JPS5926626B2 - フムロン化合物 - Google Patents

フムロン化合物

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JPS5926626B2
JPS5926626B2 JP66876A JP66876A JPS5926626B2 JP S5926626 B2 JPS5926626 B2 JP S5926626B2 JP 66876 A JP66876 A JP 66876A JP 66876 A JP66876 A JP 66876A JP S5926626 B2 JPS5926626 B2 JP S5926626B2
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JP
Japan
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general formula
compound
hydroperoxide
mixture
formula
Prior art date
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JP66876A
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English (en)
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JPS5283628A (en
Inventor
トル−デイ・ジグ・グリユテル
ヨスト・ヴイルト
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Givaudan SA
Original Assignee
L Givaudan and Co SA
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はフムロンに関する。
本発明はフムロンは一般式: (I) (式中RはCl−6のアルキル基を表わす。
)を有する化合物である。前記一般式(I)の化合物は
一般式: (■) (式中Rは前記と同じ意味を有する。
)を有する化合物を酸化して一般式:(■) (式中Rは前記と同じ意味を有する。
)を有するハイドロパーオキサイドを得、次いで前記一
般式()のハイドロパーオキサイドを還元して前記一般
式(1)の化合物を生成して製造する。一般式(1)の
化合物は一般式:(式中Rは前記と同じ意味を有する。
)を有する公知の苦昧物質製造用の中間体であり、これ
ら一般式()の化合物は公知異性化方法によつて一般式
()の化合物に変えることができる。一般式()の化合
物は、たとえばビール醸造のような飲料工業において重
要な化合物である。
すなわち、たとえばビール醸造において麦芽汁をホツプ
と共に煮沸する間に該ホツプ中に存在するフムロン〔R
がイソブチルである化合物()〕がイソフムロン〔Rが
イソブチルである化合物()〕に変化し、それによつて
快い苦味をビールに加えるのである。該方法は前記一般
式(1)の化合物、また一般式()の化合物をも好収率
で製造することを可能ならしめるものであり、このこと
は従来においては不可能であつたのである〔リードル(
Riedl)C1−6のアルキル基の例としては上記イ
ソブチル基の他に、メチル、イソプロピル〔化合物(1
)−コフムロン〕、第二ブチル〔化合物(1)=アドフ
ムロン〕、エチル〔化合物(1)=ポストフムロン〕、
イソアミル〔化合物(1)−プレフムロン〕がある。
一般式()のハイドロパーオキサイドは新規であり、本
発明の首題である。
一般式()のハイドロパーオキサイドを生成させるため
の一般式()の化合物の酸化は元素状酸素の使用によつ
て好都合に行われる。
該方法〔すなわち一般式()の化合物の一般式()の化
合物への転換〕は塩基および非プロトン性極性溶媒の存
在において、好ましくは低温において、特にO℃以下(
たとえばO℃と−50℃との間)の温度において好都合
に行われる。
塩基としては、たとえば低級第三アルカノール(たとえ
ばカリウムt−ブチレート)から誘導されるアルカリ金
属アルコラードのような非常に強い塩基を使用すること
が好ましい。しかしアルカリ金属水酸化物(たとえば水
酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム)もまた使用する
ことができる。該塩基は過剰に、たとえば少くとも2倍
過剰に使用することが好ましい。非プロトン性極性溶媒
の性質は臨界的ではなく、実際上その選択は、比較的に
低温である本発明の実施温度よりもその凝固点が低温で
なければならないということによつてのみ限定される。
好適な非プロトン性極性溶媒の例としてはエーテル類(
たとえばテトラヒドロフラン)、ジ(低級アルコキシ)
一低級アルカン)類(たとえばジメトキシエタン)、ジ
(低級アルキル)アミンのようなアミン類(たとえばジ
メチルアミン)、ニトリル類(たとえばアセトニトリル
)、低級脂肪族カルボン酸から誘導されるN−N−ジ(
低級アルキル)アミドのようなアミド類(たとえばN−
N−ジメチルホルムアミドおよびN−N−ジメチルアセ
トアミド)およびリン酸誘導体類(たとえばヘキサメチ
ルリン酸トリアミド)などである。本方法は無水媒体中
で行うことにより一層好収率が得られるが、しかし僅少
量(すなわち数%)の水の存在は収率を実質的に妨げな
い。
ブ般式()のハイドロパーオキサイドを還元して一般式
(1)の化合物を生成するためには下記の要件を満たす
還元剤を使用するのがよい。
すなわち(1)還元剤は使用条件下において酸素により
酸化されないこと、および(2)還元剤は使用条件下に
おいて、一般式()のハイドロパーオキサイドが一般式
()または()の化合物と反応して収率を低下させるこ
とがないように該ハイドロパーオキサイドを速やかに還
元すること、である。
特に好適な還元剤としては、たとえばトリエチルホスフ
アイト、トリメチルホスフアイトまたはトリブチルホス
フアイトのようなトリ(低級アルキル)ホスフアイトで
ある。
該方法の好ましい実施態様によれば、一般式()の化合
物の酸化と、一般式()のハイドロパーオキサイドの還
元とは全く同一の操作で、該オキサイドを単離すること
なく行われる。
すなわち還元剤は本方法の頭初において上記混合物中に
全部をまたは一部を添加するのである。たとえば該還元
剤は、一般式()の化合物が消費されて、=般式()の
ハイドロバーオキサイドが該化合物から生成するとき、
該混合物に添加することができる。一般式()の化合物
の消費はたとえばクロマトグラフイ一(たとえばガスク
ロマトグラフイ一)により求めることができる。該方法
の更に好ましい実施態様によれば、アルコール(たとえ
ば低級アルカノール)を上記混合物に添加する。
好ましいアルコールとしては第二アルコールおよび特に
第三アルコールである。たとえば2−プロパノール、2
−メチル−2−ブタノールおよびt−ブタノールである
。該方法を完了するために要する時間は数分ないし数時
間(たとえば10時間)にわたつて変動することができ
る。
本方法の過程は分析的(たとえば薄層クロマトグラフイ
一により)に追跡することができる。該化合物から一般
式(1)の化合物を単離するのは、たとえば鉱酸(たと
えば希塩酸または希硫酸)で希釈した該混合物をエーテ
ルのような有機溶媒を用いて抽出するような、それ自体
公知の方法で行うことができる。
一般式(1)の化合物を続いて一般式()の化合物に異
性化する場合には、該混合物を直接にこの異性化に供す
ることができるので単離は不要である。
次の例によつて本発明を説明する。
製造例 1 デソキシコフムロン〔Rがイソプロピルである一般式(
)の化合物〕6.647、カリウムt−ブチレート5.
67、トリエチルホスフアイト3.65t.N−N−ジ
メチルホルムアミド30m1およびt−ブタノール20
m1を、スターラ一、ガス導管および温度計をそなえた
スルホン化フラスコに窒素雰囲気下添加する。
この混合物を−30℃の温度に冷却し、次いで窒素の代
りに酸素を導入する。3時間の撹拌後、デソキシコフム
ロンは薄層クロマトグラフイ一分析によつてはもう存在
しない。
次いで酸素の代りに再び窒素を導入し、該混合物に2N
一塩酸100m1を注意深く添加する。該混合物を50
0m1のジエチルエーテルで3回抽出する。一つに集め
た該ジエチルエーテル抽出液を各回250m1の氷水で
4回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで30℃
の温度で減圧濃縮する。粗製生成物8.927が得られ
、これはクロマトグラフイ一分析によればコフムロン6
.4yを含有する。副生成物としては殆んどトリエチル
ホスフエートのみより成り、これは75℃/0.01m
mHgで蒸留分離することができる。更に24例の製造
例からの最も重要なデータを次の表に示す。
製造例1はこの表にfl).1としてある。=般式()
の出発材料の量は製造例1(20m1の量である)を除
く全製造例において10ミリモルである。実施例 1−
25 製造例 26 一般式()を有するハイドロパーオキサイド(R−1−
C3H7)の製造および確認デソキシコフムロン3fを
ヘキサン700m1に溶解し、水素処理により活性化し
た活性炭上の 510%バラジウム17で処理し、−
20℃の温度で8時間にわたつて空気一酸素混合物で酸
化する。
この混合物を沢過し、沢液を高真空(0.03mmHg
)下において、最高−20℃の温度で約50m1に濃縮
する。ペンタン/エーテル(1:1)1の混合溶媒を使
用し、シリカゲル〔メタノール/濃塩酸(9二1)の混
液により予備洗浄する〕上、一18℃の温度でこの溶液
をクロマトグラフイ一にかける。最初にデソキシコフム
ロン、次いでコフムロン、最後に一般式()のハイドロ
パーオキ lサイドを溶離する。薄層クロマトグラム〔
ガラス上のシリカゲルはメタノール/濃塩酸(9:1)
の混液で洗浄したもの、溶離剤はヘキサン/エ一※?テ
ル(1:1)+1%(V/V)氷酢酸〕からのそれぞれ
の画分は次の結果を示す。一般式()のハイドロパーオ
キサイドを含有する画分を集めて、−20℃の温度で真
空蒸発させ、残留物を第2のアセトン中に捕集する。
この溶液のNMRスペクトル〔60MH7.;−20℃
;内部標準としてTMS(テトラメチルシラン)〕から
、コフムロンとの対照における化学シフトについて次の
データが得られる。製造例 27 製造例26により製造した一般式()のハイドロパーオ
キサイドの溶液を−20℃の湿度で高真空下において蒸
発させる。
残留物をベンゼン10m1中に捕集する。この溶液1m
1づつをそれぞれ次の試薬:と共に振とうする。
それぞれの場合においてブ般式()のハイドロパーオキ
サイドが実際上定量的にコフムロンに還元されることを
、ベンゼン溶液の薄層クロマトグラフイ一によつて示す
ことができる。
前記(c)の場合においては元素状ヨードの生成もまた
確認することができる。製造例 28 出発原料としてデソキシフムロン〔Rがイソブチルであ
る一般式()の化合物〕を使用して製造例26に記載の
方法を反復する。
生成する一般式()のハィドロパーオキサイド(R=イ
ソブチル)は紫色のFeCl3反応を示し、次の質量分
析データを示す。このハイドロパーオキサイド(R=イ
ソブチル)をベンゼン中においてジメチルスルフイドに
より還元することによつて、一般式(1)のフムロン(
R−イソブチル)が得られる。
製造例 29 デソキシメチルフムロン〔R−メチルである一般式()
の化合物〕を使用して製造例26に記載の方法を反復す
る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I )(式中Rは
    C_1_−_6のアルキル基を表わす。 )を有するハイドロパーオキサイド化合物。2 Rがメ
    チル基である、特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3 Rがイソプロピル基である、特許請求の範囲第1項
    記載の化合物。 4 Rがイソブチル基である、特許請求の範囲第1項記
    載の化合物。
JP66876A 1976-01-01 1976-01-01 フムロン化合物 Expired JPS5926626B2 (ja)

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JP66876A JPS5926626B2 (ja) 1976-01-01 1976-01-01 フムロン化合物

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JPS5283628A JPS5283628A (en) 1977-07-12
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0316141B2 (ja) * 1987-02-24 1991-03-04 Chae Yongu Kimu

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0316141B2 (ja) * 1987-02-24 1991-03-04 Chae Yongu Kimu

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JPS5283628A (en) 1977-07-12

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