JPS59232936A - 大開口数石英系光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
大開口数石英系光フアイバ母材の製造方法Info
- Publication number
- JPS59232936A JPS59232936A JP10885083A JP10885083A JPS59232936A JP S59232936 A JPS59232936 A JP S59232936A JP 10885083 A JP10885083 A JP 10885083A JP 10885083 A JP10885083 A JP 10885083A JP S59232936 A JPS59232936 A JP S59232936A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- core
- deposited
- pipe
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01876—Means for heating tubes or rods during or immediately prior to deposition, e.g. electric resistance heaters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01846—Means for after-treatment or catching of worked reactant gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01861—Means for changing or stabilising the diameter or form of tubes or rods
- C03B37/01869—Collapsing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/28—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with phosphorus
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は大開口数石英系光ファイバの母材を製造する方
法に関する。
法に関する。
大開口数の光ファイバは光フアイバ相互、光ファイバと
光源との接続などにおける結合損失が小さく、もっばら
短距離の光通信、光エネルギ伝送などに用いられている
。
光源との接続などにおける結合損失が小さく、もっばら
短距離の光通信、光エネルギ伝送などに用いられている
。
大開口数の光ファイバとして現在普及しているものにコ
アがシリカ製、クラッドがプラスチック製のプラスチッ
ククラッドファイバとが、多成分ガラスファイバなどが
あり、これらは石英系光ファイバに比べ低コストとなっ
ているが、高損失であるが故、信頼性に欠ける。
アがシリカ製、クラッドがプラスチック製のプラスチッ
ククラッドファイバとが、多成分ガラスファイバなどが
あり、これらは石英系光ファイバに比べ低コストとなっ
ているが、高損失であるが故、信頼性に欠ける。
さらに石英系光ファイバにしても大開口数のものは低損
失化が実現されておらず、例えば開口数０．３９のもの
では損失が７ｄＢ／Ｋｍ、開口数０．３８のものでは損
失が５ｄＢ／ｌ１ｍとなっている。
失化が実現されておらず、例えば開口数０．３９のもの
では損失が７ｄＢ／Ｋｍ、開口数０．３８のものでは損
失が５ｄＢ／ｌ１ｍとなっている。
本発明、は上記の問題点に対処すべく石英系光ファイバ
において信頼性の高い大開口数の光ファイバが得られる
よう、゛その母材の製造方−を提供せんとするものであ
る。
において信頼性の高い大開口数の光ファイバが得られる
よう、゛その母材の製造方−を提供せんとするものであ
る。
本発明が意図している大開口数石英系光ファイバとは、
開口数が０．３０以上であってコアのガラス組成がＧｅ
ｍ□−Ｐ２Ｏ，−５４０２からなり、しかもそのコア中
におけるＰ２Ｏ，の含有量が０．７５重量％以下のもの
である。
開口数が０．３０以上であってコアのガラス組成がＧｅ
ｍ□−Ｐ２Ｏ，−５４０２からなり、しかもそのコア中
におけるＰ２Ｏ，の含有量が０．７５重量％以下のもの
である。
以下、上記光ファイバ母料の製造方法を図示の実施例に
より説明する。
より説明する。
図において、石英製のガラスパイプ１はこれの一端を原
料供給口２、他端を排気口３としているのであり、該ガ
ラスパイプ１はその両端が図示しないガラス旋盤のチャ
ックにより挾持され、回転するようになっている。
料供給口２、他端を排気口３としているのであり、該ガ
ラスパイプ１はその両端が図示しないガラス旋盤のチャ
ックにより挾持され、回転するようになっている。
さらに上記ガラスパイプ１の外部にはその外周長手方向
に沿って往復動する酸水素炎バーナなどの加熱器４が配
置されており、該ガラスパイプ１の排気口３側にも同様
の加熱器５が定置、されている。
に沿って往復動する酸水素炎バーナなどの加熱器４が配
置されており、該ガラスパイプ１の排気口３側にも同様
の加熱器５が定置、されている。
上記において内付けＣＶＤ法（ＭＣＶＤ法）゛番実二す
るとき、はじめガラスパイプ１内にはクラッド用の堆積
ガラス層６を形成する。
るとき、はじめガラスパイプ１内にはクラッド用の堆積
ガラス層６を形成する。
この際、ガラスパイプ１内にはその原料供給口２から原
料ガス、酸素ガスを供給し、同時にヘリウムも供給する
のであり、１例としてガラスパイプ１の外径が２０ｍ１
厚さが１，５咽のとき、上記各ガスの供給量は下記に例
示するような量とする。
料ガス、酸素ガスを供給し、同時にヘリウムも供給する
のであり、１例としてガラスパイプ１の外径が２０ｍ１
厚さが１，５咽のとき、上記各ガスの供給量は下記に例
示するような量とする。
５ｉＣ４４（主原料ガス） ： ４４５ＳＣＣ
ＭＳＦ６ （ドープ用原料ガス）、、 ： ０．
０５ＳＣＣＭＰＯＣ１３（ドープ用原料ガス）：
１．９ｓｃｃＭ０２ （酸素ガス） ：１６３
２ＳＣＣＭＨｅ（ヘリウム） ＝ ４００ＳＣＣＭ
上記各ガスをガラスパイプ１内に供給し、これをガラス
パイプ１の外周長手方向に往復動する加熱器４により加
熱して、そのガラスパイプ１の内周面にＰ２０５− Ｆ
−８ｉ ０２ 系のクラッド用堆積ガラス層６を形
成するのであり、かつ、このガラス堆積時、ガラスパイ
プ１の排気口３側におけるガラス堆積端部１′を加熱器
６により常時加熱する。
ＭＳＦ６ （ドープ用原料ガス）、、 ： ０．
０５ＳＣＣＭＰＯＣ１３（ドープ用原料ガス）：
１．９ｓｃｃＭ０２ （酸素ガス） ：１６３
２ＳＣＣＭＨｅ（ヘリウム） ＝ ４００ＳＣＣＭ
上記各ガスをガラスパイプ１内に供給し、これをガラス
パイプ１の外周長手方向に往復動する加熱器４により加
熱して、そのガラスパイプ１の内周面にＰ２０５− Ｆ
−８ｉ ０２ 系のクラッド用堆積ガラス層６を形
成するのであり、かつ、このガラス堆積時、ガラスパイ
プ１の排気口３側におけるガラス堆積端部１′を加熱器
６により常時加熱する。
こうしてガラスパイプ１内にクラッド用の堆積ガラス層
６を形成した後、該堆積ガラス層６の内周面にはコア用
堆積ガラス層７を形成するが、この際もガラスパイプ１
内にはその原料供給口２から原料ガス、酸素ガスを供給
すると同時にヘリウムを供給し、かつ、前記と同じくガ
ラスパイプ１を加熱器４により加熱するとともにガラス
端積端部１′を加熱器５により加熱するのであり、かく
てコア用の堆積ガラス層７を形成する。
６を形成した後、該堆積ガラス層６の内周面にはコア用
堆積ガラス層７を形成するが、この際もガラスパイプ１
内にはその原料供給口２から原料ガス、酸素ガスを供給
すると同時にヘリウムを供給し、かつ、前記と同じくガ
ラスパイプ１を加熱器４により加熱するとともにガラス
端積端部１′を加熱器５により加熱するのであり、かく
てコア用の堆積ガラス層７を形成する。
もちろんこの際形成するコア用堆積ガラス層７はＧｅＯ
２Ｐ２０！ｌ Ｓ ｉ０２系であり、しかも該ガラス
層７中におけるＰ２Ｏ５の含有量は０．７５重量％以下
とする。
２Ｐ２０！ｌ Ｓ ｉ０２系であり、しかも該ガラス
層７中におけるＰ２Ｏ５の含有量は０．７５重量％以下
とする。
こうしてコア用の堆積ガラス層７・を形成するとき、上
記の条件を満すべくガラスパイプ１丙には下記に例示の
各ガスを供給し、しかも１層あたりのガラス層厚が２６
μｍ以下となるようにして当該ガラス層７を堆積形成す
る。
記の条件を満すべくガラスパイプ１丙には下記に例示の
各ガスを供給し、しかも１層あたりのガラス層厚が２６
μｍ以下となるようにして当該ガラス層７を堆積形成す
る。
５ｉｃｔ４ （主原料ガス） ： １７
２ＳＣＣＭＰＯＣ６３（ドープ用原料ガス）：
０．４ＳＣＣＭＧｅＣ１＋Ｃドープ用原料ガス）：
Ｏ−１０−１５９ＳＣＣ（酸素ガス） ：
２０８０ＳＣＣＭＨｅ（ヘリウム） ： ４
００ＳＣＣＭ上記のようにしてガラスパイプ１内にコア
用、クラッド用の両堆積ガラス層６、了を形成した後は
、そのガラスパイプ中心に残存されている中空部を消去
するため、該ガラスパイプ１を加熱器４によりコラプス
し、このコラプス工程のときも加熱器６によりガラス堆
積端部１′を常時加熱する。
２ＳＣＣＭＰＯＣ６３（ドープ用原料ガス）：
０．４ＳＣＣＭＧｅＣ１＋Ｃドープ用原料ガス）：
Ｏ−１０−１５９ＳＣＣ（酸素ガス） ：
２０８０ＳＣＣＭＨｅ（ヘリウム） ： ４
００ＳＣＣＭ上記のようにしてガラスパイプ１内にコア
用、クラッド用の両堆積ガラス層６、了を形成した後は
、そのガラスパイプ中心に残存されている中空部を消去
するため、該ガラスパイプ１を加熱器４によりコラプス
し、このコラプス工程のときも加熱器６によりガラス堆
積端部１′を常時加熱する。
上記の実施例により得られた光フアイバ母材のＰ２Ｏ，
含有率は両堆積ガラス層６．７中においてはソ０．２５
重量％であった。
含有率は両堆積ガラス層６．７中においてはソ０．２５
重量％であった。
また、コア用堆積ガラス層７を形成するときの１層あた
りのガラス層厚は１６．７μｍでおったＯ さらに」１記実施例の光ファイバ母材を紡糸して外径１
２５７１ｍの光ファイバをつくり、これの外円に外径４
００μｍのシリコーン樹脂製１次被覆を施した。
りのガラス層厚は１６．７μｍでおったＯ さらに」１記実施例の光ファイバ母材を紡糸して外径１
２５７１ｍの光ファイバをつくり、これの外円に外径４
００μｍのシリコーン樹脂製１次被覆を施した。
この１次被覆光ファイバは比１屈折率差が３１２係、開
口数が０．３９であり、伝送損失も第２図に示すとと（
０，５ｄＢ／Ｋｍ の最低損失が確保できた。
口数が０．３９であり、伝送損失も第２図に示すとと（
０，５ｄＢ／Ｋｍ の最低損失が確保できた。
なお、上記の実施例では、ガラス堆積工程のときとコラ
ブス工程のとき、ガラスパイプ１の排気口３側を常時加
熱したので、両堆積ガラス層６．７にクラックが発生す
るのを防止することができだ。
ブス工程のとき、ガラスパイプ１の排気口３側を常時加
熱したので、両堆積ガラス層６．７にクラックが発生す
るのを防止することができだ。
また、コア用堆積ガラス層７の形成時、その１層あたり
のガラス層厚が実施例の１．５倍であるときは母材製造
が可能であったが、これが実施例の２倍であるとき、そ
のガラス化に高温を要し、これによりガラスパイプ１の
縮径がはげしくなって母材製造が不可能となり、また、
ガラスパイプ１内にヘリウムを共存させないときも同様
に母材製造が不可能となった。
のガラス層厚が実施例の１．５倍であるときは母材製造
が可能であったが、これが実施例の２倍であるとき、そ
のガラス化に高温を要し、これによりガラスパイプ１の
縮径がはげしくなって母材製造が不可能となり、また、
ガラスパイプ１内にヘリウムを共存させないときも同様
に母材製造が不可能となった。
さらにコア用ガラス層γ中のＰ２Ｏ，含有率が実施例の
２〜３倍であるときけこれが問題なくドープできたが、
該含有率を実施例の４倍とするものは製造できなかった
。
２〜３倍であるときけこれが問題なくドープできたが、
該含有率を実施例の４倍とするものは製造できなかった
。
なお、コア用堆積ガラス層７における好ましいＰ２Ｏ，
含有率は０．５０重量％までであり、該含有率がこの範
囲内にあれば損失がかなり小さくなる。
含有率は０．５０重量％までであり、該含有率がこの範
囲内にあれば損失がかなり小さくなる。
以上説明した通り、本発明は開口数が０７３０以」二、
コアのガラス組成がＧ ｅ ０２−Ｐ２０５−８ｉｃｋ
、からなる石英系光ファイバの母材を内付けＣＶＤ法に
より製造する方法において、ガラスパイプ内に原料ガス
、酸素ガスを供給してその原料ガスをガラスパイプ外部
からの加熱によりガラス化するとともに当該ガラスを上
記ガラスパイプの内周面に多層状に堆積させる工程のと
き、ガラスパイプ内には不活性ガスを共存させ、このガ
ラス堆積工程においてコア用の堆積ガラス層を形成する
ときは１層あたりのガラス層厚が２６ ｐｍ以下となる
ようにして順次ガラス層を堆積するとともに当該コア用
堆積ガララプス工程のとき、ガラスパイプの排気口側に
おけるガラス堆積端部を常時加熱することを特徴として
いるから、開口数０．３０以上の大開口数石英系光ファ
イバの母材が、低損失化を満足させながら容易に製造で
きることとなる。
コアのガラス組成がＧ ｅ ０２−Ｐ２０５−８ｉｃｋ
、からなる石英系光ファイバの母材を内付けＣＶＤ法に
より製造する方法において、ガラスパイプ内に原料ガス
、酸素ガスを供給してその原料ガスをガラスパイプ外部
からの加熱によりガラス化するとともに当該ガラスを上
記ガラスパイプの内周面に多層状に堆積させる工程のと
き、ガラスパイプ内には不活性ガスを共存させ、このガ
ラス堆積工程においてコア用の堆積ガラス層を形成する
ときは１層あたりのガラス層厚が２６ ｐｍ以下となる
ようにして順次ガラス層を堆積するとともに当該コア用
堆積ガララプス工程のとき、ガラスパイプの排気口側に
おけるガラス堆積端部を常時加熱することを特徴として
いるから、開口数０．３０以上の大開口数石英系光ファ
イバの母材が、低損失化を満足させながら容易に製造で
きることとなる。
第１図は本発明方法の１実施例を示す断面説明図、第２
図は大開口数石英系光コアイノ（の各波長に対する損失
特性図である。 １・拳φ・・ガラスパイプ。 ２・・・・・原料供給口 ３・・・・・排気口 ４．５・・・・−加熱器 ６・・・・・クラッド用の堆積ガラス層７・・・・・コ
ア用の堆積ガラス層 第２図 数表（／ｌＬ町
図は大開口数石英系光コアイノ（の各波長に対する損失
特性図である。 １・拳φ・・ガラスパイプ。 ２・・・・・原料供給口 ３・・・・・排気口 ４．５・・・・−加熱器 ６・・・・・クラッド用の堆積ガラス層７・・・・・コ
ア用の堆積ガラス層 第２図 数表（／ｌＬ町
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 開口数が０．３０以上、コアのガラス組成がＧ ｅ ０
２−Ｐ２０５−８ ｉ０２ からなる石英系光ファイバ
の母材を内付けＣＶＤ法によシ製造する方法において、
ガラスパイプ内に原料ガス、酸素ガスを供給してその原
料ガスをガラスパイプ外部からの加熱によりガラス化す
るとともに当該ガラスを上記ガラスパイプの内周面に多
層状に堆積させる工程のとき、ガラスパイプ内には不活
性ガスを共存させ、このガラス堆積工程においてコア用
の堆積ガラス層を形成するときは１層あたりのガラス層
厚が２６μｍ以下となるようにして順次ガラス層を堆積
するとともに当該コア用堆積ガラス層におけるＰ２Ｏ，
の含有率が０５７５重量％以下となるようにし、上記ガ
ラス堆積工程のとき、ならびに該ガラス堆積 １一 工程後のコラプス工程のとき、ガラスパイプの排気口側
におけるガラス堆積端部を常時加熱する大開口数石英系
光ファイバ母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10885083A JPS59232936A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 大開口数石英系光フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10885083A JPS59232936A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 大開口数石英系光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59232936A true JPS59232936A (ja) | 1984-12-27 |
Family
ID=14495172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10885083A Pending JPS59232936A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 大開口数石英系光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59232936A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016008165A (ja) * | 2014-06-26 | 2016-01-18 | 株式会社フジクラ | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法および製造装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5645866A (en) * | 1979-09-25 | 1981-04-25 | Tdk Electronics Co Ltd | Temperatureecompensating ceramic composition |
| JPS5710051A (en) * | 1980-06-17 | 1982-01-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Solar heat accumulator |
-
1983
- 1983-06-17 JP JP10885083A patent/JPS59232936A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5645866A (en) * | 1979-09-25 | 1981-04-25 | Tdk Electronics Co Ltd | Temperatureecompensating ceramic composition |
| JPS5710051A (en) * | 1980-06-17 | 1982-01-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Solar heat accumulator |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016008165A (ja) * | 2014-06-26 | 2016-01-18 | 株式会社フジクラ | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法および製造装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4230396A (en) | High bandwidth optical waveguides and method of fabrication | |
| US4229070A (en) | High bandwidth optical waveguide having B2 O3 free core and method of fabrication | |
| US3932162A (en) | Method of making glass optical waveguide | |
| US4157906A (en) | Method of drawing glass optical waveguides | |
| CA1135571A (en) | Method of forming a substantially continuous optical waveguide and article | |
| US4415230A (en) | Polarization retaining single-mode optical waveguide | |
| Schultz | Fabrication of optical waveguides by the outside vapor deposition process | |
| US4846867A (en) | Method for producing glass preform for optical fiber | |
| US4834786A (en) | Method of manufacturing a preform for asymmetrical optical fiber | |
| US4737179A (en) | Method for producing glass preform for optical fiber | |
| NO164139B (no) | Optisk polarisasjonsbevarende fiber av enkeltboelgetypen samt fremgangsmaate for fremstilling av et utgangsemne til optisk fiber. | |
| US4283213A (en) | Method of fabrication of single mode optical fibers or waveguides | |
| Blankenship et al. | The outside vapor deposition method of fabricating optical waveguide fibers | |
| US6519974B1 (en) | Method for fabricating an optical fiber by simultaneous preform fusing and fiber drawing | |
| CA1121160A (en) | Method of manufacturing optical fibers | |
| US4351658A (en) | Manufacture of optical fibers | |
| US20030101772A1 (en) | Manufacturing method for optical fiber preform | |
| JPS60141634A (ja) | 光フアイバ−用母材およびその製造方法 | |
| CN105866880A (zh) | 一种保偏光纤的制备方法 | |
| JPS61191543A (ja) | 石英系光フアイバ | |
| JPS59232936A (ja) | 大開口数石英系光フアイバ母材の製造方法 | |
| CN110937796B (zh) | 宽带多模光纤预制棒的制造方法 | |
| CN110981183B (zh) | 一种宽带多模光纤预制棒的制造方法 | |
| JP3823341B2 (ja) | 光ファイバ母材、光ファイバ及びこれらの製造方法 | |
| JP3491642B2 (ja) | 光ファイバ母材、光ファイバおよびこれらの製造方法 |