JPS59231431A - ロ−ドセル - Google Patents
ロ−ドセルInfo
- Publication number
- JPS59231431A JPS59231431A JP10643583A JP10643583A JPS59231431A JP S59231431 A JPS59231431 A JP S59231431A JP 10643583 A JP10643583 A JP 10643583A JP 10643583 A JP10643583 A JP 10643583A JP S59231431 A JPS59231431 A JP S59231431A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- film
- resin
- beam body
- strain gauge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L1/00—Measuring force or stress, in general
- G01L1/20—Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress
- G01L1/22—Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress using resistance strain gauges
- G01L1/2287—Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress using resistance strain gauges constructional details of the strain gauges
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measurement Of Force In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は、薄膜技術によジストレンゲージ抵抗体を形成
したロードセルに関するものである。
したロードセルに関するものである。
技術的背景およびその問題点
従来、薄膜式のロードセルにおいて、ストレンゲージ抵
抗体や補償用抵抗体の膜厚がきわめて薄いために湿度や
温度の外界の影響が太きい。たとえば、高温の環境下に
おいては酸化し易く、湿度が高くなると樹脂による絶縁
層の膨潤等によシ抵抗変化が発生し、ブリッジバランス
がくずれｆｃシ、出力電圧が変化したシするものである
。また、組立時や修理点検時にはパターン形成面に異物
が衝突しないように細心の注意をはられなければならな
いものであり、機械的にもその保護をしなければならな
いものである。
抗体や補償用抵抗体の膜厚がきわめて薄いために湿度や
温度の外界の影響が太きい。たとえば、高温の環境下に
おいては酸化し易く、湿度が高くなると樹脂による絶縁
層の膨潤等によシ抵抗変化が発生し、ブリッジバランス
がくずれｆｃシ、出力電圧が変化したシするものである
。また、組立時や修理点検時にはパターン形成面に異物
が衝突しないように細心の注意をはられなければならな
いものであり、機械的にもその保護をしなければならな
いものである。
発明の目的
本発明は、ストレンゲージ抵抗体のパターン部分を湿度
等から保護し、また、悪影響を受けることがないように
し、しかも、異物が衝突してもパターン部分に傷が付く
おそれがないロードセルを得ることを目的とする。
等から保護し、また、悪影響を受けることがないように
し、しかも、異物が衝突してもパターン部分に傷が付く
おそれがないロードセルを得ることを目的とする。
発明の概要
本発明は、ストレンゲージ抵抗体とリード部とを含むパ
ターンを薄膜技術によシ形成し、その表面に絶縁性が高
く透水性のない樹脂による薄い被膜を形成し、さらにそ
の上に柔軟性のある樹脂による厚い保護層を形成したの
で、被膜はうすいため、湿度による膨潤も少なくてスト
レンゲージ抵抗体に対する悪影響がなく、また、保護層
は厚いため外力が作用してもパターンの保護は確実であ
シ、しかも柔かいため、荷重に対する歪発生に対して影
響がないように構成したものである。
ターンを薄膜技術によシ形成し、その表面に絶縁性が高
く透水性のない樹脂による薄い被膜を形成し、さらにそ
の上に柔軟性のある樹脂による厚い保護層を形成したの
で、被膜はうすいため、湿度による膨潤も少なくてスト
レンゲージ抵抗体に対する悪影響がなく、また、保護層
は厚いため外力が作用してもパターンの保護は確実であ
シ、しかも柔かいため、荷重に対する歪発生に対して影
響がないように構成したものである。
発明の実施例
まず、角柱状のビーム体（１）が設けられ、このビーム
体（１）はたとえはステンレス制や高力アルミニウム材
などの金属弾性体よシなるものであり、たがいに連通ず
る二つの孔（２）により薄肉変形部（３）が形成されて
いる。そして、一端にはベース等の固定部に結合される
二個の取付孔（４）が形成され、他端には荷重を受ける
だめの受皿等が連結される受孔（５）が形成されている
。
体（１）はたとえはステンレス制や高力アルミニウム材
などの金属弾性体よシなるものであり、たがいに連通ず
る二つの孔（２）により薄肉変形部（３）が形成されて
いる。そして、一端にはベース等の固定部に結合される
二個の取付孔（４）が形成され、他端には荷重を受ける
だめの受皿等が連結される受孔（５）が形成されている
。
このようなビーム体（１）のパターン形成面（６）には
ポリイミド系樹脂等よりなる薄い絶縁層（７）が形成さ
れている。この絶縁層（７）の上にはＮｉＣｒＳｉ等の
電気抵抗の大きい第一の金属層（８）とＡＩ！等の電導
性のよい材料による第二の金属層（９）とが蒸着やスパ
ッタリング等によシ積層形成されている。このような金
属層（８） （９）は、フォトエツチング等の選択エツ
チングによＩ）Ｒｘ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４と表示したスト
レンクーシ抵抗体α＠、ｒＢ、ｒＢと表示したブリッジ
バランス補正抵抗α１１、ｒＢ（Ｔｌ、ｒ ｓ （Ｔ）
と表示したブリッジバランス温度補正抵抗（２）、Ｒｓ
（Ｔ）と表示した出力電圧の温度補正抵抗α３、各部を
結線するリード部α４よシなるパターンα９ｆ：形成し
ている。また、前記リード部α−の端部には、Ｖｅ”、
Ｖｅ−、Ｖｏ”、 Ｖｏ−と表示した端子部αＧが形
成されている。
ポリイミド系樹脂等よりなる薄い絶縁層（７）が形成さ
れている。この絶縁層（７）の上にはＮｉＣｒＳｉ等の
電気抵抗の大きい第一の金属層（８）とＡＩ！等の電導
性のよい材料による第二の金属層（９）とが蒸着やスパ
ッタリング等によシ積層形成されている。このような金
属層（８） （９）は、フォトエツチング等の選択エツ
チングによＩ）Ｒｘ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４と表示したスト
レンクーシ抵抗体α＠、ｒＢ、ｒＢと表示したブリッジ
バランス補正抵抗α１１、ｒＢ（Ｔｌ、ｒ ｓ （Ｔ）
と表示したブリッジバランス温度補正抵抗（２）、Ｒｓ
（Ｔ）と表示した出力電圧の温度補正抵抗α３、各部を
結線するリード部α４よシなるパターンα９ｆ：形成し
ている。また、前記リード部α−の端部には、Ｖｅ”、
Ｖｅ−、Ｖｏ”、 Ｖｏ−と表示した端子部αＧが形
成されている。
このようなビーム体（１）のパターン形成面（６）の表
面には、前記端子部αｅを除いて樹脂による薄い被膜α
乃が全面に形成されている。この被膜α力はポリイミド
系樹脂よＩ）なるもので、このポリイミド系樹脂は絶縁
性が優れておシ、吸水性があシ透水性が悪い。そのため
、湿度によって膨潤することがらストレンゲージ抵抗体
αＱ等に歪の影響を与えて抵抗変化をおこさせる欠点を
有する。その反面、透水性が悪いためにストレ／ゲージ
抵抗体α＠を酸化腐蝕させるような影響を防ぐことが可
能である。
面には、前記端子部αｅを除いて樹脂による薄い被膜α
乃が全面に形成されている。この被膜α力はポリイミド
系樹脂よＩ）なるもので、このポリイミド系樹脂は絶縁
性が優れておシ、吸水性があシ透水性が悪い。そのため
、湿度によって膨潤することがらストレンゲージ抵抗体
αＱ等に歪の影響を与えて抵抗変化をおこさせる欠点を
有する。その反面、透水性が悪いためにストレ／ゲージ
抵抗体α＠を酸化腐蝕させるような影響を防ぐことが可
能である。
この被膜α力の材料としては、環化ブタジェンゴムの使
用も可能である。
用も可能である。
ついで、前記被膜αηの上に柔軟性のある樹脂による厚
い保護層０ａｌが積層形成されている。この保護層α印
はシリコン系ゴム、ブチル系ゴム、ポリウレタン等よフ
なるものである。
い保護層０ａｌが積層形成されている。この保護層α印
はシリコン系ゴム、ブチル系ゴム、ポリウレタン等よフ
なるものである。
このような構成において、受孔（５）に連結された受皿
等に荷重を印加すると、Ｒ１ｐ Ｒ２のストレンゲージ
抵抗体α０に引張応力が作用し、Ｒ３ｐ Ｒ４のストレ
ンゲージ抵抗体α０に圧縮応力が作用する。これによル
、荷重に対応した電気的出力が発生し、重量測定がなさ
れる。
等に荷重を印加すると、Ｒ１ｐ Ｒ２のストレンゲージ
抵抗体α０に引張応力が作用し、Ｒ３ｐ Ｒ４のストレ
ンゲージ抵抗体α０に圧縮応力が作用する。これによル
、荷重に対応した電気的出力が発生し、重量測定がなさ
れる。
しかして、パターン０９は被膜α７）と保護層α印とに
よシ棲われているため、絶縁性、耐湿性、駒部撃性があ
る。すなわち、外部から異物によシ衝撃が加えられても
、保護層０杓は柔くて厚いので、パターン０９に傷を付
けることがなく１機械的にそのパターン（１５１の保護
ヲする。また、被膜α力はパターン０９に対して湿度全
力えることがなく、パターンαυの酸化腐蝕を防止する
。しかも、被膜α７Ｉはその硬さが高くても厚さが薄い
ためにパターンα９に対してクリープ等の悪影響を与え
ることがない。
よシ棲われているため、絶縁性、耐湿性、駒部撃性があ
る。すなわち、外部から異物によシ衝撃が加えられても
、保護層０杓は柔くて厚いので、パターン０９に傷を付
けることがなく１機械的にそのパターン（１５１の保護
ヲする。また、被膜α力はパターン０９に対して湿度全
力えることがなく、パターンαυの酸化腐蝕を防止する
。しかも、被膜α７Ｉはその硬さが高くても厚さが薄い
ためにパターンα９に対してクリープ等の悪影響を与え
ることがない。
発明の効果
本発明は、上述のようにビーム体の表面に絶縁層を介し
て薄膜によりパターンを形成し、このパターンを絶縁性
が高くて透水性の低い樹脂により被覆を形成したので、
電気的に充分な絶縁性を得ることができるとともに防湿
性を高めることができ、これによシ、パターン部分の酸
化腐蝕の発生を防止することができ、また、外部からの
衝撃に対しても充分に保護することができるものである
。
て薄膜によりパターンを形成し、このパターンを絶縁性
が高くて透水性の低い樹脂により被覆を形成したので、
電気的に充分な絶縁性を得ることができるとともに防湿
性を高めることができ、これによシ、パターン部分の酸
化腐蝕の発生を防止することができ、また、外部からの
衝撃に対しても充分に保護することができるものである
。
図面はこの発明の一実施例を示すもので、第１図は斜視
図、第２図は回路図、第３図は各層を拡大して示した側
面図である。 １・・・ビーム体、７・・・絶縁層、１５・・・パター
ン、１７・・・被膜、１８・・・保護層 出 願 人 東京電気株式会社 あＪ 図 ］２図 ノロ ご邪６Ｒ
図、第２図は回路図、第３図は各層を拡大して示した側
面図である。 １・・・ビーム体、７・・・絶縁層、１５・・・パター
ン、１７・・・被膜、１８・・・保護層 出 願 人 東京電気株式会社 あＪ 図 ］２図 ノロ ご邪６Ｒ
Claims (1)
- ビーム体の表面に絶縁層を形成し、この絶縁層の上に電
気的抵抗の高い金属による薄膜の金属層と導電性の高い
金属による薄膜の金属層とを積層してエツチングするこ
とによりストレンゲージ抵抗体とリード部とを含むパタ
ーンを形成し、このパターンを含むビーム体の表面に絶
縁性が高く透水性のない樹脂による薄い被膜を形成し、
この被膜の上に柔軟性のある樹脂による厚い保護層を形
成したことを特徴とするロードセル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10643583A JPS59231431A (ja) | 1983-06-14 | 1983-06-14 | ロ−ドセル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10643583A JPS59231431A (ja) | 1983-06-14 | 1983-06-14 | ロ−ドセル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59231431A true JPS59231431A (ja) | 1984-12-26 |
Family
ID=14433566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10643583A Pending JPS59231431A (ja) | 1983-06-14 | 1983-06-14 | ロ−ドセル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59231431A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62119426A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-05-30 | Tokyo Electric Co Ltd | ロ−ドセル |
| EP0226997A2 (en) * | 1985-12-25 | 1987-07-01 | Hitachi, Ltd. | Liquid crystal display device |
| JPH02193031A (ja) * | 1989-01-20 | 1990-07-30 | Kubota Ltd | ロードセル |
| JPH04274720A (ja) * | 1991-03-01 | 1992-09-30 | Teraoka Seiko Co Ltd | 歪ゲージ式ロードセル |
| JPH1097905A (ja) * | 1996-09-19 | 1998-04-14 | Alps Electric Co Ltd | シーソ操作型可変抵抗器 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55140112A (en) * | 1979-04-19 | 1980-11-01 | Tokyo Electric Co Ltd | Weighing device employing load cell |
| JPS5793220A (en) * | 1980-11-29 | 1982-06-10 | Toshiba Corp | Preparation of load cell |
-
1983
- 1983-06-14 JP JP10643583A patent/JPS59231431A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55140112A (en) * | 1979-04-19 | 1980-11-01 | Tokyo Electric Co Ltd | Weighing device employing load cell |
| JPS5793220A (en) * | 1980-11-29 | 1982-06-10 | Toshiba Corp | Preparation of load cell |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62119426A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-05-30 | Tokyo Electric Co Ltd | ロ−ドセル |
| EP0226997A2 (en) * | 1985-12-25 | 1987-07-01 | Hitachi, Ltd. | Liquid crystal display device |
| EP0226997A3 (en) * | 1985-12-25 | 1988-10-12 | Hitachi, Ltd. | Liquid crystal display device |
| US4826297A (en) * | 1985-12-25 | 1989-05-02 | Hitachi, Ltd. | Liquid crystal display device having an extention metal film wiring which is covered by polyimide layer having low viscosity under 1.0 poise before curing |
| JPH02193031A (ja) * | 1989-01-20 | 1990-07-30 | Kubota Ltd | ロードセル |
| JPH04274720A (ja) * | 1991-03-01 | 1992-09-30 | Teraoka Seiko Co Ltd | 歪ゲージ式ロードセル |
| JPH1097905A (ja) * | 1996-09-19 | 1998-04-14 | Alps Electric Co Ltd | シーソ操作型可変抵抗器 |
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