、ガウシアン
ビームのＨｅ−Ｎｅ レーザを用い光源との距離を短
かくすることにより、出射光モードは非定常とな、！１
ｌ１２乗分布に近い出射光強度となる。したがって上記
導波形レンズは屈折率分布がほぼ２乗分布となシ、集光
作用をなすことが理解できる。
どその屈折率も大となるので、上記導波形レンズ１９ａ
・１９ｂ・１９ｃの屈折率ｎ３は各導波路１３・１４・
１５内の屈折率ｎ２に対してｎ３＞ｎ２となる。また光
ファイバおよび導波路のコア部は一般的にステップイン
デックス状の屈折率分布を形成しているが、ガウシアン
ビームのＨｅ−Ｎｅ レーザを用い光源との距離を短
かくすることにより、出射光モードは非定常とな、！１
ｌ１２乗分布に近い出射光強度となる。したがって上記
導波形レンズは屈折率分布がほぼ２乗分布となシ、集光
作用をなすことが理解できる。
第４図に示した導波形レンズ１９ａ・１９１〕・＋９ｃ
が作成されると次に定着光である紫外光を高圧水銀灯で
゛高分子フィルム１１全体に照射し定着、安定化を行な
うことにょυ、光ファイバと先導波路の接続が完了する
。定着・安定化が完了すると先導波路１２と光ファイバ
１６・１７・１８と集光手段としての導波形レンズ１９
ａ・１９１〕・１９ｃが１体化されてなる光伝送結合装
置が完成し、以後重合光を照射しても各部は屈折率が変
化することはない。最後に導波路表面のゴミ付着、傷、
ｆ′ｒ３れ防止のため、アクＩ））し系の低屈折率樹脂
ヲ１０〜２０〔μｍ〕程度の厚さで高分子フィルム層１
１上にコートし、クラッド層としての表面コート層２゜
を形成する。
が作成されると次に定着光である紫外光を高圧水銀灯で
゛高分子フィルム１１全体に照射し定着、安定化を行な
うことにょυ、光ファイバと先導波路の接続が完了する
。定着・安定化が完了すると先導波路１２と光ファイバ
１６・１７・１８と集光手段としての導波形レンズ１９
ａ・１９１〕・１９ｃが１体化されてなる光伝送結合装
置が完成し、以後重合光を照射しても各部は屈折率が変
化することはない。最後に導波路表面のゴミ付着、傷、
ｆ′ｒ３れ防止のため、アクＩ））し系の低屈折率樹脂
ヲ１０〜２０〔μｍ〕程度の厚さで高分子フィルム層１
１上にコートし、クラッド層としての表面コート層２゜
を形成する。
以上のようにして完成された光伝送結合装置を用いて入
力光を分岐して出力させる場合を考えると入力用光ファ
イバ１６に入射された入力光は導波形レンズ１９ａで集
光されて効率よく入力導波「゛１１路１ろに入射されさ
らに分岐導波路１４・１５を経て出射されるが９分岐導
波路１４・１５から出射される際もそれぞれ導波形レン
ズ１９ｂ・１９ｃで集光されて効率よく出力用光ファイ
バ１７・１８に入射される。この場合板に製造の段階で
各光ファイバの光軸と光導波路の光軸がずれていても。
力光を分岐して出力させる場合を考えると入力用光ファ
イバ１６に入射された入力光は導波形レンズ１９ａで集
光されて効率よく入力導波「゛１１路１ろに入射されさ
らに分岐導波路１４・１５を経て出射されるが９分岐導
波路１４・１５から出射される際もそれぞれ導波形レン
ズ１９ｂ・１９ｃで集光されて効率よく出力用光ファイ
バ１７・１８に入射される。この場合板に製造の段階で
各光ファイバの光軸と光導波路の光軸がずれていても。
そのずれた状態で光ファイバと導波路から重合光を出射
し、その状態で高屈折率層を形成して導波形レンズを作
成し定着しているので、使用の段階で光ファイバより入
射光を入力した場合上記軸ずれした状態で作成されたレ
ンズをその光が通過してゆくので何ら結合ロスが生じる
ことはない。
し、その状態で高屈折率層を形成して導波形レンズを作
成し定着しているので、使用の段階で光ファイバより入
射光を入力した場合上記軸ずれした状態で作成されたレ
ンズをその光が通過してゆくので何ら結合ロスが生じる
ことはない。
なお上記実施例において光導波路としてはＹ形のすなわ
ち対称分岐導波路を例にあげて説明したが、この発明に
おいて光導波路の形状は、もちろんＹ形に限定されるも
のではなく非対称分岐導波路や分岐を持たない導波路等
種々のものに適用できる。
ち対称分岐導波路を例にあげて説明したが、この発明に
おいて光導波路の形状は、もちろんＹ形に限定されるも
のではなく非対称分岐導波路や分岐を持たない導波路等
種々のものに適用できる。
また上記実施例において光導波路はマルチモード光の伝
送を想定し、厚みおよび幅を２００〔μｍ〕としたが、
光導波路の厚みおよび幅を５〜１０〔μｍ〕とすること
によυシングルモード用にも適用できる。
送を想定し、厚みおよび幅を２００〔μｍ〕としたが、
光導波路の厚みおよび幅を５〜１０〔μｍ〕とすること
によυシングルモード用にも適用できる。
また上記実施例において高分子フィルム層を形成スるモ
ノマとしてマクリルアミドをあげたが。
ノマとしてマクリルアミドをあげたが。
これに限定されるものではなく重合によって高屈折率化
が実現できる材料であればよい。さらに高分子フィルム
母材は他の透明高分子材料たとえばポリメチルメタアク
リレート（ＰＭＡ）等を用いてもよい。
が実現できる材料であればよい。さらに高分子フィルム
母材は他の透明高分子材料たとえばポリメチルメタアク
リレート（ＰＭＡ）等を用いてもよい。
さらにまた第２図ないし第４図ではこの発明が光導波路
と光ファイバの結合に実施される場合について説明した
が、光ファイバに代えて他の光伝送手段を使用いその光
伝送手段と光導波路との結合にも、この発明を適用する
ことができる。第５図、第６図にその例を示している。
と光ファイバの結合に実施される場合について説明した
が、光ファイバに代えて他の光伝送手段を使用いその光
伝送手段と光導波路との結合にも、この発明を適用する
ことができる。第５図、第６図にその例を示している。
第５図は光導波路と光源によって１体構成される光伝送
結合装置の平面図である。同図において２８は光導波路
であシ２９は発光ダイオード等の光源である。この光導
波路２８の形成は第２図・第６図で説明したのと同様の
方法で行なわれる。
結合装置の平面図である。同図において２８は光導波路
であシ２９は発光ダイオード等の光源である。この光導
波路２８の形成は第２図・第６図で説明したのと同様の
方法で行なわれる。
そしてその先端部にはテーパ状の開口部６０を有してい
る。光源２９は開口部６０に対向して設けられ、この光
源２９よシ発せられる重合光は開口部６０のテーパによ
るガイドによシ光導波路２８に入射される。その結果、
開口部３０内に高屈折率の導波形レンズ６１が形成され
る。
る。光源２９は開口部６０に対向して設けられ、この光
源２９よシ発せられる重合光は開口部６０のテーパによ
るガイドによシ光導波路２８に入射される。その結果、
開口部３０内に高屈折率の導波形レンズ６１が形成され
る。
第６図は光導波路と受光素子によって１体構成される光
伝送結合装置の平面図である。同図において３２は光導
波路であり３３は受光素子である。
伝送結合装置の平面図である。同図において３２は光導
波路であり３３は受光素子である。
この装置の光導波路３２もやはシ第２図・第６図で説明
したのと同様の方法でなされる。また光導波路３２の先
端部にはテーパ状の開口部３４を有している。光導波路
３２に入力された重合光は開口部３４のテーパ状のガイ
ドにそって出射され受光素子３５の受光面に達するが、
これによシ開ロ部３４内に高屈折率の導波形レンズ３５
が形成される。
したのと同様の方法でなされる。また光導波路３２の先
端部にはテーパ状の開口部３４を有している。光導波路
３２に入力された重合光は開口部３４のテーパ状のガイ
ドにそって出射され受光素子３５の受光面に達するが、
これによシ開ロ部３４内に高屈折率の導波形レンズ３５
が形成される。
第１図は光ファイバと先導波路を従来方法で結合した光
伝送結合装置を示す平面図、第２図ないし第４図はこの
発明の一実施例を示す図であって第２図はこの発明の実
施によって製作された光伝送結合装置の斜視図、第３図
は基板上に光ファイバと光導波路を１体形成するまでを
説明するだめの光伝送結合装置の製作中途段階の平面図
、第４図は光ファイバと先導波路間に導波形レンズを形
成する過程を説明するための光伝送結合装置の平面図、
第５図、第６図はこの発明の他の実施例を示す光伝送結
合装置の平面図である。 １０：瞳電体基板、 １１：高分子フィルム層。 １２・２８・３２：光導波路、 １３二人力導波路、
１４・１５：分岐導波路。 １６：入力用光ファイバ、 １７・１８：出力用光７フ
イパ、 １９ａ −１９ｂ −１９０−３１−３５：
導波形レンズ１ ２１ａ−２１ｂ−２１ｃ＠３０・６４
：開口部、 ２９：光源。 ５６；受光素子。 特許出願人 立石電機株式会社代理人 弁理
士 中 村 茂 信 第１図 茅２因 蒐、５図 第４図
伝送結合装置を示す平面図、第２図ないし第４図はこの
発明の一実施例を示す図であって第２図はこの発明の実
施によって製作された光伝送結合装置の斜視図、第３図
は基板上に光ファイバと光導波路を１体形成するまでを
説明するだめの光伝送結合装置の製作中途段階の平面図
、第４図は光ファイバと先導波路間に導波形レンズを形
成する過程を説明するための光伝送結合装置の平面図、
第５図、第６図はこの発明の他の実施例を示す光伝送結
合装置の平面図である。 １０：瞳電体基板、 １１：高分子フィルム層。 １２・２８・３２：光導波路、 １３二人力導波路、
１４・１５：分岐導波路。 １６：入力用光ファイバ、 １７・１８：出力用光７フ
イパ、 １９ａ −１９ｂ −１９０−３１−３５：
導波形レンズ１ ２１ａ−２１ｂ−２１ｃ＠３０・６４
：開口部、 ２９：光源。 ５６；受光素子。 特許出願人 立石電機株式会社代理人 弁理
士 中 村 茂 信 第１図 茅２因 蒐、５図 第４図
Claims (1)
- （１）基板上に１重合光の照射を受けると屈折率の大と
なる高分子フィルム層を形成するとともに。 この高分子フィルム層に所定パターンの露光によシ光導
波路を形成する一方、この光導波路の開口端と所定距離
おいて光伝送手段を配し、前記光導波路および前記光伝
送手段の両方もしくはいずれか一方よ５Ｈｅ−Ｎｅレー
ザ光等の重合光を出射して前記先導波路と前記光伝送手
段間に高屈折率層を形成し２次に紫外光等の定着光を前
記高屈折率層に照射して前記高屈折率層を安定化させて
集光手段とし、前記光導波路と前記光伝送手段と前記集
光手段で構成される光伝送結合装置を得るようにした光
伝送結合装置の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13877182A JPS5929210A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 光伝送結合装置の製造方法 |
| US06/521,644 US4666236A (en) | 1982-08-10 | 1983-08-09 | Optical coupling device and method of producing same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13877182A JPS5929210A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 光伝送結合装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5929210A true JPS5929210A (ja) | 1984-02-16 |
Family
ID=15229808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13877182A Pending JPS5929210A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 光伝送結合装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5929210A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63301007A (ja) * | 1987-05-31 | 1988-12-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光回路基板の製造方法 |
| US4878728A (en) * | 1983-12-17 | 1989-11-07 | U.S. Philips Corporation | Multilayer integrated optical device |
| JPH11326660A (ja) * | 1998-05-15 | 1999-11-26 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 光分波器およびその製造方法 |
| JP2004503813A (ja) * | 2000-06-15 | 2004-02-05 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 封入光学素子を提供するための多光子硬化 |
| JP2005292382A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Kazuyuki Hirao | 光学素子及びその製造方法並びに光学装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5232581A (en) * | 1975-09-08 | 1977-03-11 | Takamatsu Electric Works Ltd | Switch |
| JPS54179A (en) * | 1977-06-01 | 1979-01-05 | Hitachi Ltd | Back-up system of electronic controlling apparatus |
-
1982
- 1982-08-10 JP JP13877182A patent/JPS5929210A/ja active Pending
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| JP2013109379A (ja) * | 2000-06-15 | 2013-06-06 | Three M Innovative Properties Co | 封入光学素子を提供するための光デバイスの連結方法 |
| JP2005292382A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Kazuyuki Hirao | 光学素子及びその製造方法並びに光学装置 |
| US7515803B2 (en) | 2004-03-31 | 2009-04-07 | Kazuyuki Hirao | Optical element, manufacturing method thereof, and optical device |
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