JPS59232316A - エレクトロクロミツク素子 - Google Patents
エレクトロクロミツク素子Info
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- JPS59232316A JPS59232316A JP58108081A JP10808183A JPS59232316A JP S59232316 A JPS59232316 A JP S59232316A JP 58108081 A JP58108081 A JP 58108081A JP 10808183 A JP10808183 A JP 10808183A JP S59232316 A JPS59232316 A JP S59232316A
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- JP
- Japan
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- layer
- electrochromic
- film
- coloring
- hydroxide
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
- G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/1524—Transition metal compounds
- G02F1/15245—Transition metal compounds based on iridium oxide or hydroxide
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電気化学的発消色現象、即ち、エレクトロク
ロミック現象を応用した素子を製造する際の第１エレク
トロクロミック層を、水酸化コバルトと水酸化イリジウ
ムの混合膜にしたことを特徴とする素子に関するもので
ある。
ロミック現象を応用した素子を製造する際の第１エレク
トロクロミック層を、水酸化コバルトと水酸化イリジウ
ムの混合膜にしたことを特徴とする素子に関するもので
ある。
エレクトロクロミック現象を応用した、全固体型エレク
トロクロミック素子の従来の例を、第１．２図を用いて
説明する。
トロクロミック素子の従来の例を、第１．２図を用いて
説明する。
第１．２図は全固体型エレクトロクロミック素子の一般
的な構造を示す断面図である。
的な構造を示す断面図である。
図において、１はガラス幕板、２は透明導電膜、３は陽
極側発色層であるオ第１エレクトロクロミック膚、４は
誘電体からなる絶縁層、６は陰極側発色層であるオ第２
エレクトロクロミック層、５は電極である。
極側発色層であるオ第１エレクトロクロミック膚、４は
誘電体からなる絶縁層、６は陰極側発色層であるオ第２
エレクトロクロミック層、５は電極である。
ここで、１のガラス基板は、ガラスのみではなく、プラ
スチック、アクリル等々のいわゆる無色透明であるもの
ならば良く、その位置に関しても、電極のどちら側か一
方で良いし、あるいは両側にあっても良い。２，５の電
極に関しても、どちらか一方が透明であれば良いし、両
側が透明であれば、透過型の素子が出来る。４も誘電体
のみではなく、固体電解質等の様なものでも良い。
スチック、アクリル等々のいわゆる無色透明であるもの
ならば良く、その位置に関しても、電極のどちら側か一
方で良いし、あるいは両側にあっても良い。２，５の電
極に関しても、どちらか一方が透明であれば良いし、両
側が透明であれば、透過型の素子が出来る。４も誘電体
のみではなく、固体電解質等の様なものでも良い。
透明導電膜としては、ＩＴＯ膜（酸化インジラム、Ｉｎ
１Ｏｓ＋中に酸化錫、 Ｓｎ・０２をドープしたもの）
やネサ膜等々が用いられる。
１Ｏｓ＋中に酸化錫、 Ｓｎ・０２をドープしたもの）
やネサ膜等々が用いられる。
３の陽極側発色層である第１エレクトロクロミック層は
、三酸化クロム（ＣｒｔＯｎ ） 、水酸化イリジウム
（Ｉｒ（ＯＨ）ｚ ）−水酸化工ッケ／ｌ／ （Ｎ１（
ＯＨ）ｔ）等々を用いて形成する。
、三酸化クロム（ＣｒｔＯｎ ） 、水酸化イリジウム
（Ｉｒ（ＯＨ）ｚ ）−水酸化工ッケ／ｌ／ （Ｎ１（
ＯＨ）ｔ）等々を用いて形成する。
４の誘電体からなる絶縁層は、二酸化ジルコン（Ｚｒ０
ｔ ） ｖ五酸化タンタＡ／ （’ｐａ２０ｓ ） ＋
酸化ケイ素（Ｓｉｎ、 Ｓｔｏｗ ）等々に代表される
酸化物、あるいは、フッ化リチウム（ＬｉＦ ）フッ化
マグネシウム（ＭｙＦｘ ）等々に代表されるフッ化物
が用いられる。
ｔ ） ｖ五酸化タンタＡ／ （’ｐａ２０ｓ ） ＋
酸化ケイ素（Ｓｉｎ、 Ｓｔｏｗ ）等々に代表される
酸化物、あるいは、フッ化リチウム（ＬｉＦ ）フッ化
マグネシウム（ＭｙＦｘ ）等々に代表されるフッ化物
が用いられる。
６の陰極側発色層である第２エレクトロクロミック層は
、酸化タングステン（ＷＯ２，ＷＯ８）。
、酸化タングステン（ＷＯ２，ＷＯ８）。
酸化モリブデン（Ｍｏｏｔ ｌ ＭｏＯ３） ｌ五酸化
バナジウム（Ｖ２Ｏ５）等々の物質を用いて形成する。
バナジウム（Ｖ２Ｏ５）等々の物質を用いて形成する。
この様な構造を持つ、全固体型エレクトロクロミック素
子においては、第１電極２と第２電極５の間に電圧を印
加することによシ、電気化学反応が起き着色、消色をす
る。
子においては、第１電極２と第２電極５の間に電圧を印
加することによシ、電気化学反応が起き着色、消色をす
る。
この着色機構としては、例えば、第２エレクトロクロミ
ック物質層３へのカチオンと電子のダブルインジェクシ
ョンによるブロンズ形成が一般的に言われている。この
場合、エレクトロクロミンク物質にＷＯｓを用いるなら
ば、次の（１）式で表わされる酸化還元反応が起き着色
する。
ック物質層３へのカチオンと電子のダブルインジェクシ
ョンによるブロンズ形成が一般的に言われている。この
場合、エレクトロクロミンク物質にＷＯｓを用いるなら
ば、次の（１）式で表わされる酸化還元反応が起き着色
する。
ＷＯ，＋ ｘＨ＋ ｘｅ ：ＨｘＷＯａ （１
）（１）式に従って、タングステンブロンズ）ｌｘＷＯ
ｓが形成され着色するが、ここで、印加電圧を逆転すれ
は消色状態となる。
）（１）式に従って、タングステンブロンズ）ｌｘＷＯ
ｓが形成され着色するが、ここで、印加電圧を逆転すれ
は消色状態となる。
（１）式のこの様な反応は、全固体型エレクトロクロミ
ック素子においては、素子内部の絶縁層によって、プロ
トンＨ＋が供給され着色するとされている。
ック素子においては、素子内部の絶縁層によって、プロ
トンＨ＋が供給され着色するとされている。
第１エレクトロクロミック層は、水酸化イリジウム（Ｉ
ｒ（ＯＨ）ｔ ）等の水酸化物を、反応性スパッタや陽
極酸化膜法で形成することもできるが、本発明では、反
応性高周波イオンブレーティング法を用い形成した。蒸
発材料としては、金属コバルト（Ｃｏ ） と金属イ
リジウム（Ｉｒ ） 。
ｒ（ＯＨ）ｔ ）等の水酸化物を、反応性スパッタや陽
極酸化膜法で形成することもできるが、本発明では、反
応性高周波イオンブレーティング法を用い形成した。蒸
発材料としては、金属コバルト（Ｃｏ ） と金属イ
リジウム（Ｉｒ ） 。
あるいは、それらの酸化物を用い、同時蒸着するか、コ
バルトとイリジウムの混合材を作シ蒸着することもでき
る。
バルトとイリジウムの混合材を作シ蒸着することもでき
る。
本発明による方法を実施するのに使用されるイオンブレ
ーティング装置の一例を第３図に示す。
ーティング装置の一例を第３図に示す。
図中、１０はイオンブレーティング装置の本体、１１は
拡散ポンプ、１２は電子銃（ＥＢガン）、１３は傘、１
４はＤＣバイアスを印加するＤＣバイアス源、１５は高
周波コイル（ＲＦコイル）、１６はＯ，ガスを供給する
Ｏ、ガスボンベ、１７はニードルパルプ、１９は水槽を
示す。
拡散ポンプ、１２は電子銃（ＥＢガン）、１３は傘、１
４はＤＣバイアスを印加するＤＣバイアス源、１５は高
周波コイル（ＲＦコイル）、１６はＯ，ガスを供給する
Ｏ、ガスボンベ、１７はニードルパルプ、１９は水槽を
示す。
次に、全固体型エレクトロクロミック素子を製造する本
発明方法の実施例について説明する。
発明方法の実施例について説明する。
実施例１
厚み０．８ｍｍのＣｏｒ ’ ７０５９ガラス基板ｌ
ｎｙ 上に、適当な引き出し電極部及びリード部を備えた。Ｉ
ＴＯ膜上に、蒸着材料は金属コバルトと金属イリジウム
で各々専用の電子銃を用い、反応性高周波イオンブレー
ティング方法によシ、陽極側発色層である、第２エレク
トロクロミック層を形成した。
ｎｙ 上に、適当な引き出し電極部及びリード部を備えた。Ｉ
ＴＯ膜上に、蒸着材料は金属コバルトと金属イリジウム
で各々専用の電子銃を用い、反応性高周波イオンブレー
ティング方法によシ、陽極側発色層である、第２エレク
トロクロミック層を形成した。
条件として、 Ｈ，Ｏ蒸気
を４． ＯＸ １０’ Ｔｏｒｒまで導入し、各々の蒸
着速度を１．２ 人／ｓｅｃとした。膜厚は１２００人
であった。
着速度を１．２ 人／ｓｅｃとした。膜厚は１２００人
であった。
この膜の上に、真空蒸着方法によシ、絶縁体層であるＴ
ａ２Ｏ，の層を３０００人付けた。この時の真空度は２
． Ｏｘ １０’ Ｔｏｒｒ ｙ蒸着速度は８人／ｓ
ｅ ｃ であった。さらに、これらの膜の上に、陰極発
色層である、第１エレクトロクロミック層であるＷＯ３
層を、真空蒸着方法により、４０００λ付け、第２電極
である半透明Ａｕ膜を３００人刊けた。
ａ２Ｏ，の層を３０００人付けた。この時の真空度は２
． Ｏｘ １０’ Ｔｏｒｒ ｙ蒸着速度は８人／ｓ
ｅ ｃ であった。さらに、これらの膜の上に、陰極発
色層である、第１エレクトロクロミック層であるＷＯ３
層を、真空蒸着方法により、４０００λ付け、第２電極
である半透明Ａｕ膜を３００人刊けた。
この様にして製作した、全固体型エレクトロクロミック
素子を、第１，２電極間に、２．２Ｖ印加して駆動した
ところ、着色濃度かΔＯＤで０．４に達するまでに３５
０ｍ５ｅｃであった。
素子を、第１，２電極間に、２．２Ｖ印加して駆動した
ところ、着色濃度かΔＯＤで０．４に達するまでに３５
０ｍ５ｅｃであった。
実施例２
厚み０．８ｍｍのＣｏｒｎｉｎｙ ７０５９ガラス暴板
上に、適当な引き出し電極部及びリード部を備えた。Ｉ
ＴＯ膜上に、蒸着材料は金属コバルトと金属イリジウム
で各々専用の電子銃を用い、反応性高周波イオンブレー
ティング方法により、陽極側発色層である、第２エレー
クトロクロミンク層を形成した。
上に、適当な引き出し電極部及びリード部を備えた。Ｉ
ＴＯ膜上に、蒸着材料は金属コバルトと金属イリジウム
で各々専用の電子銃を用い、反応性高周波イオンブレー
ティング方法により、陽極側発色層である、第２エレー
クトロクロミンク層を形成した。
条件として、Ｈ，Ｏ蒸気
を４． ＯＸ １０’ Ｔｏｒｒまで導入し、金属コバ
ルトの蒸着速度を１．４人／ｓ ｅ ｃとし金属イリジ
ウムの蒸着速度を０．８人／ｓｅｅとした。膜厚は１５
００人であった。
ルトの蒸着速度を１．４人／ｓ ｅ ｃとし金属イリジ
ウムの蒸着速度を０．８人／ｓｅｅとした。膜厚は１５
００人であった。
この膜の上に、真空蒸着方法により、絶縁体層であるＴ
ａｘ Ｏｓの層を３０００人付けた。この時の真空度は
２． ＯＸ １０’ Ｔｏｒｒ、蒸着速度は８人／ｓｅ
ｅ であった。さらに、これらの膜の上に、陰極発色層
である、第１エレクトロクロミック層であるＷＯｓ層を
、真空蒸着方法により、４０００λ付け、第２電極であ
る半透明Ａｕ膜を３００人付けた。
ａｘ Ｏｓの層を３０００人付けた。この時の真空度は
２． ＯＸ １０’ Ｔｏｒｒ、蒸着速度は８人／ｓｅ
ｅ であった。さらに、これらの膜の上に、陰極発色層
である、第１エレクトロクロミック層であるＷＯｓ層を
、真空蒸着方法により、４０００λ付け、第２電極であ
る半透明Ａｕ膜を３００人付けた。
この様にして製作した、全固体型エレクトロクロミック
累子を、第１，２電極間に、２．２Ｖ印加して駆動した
ところ、着色濃度が△ＯＤで０．４に達するまでに４０
０ ｍ５ｅｃであった。
累子を、第１，２電極間に、２．２Ｖ印加して駆動した
ところ、着色濃度が△ＯＤで０．４に達するまでに４０
０ ｍ５ｅｃであった。
実施例３
厚み０．８ｍｒｎのＣｏｒｎｉｎｐ ７０５９ガラス基
板上に、適当な引き出し電極部及びリード部を備えた。
板上に、適当な引き出し電極部及びリード部を備えた。
ＩＴＯ膜上に、蒸着材料にコバルト及びイリジウムの酸
化物を混合（混合比１：１）ｔ。
化物を混合（混合比１：１）ｔ。
たペレットを用い、反応性高周波イオンプＶ−テイング
方法によシ、陽極側発色層である、第２エレクトロクロ
ミック層を形成した。
方法によシ、陽極側発色層である、第２エレクトロクロ
ミック層を形成した。
条件として、■（１０蒸気
を４． ＯＸ １０’ Ｔｏｒｒまで導入し、蒸着速度
を１．２人／ｓ ｅ ｃとした。膜厚は１２００人であ
った。
を１．２人／ｓ ｅ ｃとした。膜厚は１２００人であ
った。
この膜の上に、真空蒸着方法により、絶縁体層であるＴ
ａ、０．の層を３０００人付けだ。この時の真空度は２
． ＯＸ １０’ Ｔｏｒｒ ＋蒸着速度は８人／ｓｅ
Ｑであった。さらに、これらの膜のヒに、陰極発色層で
ある、第１エレクトロクロミック層であるＷＯｓ層を、
真空蒸着方法により 、４０００λ付け、第２電極であ
る半透明Ａｕ膜を３００λ付けた。
ａ、０．の層を３０００人付けだ。この時の真空度は２
． ＯＸ １０’ Ｔｏｒｒ ＋蒸着速度は８人／ｓｅ
Ｑであった。さらに、これらの膜のヒに、陰極発色層で
ある、第１エレクトロクロミック層であるＷＯｓ層を、
真空蒸着方法により 、４０００λ付け、第２電極であ
る半透明Ａｕ膜を３００λ付けた。
この様にして製作した、全固体型エレクトロクロミック
素子を、第１，２電極間に、２．２Ｖ印加して駆動した
ところ、着色濃度が△ＯＤで０．４に達するまでに３８
０ ｍ５ｅｃであった。
素子を、第１，２電極間に、２．２Ｖ印加して駆動した
ところ、着色濃度が△ＯＤで０．４に達するまでに３８
０ ｍ５ｅｃであった。
実施例４
厚み０．８ｍｍのＣｏｒｎｉｎｙ ７０５９ガラス基板
上に適当な引き出し電極部及びリード部を備えだ、ＩＴ
Ｏ膜上に、蒸着材料にコバルト及びイリジウムの酸化物
を混合（混合比１：３）ｌ、たベレットを用い、反応性
高周波イオンブレーティング方法により、陽極側発色層
である、第２エレクトロクロミック層を形成した。
上に適当な引き出し電極部及びリード部を備えだ、ＩＴ
Ｏ膜上に、蒸着材料にコバルト及びイリジウムの酸化物
を混合（混合比１：３）ｌ、たベレットを用い、反応性
高周波イオンブレーティング方法により、陽極側発色層
である、第２エレクトロクロミック層を形成した。
条件として、Ｈ，０蒸気を３．ＯＸ １０’ Ｔｏｒｒ
。
。
０２ガスを５． Ｏｘ １０’ Ｔｏｒｒ ’Ｊで導入
し、蒸着速度を１．４ 人／ｓｅｃとした。膜厚は１２
００人であった。
し、蒸着速度を１．４ 人／ｓｅｃとした。膜厚は１２
００人であった。
この膜の上に、真空蒸着方法により、絶縁体層であるＴ
ａｘｅｓの層を３０００人付けた。この時の真空度は２
． ＯＸ １０’ Ｔｏｒｒ 、蒸着速度は８人／ｓｅ
ｃ であった。さらに、これらの膜の上に、陰極発色
層である、第１エレクトロクロミック層であるＷＯｓ層
を、真空蒸着方法により４０００人付け、第２電極であ
る半透明Ａｕ膜を３００人付けた。
ａｘｅｓの層を３０００人付けた。この時の真空度は２
． ＯＸ １０’ Ｔｏｒｒ 、蒸着速度は８人／ｓｅ
ｃ であった。さらに、これらの膜の上に、陰極発色
層である、第１エレクトロクロミック層であるＷＯｓ層
を、真空蒸着方法により４０００人付け、第２電極であ
る半透明Ａｕ膜を３００人付けた。
この様にして製作した、全固体型エレクトロクロミック
素子を、第１，２電極間に、２．２Ｖ印加して駆動した
ところ、着色濃度が△ＯＤで０．４に達するまでに３６
０ ｍ５ｅｃであった。
素子を、第１，２電極間に、２．２Ｖ印加して駆動した
ところ、着色濃度が△ＯＤで０．４に達するまでに３６
０ ｍ５ｅｃであった。
実施例５
厚み０．８ｍｍのＣｏｒｎｉｎｙ ７０５９ガラス基板
上に、適当な引き出し′区画部及びリード部を備えだ、
■ＴＯ膜上に、蒸着材料に金属コバルトと金属イリジウ
ムで各々専用の電子銃を用い、反応性高周波イオンブレ
ーティング方法により、陽極側発色層である、第２エレ
クトロクロミック層を形成した。
上に、適当な引き出し′区画部及びリード部を備えだ、
■ＴＯ膜上に、蒸着材料に金属コバルトと金属イリジウ
ムで各々専用の電子銃を用い、反応性高周波イオンブレ
ーティング方法により、陽極側発色層である、第２エレ
クトロクロミック層を形成した。
条件として、Ｈ６０蒸気
を３． ＯＸ １０−４Ｔｏｒｒ ’ｉで導入し、蒸着
速度を１．２人／ｓｅｃとした。膜厚は１００Ｏ人であ
った。
速度を１．２人／ｓｅｃとした。膜厚は１００Ｏ人であ
った。
この膜の上に、真空蒸着方法により、絶縁体層である’
ｌ’ａｌｏｓの層を３０００人付けた。この時の真空度
は２．０Ｘ１０＋Ｔｏｒｒ 、蒸着速度は８人／ｓｅｅ
であった。さらに、これらの膜の上に、第２電極である
半透明Ａｕ膜を３００人付けだ。
ｌ’ａｌｏｓの層を３０００人付けた。この時の真空度
は２．０Ｘ１０＋Ｔｏｒｒ 、蒸着速度は８人／ｓｅｅ
であった。さらに、これらの膜の上に、第２電極である
半透明Ａｕ膜を３００人付けだ。
この様にして製作した、全固体型エレクトロクロミック
素子を、第１，２電極間に、２．２Ｖ印加して駆動した
ところ、着色濃度が△ＯＤで０．３に達するまでに３５
０ｍ５ｅｃであった。
素子を、第１，２電極間に、２．２Ｖ印加して駆動した
ところ、着色濃度が△ＯＤで０．３に達するまでに３５
０ｍ５ｅｃであった。
第１図および第２図は、本発明の全固体型エレクトロク
ロミック素子の２つの例を示す断面図、第３図は本発明
に使用されるイオンブレーティング装置を示す概略図で
ある。 １：基板、 ２：第１電極、 ３：エレクトロクロミック層、 ４：絶縁層、 ５：第２電極、６：エレクトロ
クロミック層、 １０：イオンプレーティング装置本体、１１：拡散ポン
プ、 １２：電子銃（ＥＢガン）１３：傘、
１４ ： ＤＣバイアス源、１５：高周波コ
イル（ＲＦコイル） １６：０□ガスボンベ、 １７：二−ドルバルブ、１
９：水槽。 ３＼ ゛パハ゛ ６ ＼−二−丁一丁−ニーニーニー丁−丁−３ ＼・
・ パ゛・ ゛
ロミック素子の２つの例を示す断面図、第３図は本発明
に使用されるイオンブレーティング装置を示す概略図で
ある。 １：基板、 ２：第１電極、 ３：エレクトロクロミック層、 ４：絶縁層、 ５：第２電極、６：エレクトロ
クロミック層、 １０：イオンプレーティング装置本体、１１：拡散ポン
プ、 １２：電子銃（ＥＢガン）１３：傘、
１４ ： ＤＣバイアス源、１５：高周波コ
イル（ＲＦコイル） １６：０□ガスボンベ、 １７：二−ドルバルブ、１
９：水槽。 ３＼ ゛パハ゛ ６ ＼−二−丁一丁−ニーニーニー丁−丁−３ ＼・
・ パ゛・ ゛
Claims (1)
- 第１電極としての透明導電体を第１層とし、第１エレク
トロクロミック層を第２層、絶縁層を第３層、第２エレ
クトロクロミック層を第４層、第２電極を第５層とする
とき、前記第１から第５層、あるいは第１．２，３．５
層を順次積層して構成した、全固体型エレクトロクロミ
ック素子において、第１エレクトロクロミック層を水酸
化コバルトと水酸化イリジウム混合膜にしたことを特徴
とするエレクトロクロミック素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58108081A JPS59232316A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | エレクトロクロミツク素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58108081A JPS59232316A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | エレクトロクロミツク素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59232316A true JPS59232316A (ja) | 1984-12-27 |
Family
ID=14475386
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58108081A Pending JPS59232316A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | エレクトロクロミツク素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59232316A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5080471A (en) * | 1990-04-06 | 1992-01-14 | Eic Laboratories, Inc. | Electrochromic material and electro-optical device using same |
-
1983
- 1983-06-15 JP JP58108081A patent/JPS59232316A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5080471A (en) * | 1990-04-06 | 1992-01-14 | Eic Laboratories, Inc. | Electrochromic material and electro-optical device using same |
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