JPS5924105B2 - セメント原料粉末等の仮焼装置 - Google Patents

セメント原料粉末等の仮焼装置

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JPS5924105B2
JPS5924105B2 JP7370380A JP7370380A JPS5924105B2 JP S5924105 B2 JPS5924105 B2 JP S5924105B2 JP 7370380 A JP7370380 A JP 7370380A JP 7370380 A JP7370380 A JP 7370380A JP S5924105 B2 JPS5924105 B2 JP S5924105B2
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JP
Japan
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raw material
chamber
exhaust gas
lower chamber
supply pipe
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JP7370380A
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JPS573745A (en
Inventor
悟 縄田
国男 武谷
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Ube Corp
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Ube Industries Ltd
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Publication date
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  • Furnace Details (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はセメント原料粉末等の仮焼装置に関するもの
である。
原料予熱器付ロータリキルンを改良し、その原料予熱器
とロータリキルンの間に独立した熱源を有する仮焼炉を
設け、最も多量の熱を必要とする原料の仮焼を原料予熱
器付ロータリキルンのように伝熱効率の低いロータリキ
ルンで行わないで。
伝熱効率の高い仮焼炉で行い、装置の小型化、熱量や耐
火煉瓦などの原単位並びに公害成分の発生量の低減を計
ろうとするセメント仮焼装置は広く知られており、すで
に非常に多くの発明がなされている。
またそのいくつかの装置は実用化されている。
このようなセメント仮焼装置は、仮焼炉の方式により、
各種の装置が特徴づけられており、それらの仮焼炉は利
用する気流の型式とその構造により分類することができ
る。
気流の型式としては。旋回流を利用するもの、噴流層を
利用するもの。
旋回流および噴流層を利用するものおよび流動層を利用
するものなどがある。
これらのうち、流動層を利用する仮焼炉は、原料および
燃料の滞留時間か長く、原料の仮焼率および燃料の燃焼
効率が高くなるか、圧力損失が非常に高くなる欠点があ
る。
流動層以外の気流型式の仮焼炉は、一般に、原料および
燃料の滞留時間か短く、また比較的酸素濃度の低い雰囲
気で燃料の燃焼が行われるので。
原料および燃料が充分に仮焼あるいは燃焼しないうちに
排出されることが多い。
そうすると原料の仮焼率が低下するのみならず、燃料は
仮焼炉で完全燃焼せず1分離サイクロン、原料予熱器の
最下段サイクロンまたはそれより上段のサイクロンある
いはサイクロン間のダクトにおいて燃料の2次燃焼が起
り、それらの個所におけるコーチングトラブルや、原料
予熱器排出ガス温度を上昇させ、セメント仮焼装置全体
の熱消費量を増加させるなどの不都合が起る。
その熱消費量の増加が大きく、この種の仮焼炉を持つセ
メント仮焼装置の熱消費量が原料予熱器付キルンより高
くなることもある。
このような問題はとくに石炭など固体燃料を使用する場
合、とくに重大なものとなり、固体燃料の使用がほとん
ど不可能となることが多い。
それは固体燃料の燃焼時間が液体燃料より長いからであ
る。
この発明は、上記に示した従来技術の欠点を改良したセ
メント原料粉末等の仮焼装置に関するもので、仮焼炉を
、それぞれ円筒形1円管形および円筒形と円錐形を組合
せた形状ないしは円筒形のみの形状の上部室、中間室お
よび下部室に構成する。
そして、ロータリキルンの排熱ガスの主流を旋回流とし
て下部室底部側壁より水平に導入し、また、ロータリキ
ルンの排熱ガスの1部を主流より分岐させて噴流として
下部室下部より垂直上方に供給する。
また、クリンカクーラより抽気した燃焼用空気を旋回流
として中間室の両側より下部室の上部に供給し、燃料の
燃焼を行わせる。
また、原料予熱器より排出された仮焼すべき原料流を仮
焼に多くの熱量を要する粗粒と仮焼しやすい比表面積の
多い細粒の二つに分岐して細粒群を中間室の天井へ、粗
粒群を下部室下部に連結するキルン排ガス供給管に導入
させることにより。
細粒については上部室の燃料による燃焼熱によりできる
だけ短い時間に、しかも完全燃焼させ、粗粒については
上部室に達するまでにキルン排ガス顕熱により充分に予
熱させた後、さらに上部室において仮焼反応を、燃料の
燃焼とともに充分に行わせ、液体燃料を使用した場合は
もちろん固体燃料を使用した場合においても、仮焼炉に
おいて燃料が完全燃焼し、仮焼炉以降のいわゆるあと燃
え現象がなく、シたがって原料予熱器におけるコーチン
グトラブルなどがなく、セメント仮焼装置より排出され
るガス温度を低下させ、セメント仮焼装置全体の熱消費
量を充分低いものとし、原料の仮焼をは(現金に行わせ
ることのできるセメント仮焼装置を提供しようとするも
のである。
つぎに、この発明のセメント原料粉末等の仮焼装置を含
むセメント焼成装置についての実施例を図面により説明
する。
第1図はセメント焼成装置の実施例の概略図、第2図は
この発明のセメント原料粉末等の仮焼炉の拡大図である
図中1は排風機、2は原料予熱器、3は仮焼炉、4は分
離サイクロン、7はロータリキルン、11はクリンカク
ーラである。
原料予熱器2は複数のサイクロンを組合せたものであっ
て従来より広く知られているものである。
2aは上段サイクロン、2bは中段サイクロン。
2cは下段サイクロン、13a、13b、13cは排ガ
ス導管、14は原料供給管である。
仮焼炉3は第2図に示すように、上部室3a。
中間室3b、および下部室3Cより構成されており、上
部室3aは円筒形の形状、中間室3bは第3図に示すよ
うに下部室3cの上面に接線状に接続された一対の円管
形の形状、および下部室3Cは上部が円筒形、下部が逆
円錐台状の形状をしているが1円筒形のみの形状をして
おり、上部室3aと下部室3cの径はほぼ同一である。
下部室3cの下端とロークリキルン7の排熱ガス排出端
との間はキルン排熱ガス供給管9によって連結されてい
る。
下部室3cの円筒部下部側壁にはキルン排ガス供給管9
の分岐管9aが連結されている。
このキルン排ガス供給管9の分岐管9aは第4図に示す
ように下部室30本体に対して接線状に取付けられてい
る。
また、中間室3b、3bとクリンカクーラ11は第1図
に示すように燃焼用空気導入管8によって連結されてい
る。
さらに、上部室3aの上端側壁には仮焼炉排ガス導管1
0が上部室3aに対して接線状にとりつけられており、
その仮焼炉排ガス導管10は分離サイクロン4のガス入
口側に連結されている。
予熱原料供給管5は第1図および第2図に示すように、
下段サイクロン2cの下端より出て上部室3aの側面よ
り下部室3cの上部に向って上部室3a内に挿通されて
いる。
また予熱原料供給管5の分岐管5aは第1図および第2
図に示すようにキルン排ガス供給管9の分岐管9aに連
結されている。
中間室3b、3bの上端にはバーナ6aおよび6bがと
りつけられている。
そして、下部室3c内の上部において仮焼炉3のキルン
排熱ガスと燃焼用空気の渦流が形成されている部分に燃
料を斜め下方向に向けて供給しうるように、燃料供給用
のバーナ6 a s 6bを設けた。
なお、好ましくは、予熱原料供給管5より供給される原
料が前記渦流と合体する部分に燃料が供給されるように
バーナ6a 、6bを設けると良い。
この発明のセメント原料粉末等の仮焼装置を含むセメン
ト焼成装置は上記のように構成されているのでつぎのよ
うに操作することができる。
粉末セメント原料は原料予熱器2の上段サイクロン2a
と第2段サイクロン2bの間の排ガス導管13aに取付
けられた原料供給管14に導入され、上段、中段、下段
と次第に下方のサイクロンを経由して予熱される。
この原料の流れは従来のサイクロン式原料予熱器と同様
である。
原料予熱器2の下段サイクロン2Cより排出された原料
は、2分割され、一方は予熱原料供給管5を経由して仮
焼炉3の上部室3aの側面より下部室3cの上部に向っ
て投入され、他方はキルン排ガス供給管9の分岐管9a
内に投入さえ、キルン排ガスとともに下部室3C内に旋
回流入する。
上部室3aの側面より投入された原料は、燃焼用空気導
入管8より旋回流として導入される燃焼用空気により分
散され、上部室3aを、その周壁部で原料濃度を高め、
燃焼用空気とともに旋回上昇するが、その際、バーナ6
a、6bより吹込まれた燃料の燃焼熱わ直ちに吸収して
仮焼反応をほぼ終了させて上部室3aの上部に達する。
キルン排ガス供給管9の分岐管9aに供給された原料は
、ロータリキルン7より排出される排熱ガス流中に分散
され、直ちにその高温排熱ガスの熱量を吸収して、一部
仮焼され、排熱ガスを800℃近くまで低下させ排熱ガ
スとともに下部室3c内に旋回流となって導入される。
下部室3c内にキルン排熱ガスに分散して導入された原
料は、下部室3c内を旋回上昇し、中間室3bより燃焼
用空気導入管8によって旋回流として供給される燃焼用
空気によりさらに分散される。
この原料を含んだキルン排熱ガスと燃焼用空気の渦流が
形成されたところにバーナ6a、6bにより燃料の燃焼
が行われ、その燃焼熱は直ちに原料に吸収され、原料の
仮焼反応がさらに進み、原料の大半が仮焼される。
下部室3cにおいて排熱ガス中に分散された原料は直接
旋回上昇ガス流とともに上部室3aに入る。
一方、下部室3cの上部に導入された原料は。
下部室3cの下部より上昇してきた原料とともに上部室
3aの上昇旋回流中に分散され、上部室3aの上部に達
し下部室3cよりの原料と混合する。
上部室3aの下部には逆円雌伏の絞り具15を設けて下
部室3cとの通路を狭くして排熱ガスの上昇温度を速く
したので、気流と粒子との相対運動が起り、熱交換をよ
くすることができる。
この気流は上昇するにしたがい上部室3aの径が大きく
なり、その内容積が犬となるのでガスの滞留時間も長く
なり、下部室3cより流入してくる未燃の燃料があって
も上部室3a下部より供給される燃焼用空気により完全
燃焼する。
すなわち燃料は仮焼炉内で完全燃焼し、仮焼炉以後のい
わゆるあと燃え現象は起らない。
これは仮焼用燃料として液体燃料を使用した場合に限っ
たことではなく1石炭など固体燃料を使用した場合も完
全燃焼する。
固体燃料を使用する場合、上部室3aに固体燃料を供給
し、下部室3cに液体燃料を供給する方法と1画室に固
体燃料を供給する方法が考えられるが、いずれの方法も
、上部室3aでの燃焼により炉内で完全燃焼する。
仮焼炉3内でほぼ完全に仮焼された原料は排熱ガスとと
もに仮焼炉排ガス導管10を経由して分離サイクロン4
に送られる。
ここで排熱ガスと分離された仮焼ずみの原料は、原料送
入管17を経てロータリキルン7に供給され、バーナ1
2による燃料燃焼によって最後のクリンカ焼成が行われ
る。
ロータリキルン7で焼成されたクリンカはとり出され、
クリンカクーラ11で冷却され、つぎの工程へ送られる
また分離サイクロン4において原料を分離した排熱ガス
は、排ガス導管13cを経由し原料予熱器2の下段サイ
クロン2cに供給される。
その後排熱ガスは原料と熱交換しつつ、次第に上段のサ
イクロンに移り、最後に上段のサイクロン2aより排風
機1によって系外に排出される。
なお原料予熱器2内における排熱ガスの流れは公知の従
来装置と全く同様である。
この発明のセメント原料仮焼装置を含むセメント焼成装
置は、上記の実施例についての構成および操作について
の説明にもみられるように、つぎに示すような各種の効
果をあげることができる。
(1)仮焼炉3内を上昇する気流を旋回流としたので単
純上昇流よりも滞留時間を長くすることができ、熱効果
が大きい。
(2)気流を旋回流としたので粗粒が外壁側に集中し、
熱量負荷の大きい炉壁から気流による対流伝熱以外に輻
射の伝熱、熱伝導も期待でき、脱炭酸しにくい粗粒の熱
伝達を向上させることができる。
(3)原料粒子を粗粉子と細粒子とに二分することによ
り、より多くの伝熱を要する粗粉子は下部室3cの下部
より炉体内に投入し、火炎に達するまで予熱を行わせる
ことができるので、原料の仮焼程度か粒度に関係なく均
一にすることができる。
また、細粒子は火炎の形成を阻害しない程度に火炎近傍
より落下させ、火炎からの輻射熱をうけると同時、排熱
ガスの上昇旋回流と連通し。
分散状態となるので熱効率は良好となる。
(4)火炎生成域は燃焼空間を広くとって焔の安定をは
かると同時に、断面積が広いため上昇気流の速度を落し
、高熱領域での滞留時間を長くする。
また、上部室3aの下部に絞り具15を設けたので、上
昇気流の速度を変え、気流と粒子との相対運動を起こさ
せ、熱交換をよくする。
(5)下部室3cの下部よりキルン排熱ガスを一部分岐
してジェットパルスとして火炎の形成を阻害しない程度
に入れることにより、原料と気流を一層よく攪拌・混合
し、熱効率を向上させることができる。
(6)燃焼用2次空気(クリンカクーラより抽気された
燃焼用空気)を中部室3bの水平導入口より下部室3c
の上部に向って水平に導入することによってキルン排ガ
スによる含塵上昇気流と衝突させ、原料と気流の攪拌を
助長させることができると同時に下部室3cを旋回上昇
してくる気流の旋回力をここで更に増強することができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明のセメント原料粉末等の仮焼装置を含
むセメント焼成装置の実施例の概略図。 第2図はこの発明の仮焼装置の拡大図、第3図は第2図
のA−A断面図、第4図は第2図のB−B断面図である
。 1は排風機、2は原料予熱器、2a、2b。 2cはサイクロン、3は仮焼炉、3a、3b。 3cはそれぞれ仮焼炉の上部室、中間室、下部室。 4は分離サイクロン、5は予熱原料供給管、5aはその
分岐管、6a、6bは仮焼炉に設けたバーナ、7はロー
タリキルン、8は燃焼用空気導入管。 9はキルン排ガス供給管、9aはその分岐管。 10は仮焼炉排ガス導管、11はクリンカクーラ。 12はロータリキルンに設けたバーナ、13a。 13 b t 13 cは排ガス導管、14は原料供給
管、15は絞り具、17は原料送入管である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ロータリキルンと原料予熱器との間に独立した熱源
    を有する仮焼炉と分離サイクロンを設けたセメント仮焼
    装置において。 仮焼炉は円筒形の上部室と、上部室に連接された円筒形
    部を有する下部室と、下部室の上部側壁に接線状に連結
    された中間室とにより構成されており、上部室は仮焼炉
    排ガス導管によって分離サイクロンに連通し、下部室の
    下端はキルン排ガス供給管によってロータリキルン排熱
    ガス排出側に連通し、下部室の円筒部下部側壁にキルン
    排ガス供給管の分岐管を接線状に連結し、中間室は燃焼
    用空気導入管によってクリンカクーラに連通し。 原料予熱器の下段サイクロンの原料排出口に連結する予
    熱原料供給管を上部室の側面より下部室の上面に向って
    上部室に挿通し、予熱原料供給管の分岐管をキルン排ガ
    ス供給管の分岐管に連結し。 上部室の下部に逆円錐状の絞り具を設けて下部室との通
    路を下細まり状にし、かつ、下部室内の上部において仮
    焼炉のキルン排熱ガスと燃焼用空気の渦流が形成されて
    いる部分に燃料を斜め下方向に向けて供給しうるように
    、燃料供給用のバーナを仮焼炉に設けたことを特徴とす
    るセメント原料粉末等の仮焼装置。
JP7370380A 1980-06-03 1980-06-03 セメント原料粉末等の仮焼装置 Expired JPS5924105B2 (ja)

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