JPS5920203B2 - signal conversion circuit - Google Patents

signal conversion circuit

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JPS5920203B2
JPS5920203B2 JP1438583A JP1438583A JPS5920203B2 JP S5920203 B2 JPS5920203 B2 JP S5920203B2 JP 1438583 A JP1438583 A JP 1438583A JP 1438583 A JP1438583 A JP 1438583A JP S5920203 B2 JPS5920203 B2 JP S5920203B2
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clock
capacitive element
terminal
gate
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藤次郎 武川
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Nippon Electric Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03MCODING; DECODING; CODE CONVERSION IN GENERAL
    • H03M1/00Analogue/digital conversion; Digital/analogue conversion
    • H03M1/66Digital/analogue converters
    • H03M1/72Sequential conversion in series-connected stages

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Analogue/Digital Conversion (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は絶縁ゲート型電界効果トランジスタ(以下I
GFETと記す)を用いて構成されたデジタル信号をア
ナログ信号に変換する信号変換回路に関する。
Detailed Description of the Invention This invention relates to an insulated gate field effect transistor (hereinafter referred to as I
The present invention relates to a signal conversion circuit that converts a digital signal to an analog signal using a GFET (hereinafter referred to as GFET).

従来IGFETはしきい値のバラツキが大きいために、
リニア集積回路に使用されることは少く、特に高い精度
が要求されるデジタル信号をアナログ信号に変換する回
路をモノリシックMO8ICで構成することは少なかっ
た。
Conventional IGFETs have large threshold variations, so
Monolithic MO8ICs have rarely been used in linear integrated circuits, and circuits that convert digital signals into analog signals, which require particularly high precision, have rarely been constructed using monolithic MO8ICs.

この発明の目的はIGFETを使用し、そのしきい値の
バラツキにかかわらず、比較的高い精度のデジタル信号
からアナログ信号に変換する信号変換回路を提供するに
ある。
An object of the present invention is to provide a signal conversion circuit that uses an IGFET and converts a digital signal into an analog signal with relatively high precision regardless of variations in the threshold value.

この発明によれば第1クロツクにより第1IGFETが
導通とされて、第2IGFETのゲート及びドレイン間
の容量素子に所定量の電荷を充電する。
According to this invention, the first IGFET is made conductive by the first clock, and a predetermined amount of charge is charged in the capacitive element between the gate and drain of the second IGFET.

次に第2クロツクにより上記第2IGFETが導通され
て上記容量素子の電荷が保持用容量素子に移される。
Next, the second IGFET is turned on by the second clock, and the charge in the capacitive element is transferred to the storage capacitive element.

第1クロツク、第2クロツクは互に重なることなく繰返
され、クロックの数に応じて保持用容量素子が充電され
る。
The first clock and the second clock are repeated without overlapping each other, and the holding capacitive element is charged according to the number of clocks.

このことを利用し、デジタル信号に応じた数だけクロッ
クを供給すれば保持用容量素子にはそのデジタル信号に
応じたアナログ量が得られる。
Utilizing this fact, if a number of clocks corresponding to the digital signal is supplied, an analog quantity corresponding to the digital signal can be obtained in the holding capacitor element.

次の図面を参照して本発明の詳細な説明する。The invention will now be described in detail with reference to the following drawings.

なお、各図においては説明の便宜上、使用トランジスタ
は総てp−チャンネル−MOSFETとする。
In each figure, for convenience of explanation, all transistors used are p-channel MOSFETs.

第1図は本発明の参考例としてのアナログ信号をデジタ
ル信号に変換する場合で、Ql は入力のMO8FET
スイッチを示し、Ql のソースはアナログ信号の入力
端子1に、ゲートはサンプリング信号φSが与えられる
端子20に接続され、ドレインはFETQ2のソースと
節点2で接続し、節点2と接地との間に保持用容量素子
Csが接続される。
Figure 1 shows the case of converting an analog signal to a digital signal as a reference example of the present invention, where Ql is the input MO8FET.
The switch is shown in which the source of Ql is connected to analog signal input terminal 1, the gate is connected to terminal 20 to which sampling signal φS is applied, the drain is connected to the source of FET Q2 at node 2, and there is a connection between node 2 and ground. A holding capacitive element Cs is connected.

FET C2のゲートは第1クロツクφ1の端子21に
接続され、ドレインは FET Qsのソースと節点3で接続される。
The gate of FET C2 is connected to the terminal 21 of the first clock φ1, and the drain is connected to the source of FET Qs at node 3.

節点3と端子21との間に容量素子C2が接続される。A capacitive element C2 is connected between node 3 and terminal 21.

C3のゲートは第2クロツクφ2の端子22に接続され
、ドレインはFET C4のソースと節点4で接続され
、節点4と端子22との間に容量素子03が接続される
The gate of C3 is connected to the terminal 22 of the second clock φ2, the drain is connected to the source of the FET C4 at the node 4, and the capacitive element 03 is connected between the node 4 and the terminal 22.

C4のゲートは端子21に、ドレインは電圧Vdの電源
端子23に接続される。
The gate of C4 is connected to the terminal 21, and the drain is connected to the power supply terminal 23 of voltage Vd.

節点4はA−D変換回路の出力端子にもなっている。Node 4 also serves as an output terminal of the AD conversion circuit.

説明の便宜上MO8FET Ql 、C2、C3およ
びC4の各しきい値(Vt)は零で、φ1.φ2:φS
の振幅はVdに等しく、容量素子Csは第1クロツクφ
1が4回低レベルになったときに接地からVd −Vt
まで充電される大きさとする。
For convenience of explanation, each threshold value (Vt) of MO8FET Ql, C2, C3, and C4 is zero, and φ1. φ2:φS
The amplitude of is equal to Vd, and the capacitive element Cs is connected to the first clock φ
Vd - Vt from ground when 1 goes low four times
The size is such that it can be charged up to.

サンプリングパルスφSは第2クロツクφ2が5回以上
低レベルになる時1回低レベルになるものとする。
It is assumed that the sampling pulse φS becomes low level once when the second clock φ2 becomes low level five times or more.

端子10入力が零で、容量素子C8,C2゜C3の電荷
はすべて零であるとする。
It is assumed that the input to the terminal 10 is zero and the charges of the capacitive elements C8, C2 and C3 are all zero.

この状態で、第1クロツクφ1が発生すると、FET
Q、が導通して、容量素子C3は電圧Vdに充電され
る。
In this state, when the first clock φ1 is generated, the FET
Q becomes conductive, and the capacitive element C3 is charged to the voltage Vd.

次に第2クロツクφ2によりC3が導通すると、容量素
子C3の電荷が容量素子C2に移される。
Next, when C3 is made conductive by the second clock φ2, the charge in the capacitive element C3 is transferred to the capacitive element C2.

更に次の第1クロツクφ1によりC2、C4が導通し、
容量素子C2の電荷は保持用容量素子Csに移されると
共に容量素子C3がVdに充電される。
Furthermore, C2 and C4 are made conductive by the next first clock φ1,
The charge of the capacitive element C2 is transferred to the holding capacitive element Cs, and the capacitive element C3 is charged to Vd.

このようにして容量素子C2,C3の各両端電圧はVd
となるように充電され、よって節点3,4の電位は−V
dと一2Vd との間をクロックにより変化している。
In this way, the voltage across each of capacitive elements C2 and C3 is Vd
Therefore, the potential of nodes 3 and 4 is -V
It changes between d and -2Vd depending on the clock.

また4個以上の充電により保持用容量素子CsはVdに
充電されている。
Further, the holding capacitive element Cs is charged to Vd by charging four or more elements.

次に入力端子1より入力が与えられている状態を考える
Next, consider a state in which input is provided from input terminal 1.

いまサンプリングパルスφSが低レベルになった時t1
にQlは導通し、入力端子1及び節点2の電位は等しく
なり、φSが接地レベルにもどる時、容量素子Csに入
力アナログ信号の電位Vsがサンプリング保持される。
Now when the sampling pulse φS becomes low level t1
Ql becomes conductive, the potentials of input terminal 1 and node 2 become equal, and when φS returns to the ground level, the potential Vs of the input analog signal is sampled and held in capacitive element Cs.

次の第1クロツクφ1が時点t2に与えられると、C2
の電荷がC8に移されて、以下同様にφ1が与えられる
ごとにCsは充電されるが、Csの電圧がVdになると
これよりは充電されなくなり、このようになると、節点
3及び4の電位は−Vdと−Vdの間をφ1及びφ2の
たびに変化する。
When the next first clock φ1 is applied at time t2, C2
is transferred to C8, and in the same way, Cs is charged every time φ1 is applied, but when the voltage of Cs reaches Vd, it is no longer charged, and when this happens, the potentials of nodes 3 and 4 changes between -Vd and -Vd every φ1 and φ2.

クロックφ1゜φ2を第2図A、Hに、サンプリングパ
ルスφSを第2図Cにそれぞれ示し、入力端子10入力
を第2図りに示す。
The clocks φ1 and φ2 are shown in FIGS. 2A and 2H, the sampling pulse φS is shown in FIG. 2C, and the input terminal 10 is shown in the second diagram.

この入力は実際にはサンプリングパルスφSの周期より
も遅い変動とされる。
This input is actually made to fluctuate slower than the period of the sampling pulse φS.

節点3,4の電位を第2図F、Gにそれぞれ示す。The potentials at nodes 3 and 4 are shown in FIGS. 2F and 2G, respectively.

容量素子Csに保持された入力信号のレベルに応じて容
量素子C8がVdに充電されるまでのクロック数が変化
する。
The number of clocks until the capacitive element C8 is charged to Vd changes depending on the level of the input signal held in the capacitive element Cs.

第2図では2個のクロックφ1でVdになった場合であ
る。
In FIG. 2, the voltage becomes Vd with two clocks φ1.

このVdになるまでの数は入力アナログ値と対応し入力
信号がデジタル信号に変換せられたことになる。
The number up to this Vd corresponds to the input analog value, which means that the input signal has been converted into a digital signal.

第1図に示した回路を半導体集積回路で構成する場合に
、節点3の拡散領域よりその半導体基板に少数キャリア
が注入され、寄生トランジスタ効果により保持用容量素
子Csに貯えた電荷を失い誤動作を起す場合がある。
When the circuit shown in FIG. 1 is configured with a semiconductor integrated circuit, minority carriers are injected into the semiconductor substrate from the diffusion region of node 3, and the charge stored in the storage capacitor Cs is lost due to the parasitic transistor effect, resulting in malfunction. It may occur.

それを防止するには例えば第3図に示すように第1図の
節点3及び端子21間の容量素子C2を節点3及び接地
間に接続すればよい。
To prevent this, for example, as shown in FIG. 3, the capacitive element C2 between the node 3 and the terminal 21 in FIG. 1 may be connected between the node 3 and the ground.

また出力端子4に接続される負荷容量が無視できる場合
にはFET C2及び容量素子C2を省き節点3を節点
2に接続してもよい。
Further, if the load capacitance connected to the output terminal 4 is negligible, the FET C2 and the capacitive element C2 may be omitted and the node 3 may be connected to the node 2.

さらに出力信号をシフトして取出したい場合にはパケッ
ト・ブリゲート・デバイスを接続すればよい。
If it is desired to further shift and extract the output signal, a packet brigade device may be connected.

第1図の回路をMOS・IC化する場合、各節点を構成
する拡散層の容量が問題となるおそれがある。
When converting the circuit shown in FIG. 1 into a MOS/IC, the capacitance of the diffusion layer forming each node may become a problem.

即ち第1図の出力部分を第4図に示せば拡散層の容量c
Jが節点4及び接地間に接続される。
That is, if the output part of FIG. 1 is shown in FIG. 4, the capacitance of the diffusion layer c
J is connected between node 4 and ground.

拡散層H俊化膜−金属(MOS)より構成される容量を
Cxとすると節点4及び端子22間に容量CXが03
として接続されるため、節点4より出力信号として取
出せる電圧はCX/(CJ+CX)に比例する。
If the capacitance composed of the diffusion layer H atomized film-metal (MOS) is Cx, the capacitance CX between the node 4 and the terminal 22 is 03
Therefore, the voltage that can be extracted from node 4 as an output signal is proportional to CX/(CJ+CX).

従って拡散層の容量cJをMO8O8容量C比べて小さ
くした方がよい。
Therefore, it is better to make the capacitance cJ of the diffusion layer smaller than the MO8O8 capacitance C.

このためには例えば第5図に示すようにN型シリコン基
板51中のP型拡散層52a、52bをソース、ドレイ
ンとするFFT Qsを形成し、そのドレイン拡散層
52bを延長してCXを形成することなく、これは小さ
い領域とし、そのcJを小さくし、この領域52bとは
分離して、広いP型拡散層53上に形成し、この拡散層
53杓絶縁膜56−金属54のMO8O8容量C比量C
3を形成し、Qsのゲート55と領域53とを端子22
に接続する。
For this purpose, for example, as shown in FIG. 5, an FFT Qs is formed using P-type diffusion layers 52a and 52b in an N-type silicon substrate 51 as sources and drains, and the drain diffusion layer 52b is extended to form a CX. Instead, this is made into a small region, its cJ is made small, and it is separated from this region 52b and formed on the wide P-type diffusion layer 53, and the MO8O8 capacitance of this diffusion layer 53, the insulating film 56, and the metal 54 is formed. C ratio C
3 and connect the gate 55 and region 53 of Qs to the terminal 22.
Connect to.

この構造により節点4の拡散層53はC3のドレイン5
2bとコンタクトを作る面積だけとなりCJをCxに較
べて著しく小さくでき、よってcJの可変容量特性によ
るひずみや容量分割による信号の減衰を少くできる。
With this structure, the diffusion layer 53 of node 4 is connected to the drain 5 of C3.
CJ can be made significantly smaller than Cx since only the area for making contact with 2b can be made, and therefore distortion due to the variable capacitance characteristic of cJ and signal attenuation due to capacitance division can be reduced.

参考例のA−D変換回路の特性はVt及びCs/C3の
影響を受けるので比較器を構成する場合にはVt及びC
8/C3の製造過程におけるバラツキが比較器の特性に
影響をうけないように、A−D変換回路を2つ隣接して
おき、一方に基準電圧を他方に比較される信号を入力し
て、出力パルス数を比較し基準電圧と信号の大小及びそ
の差を知ることができる。
The characteristics of the A-D converter circuit in the reference example are affected by Vt and Cs/C3, so when configuring a comparator, Vt and C
In order to prevent variations in the manufacturing process of 8/C3 from being affected by the characteristics of the comparator, two A-D converter circuits are placed adjacent to each other, and one inputs a reference voltage and a signal to be compared to the other. By comparing the number of output pulses, it is possible to know the magnitude of the signal and the reference voltage, as well as the difference between them.

この方法は同一半導体ウニバー内でのトランジスタ及び
容量のバラツキはロット間のバラツキに較べて小さいこ
とを利用している。
This method utilizes the fact that variations in transistors and capacitance within the same semiconductor universe are smaller than variations between lots.

同一ウニバー内のVt及び容量のバラツキをも無視でき
ないほどの高精度な比較を要求される場合は、一つのA
−D変換回路を用い、あらかじめ基準電圧と出力パルス
の数との関係を記憶させておき、次に比較される信号を
入力した時のパルス数と記憶されているパルス数とを比
較して、大小及びその差を知ることができる。
If a highly accurate comparison is required that cannot ignore variations in Vt and capacity within the same Unibar, one A
-Using a D conversion circuit, store the relationship between the reference voltage and the number of output pulses in advance, and then compare the number of pulses when the signal to be compared next is input with the stored number of pulses, You can know the size and the difference between them.

前の方法は比較精度は劣るが高速度で比較でき、後の方
法は低速度では・あるが高精度の比較ができる。
The former method is less accurate but allows for faster comparisons, while the latter method is slower but allows for more accurate comparisons.

次に本発明の実施例としてのデジタル信号をアナログ変
換するD−A変換回路について説明する。
Next, a D-A conversion circuit for converting a digital signal to analog will be described as an embodiment of the present invention.

第6図はその例を示し、第1図と異なる点は保持用容量
素子Csと並列にFET Q、が接続され、節点2は
端子1に直接接続される。
FIG. 6 shows an example of this, and the difference from FIG. 1 is that an FET Q is connected in parallel with the holding capacitive element Cs, and the node 2 is directly connected to the terminal 1.

また節点及びFET C2のソースとの間にFET
Qsが挿入され、そのゲートに端子24が接続され、
この端子24にデジタル信号が入力される。
There is also a FET between the node and the source of FET C2.
Qs is inserted, the terminal 24 is connected to its gate,
A digital signal is input to this terminal 24.

第7図は第6図の動作波形を示し、第7図A、Bはクロ
ックパルスφ1.φ2を、第7図Cは端子20のリセッ
トパルスφSを、第7図りは端子24からの入力デジタ
ル信号を、第γ図Eは節点2の電圧をそれぞれ示す。
FIG. 7 shows the operating waveforms of FIG. 6, and FIGS. 7A and 7B show clock pulses φ1. φ2, FIG. 7C shows the reset pulse φS at the terminal 20, FIG. 7 shows the input digital signal from the terminal 24, and FIG. γE shows the voltage at the node 2, respectively.

また第7図ではVtを零として波形を示している。Further, in FIG. 7, the waveform is shown with Vt set to zero.

初めに端子1、即ち節点2、FET C2C3のドレ
インはVd−vt に充電されているものとする。
Initially, it is assumed that terminal 1, that is, node 2, and the drain of FET C2C3 are charged to Vd-vt.

まずφSが低レベルになり容量素子Csに貯えられてい
た電荷を放電して接地レベルにする。
First, φS becomes a low level, and the charge stored in the capacitive element Cs is discharged to the ground level.

次にφSが接地レベルにもどった後、φ1が低レベルに
なった時、容量素子C2に貯えられた電荷を容量素子C
sに充電しようとするが、端子24が接地レベル、則ち
デジタル入力がない場合はQ、は不導通となっていたた
め、Csに充電されない。
Next, after φS returns to the ground level, when φ1 becomes low level, the charge stored in capacitive element C2 is transferred to capacitive element C.
An attempt is made to charge the battery s, but since the terminal 24 is at ground level, that is, if there is no digital input, Q is non-conductive, so the battery Cs is not charged.

しかしデジタル入力により端子24が低レベルになると
FET C3は導通し容量素子C2の電荷が容量素子C
sに充電される。
However, when the terminal 24 becomes low level due to digital input, FET C3 becomes conductive and the charge of capacitive element C2 is transferred to capacitive element C.
charged to s.

端子24のデジタル信号はクロックφ1 と同期される
The digital signal at terminal 24 is synchronized with clock φ1.

このようにしてデジタル信号の数に応じた電荷が保持用
容量素子Csに充電される。
In this way, the holding capacitive element Cs is charged with an electric charge corresponding to the number of digital signals.

このCsの電圧を端子1より得れば入力デジタル信号に
応じたアナログ出力が得られる。
If this Cs voltage is obtained from terminal 1, an analog output corresponding to the input digital signal can be obtained.

なお容量素子C2の電荷により容量素子C8をVd−V
t まで充電するのにクロックφ1がM回低レベルにな
ったとし、前記第2図の出力波形を接地からVd0間に
しきい値をもつ回路で出力信号として取出し、その出力
パルスの数がN個であったとすると、第1図に示したA
−D変換回路における入力電圧波形をφSでサンプリン
グした電位を、第6図に示したD−A変換回路で得るに
は入力端子24にM−N個のパルスを印加すればよい。
Note that due to the charge of capacitive element C2, capacitive element C8 becomes Vd-V.
Suppose that clock φ1 goes low level M times to charge up to t, the output waveform shown in Figure 2 is taken out as an output signal by a circuit with a threshold between ground and Vd0, and the number of output pulses is N. If so, A shown in Figure 1
In order to obtain the potential obtained by sampling the input voltage waveform in the -D conversion circuit at φS with the DA conversion circuit shown in FIG. 6, it is sufficient to apply M-N pulses to the input terminal 24.

またA−D変換回路として第3図に示した回路を用いた
場合には第8図に示すD−A変換回路を用いればよい。
Furthermore, when the circuit shown in FIG. 3 is used as the AD conversion circuit, the DA conversion circuit shown in FIG. 8 may be used.

以上述べたようにこの発明では、端子23の一定電位か
らクロックφ1 で容量素子C3に一定量の電荷を充電
し、クロックφ2でC3の電荷を保持用容量素子Csに
移すが、その場合C3の電荷を直ちにCsに移さず、途
中で数段階中継させてもよい。
As described above, in this invention, the capacitive element C3 is charged with a certain amount of charge from the constant potential of the terminal 23 at the clock φ1, and the charge of C3 is transferred to the holding capacitive element Cs at the clock φ2. The charge may not be transferred to Cs immediately, but may be relayed several steps in the middle.

このCsに移す回数をデジタル信号で制御してCsにア
ナログ信号を得、又は、Csにアナログ信号を充電させ
、これからCsが所定の電位になるまでに何個のクロッ
クを必要とするかによりデジタル信号を得ることができ
る。
You can control the number of clocks transferred to Cs using a digital signal to obtain an analog signal to Cs, or you can charge Cs with an analog signal and then use a digital signal depending on how many clocks are required for Cs to reach a predetermined potential. I can get a signal.

なお上記実施例はpチャンネルエンハンスメント型MO
Sトランジスタで回路を構成したが、nチャンネルエン
ハンスメント型IGFETはもちろん、デプレツシュン
型でもバックバイアスしてエンハンスメント型の特性を
もたせるなら使用できる。
Note that the above embodiment is a p-channel enhancement type MO.
Although the circuit is constructed using S transistors, not only an n-channel enhancement type IGFET but also a depletion type can be used as long as it is back-biased to give enhancement type characteristics.

また第5図に示した構造はバケット−ブリゲート・デバ
イスの出力にも適用できる。
The structure shown in FIG. 5 can also be applied to the output of a bucket-brigate device.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の参考例としてのA−D変換回路を示す
接続図、第2図は第1図に示した回路の各節点の動作電
圧波形図、第3図は本発明の他の参考例としてのA−D
変換回路を示す接続図、第4図は拡散層の浮遊容量を示
す回路図、第5図は拡散層の浮遊容量を小さくできる構
造を示す断面図、第6図は本発明の実施例によるD−A
変換路を示す接続図、第7図は第6図に示した回路の各
端子の動作電圧波形図、第8図は本発明の他の実施例と
してのD−A変換回路を示す接続図である。 C3;第1 IGFET、 C2;第2IGFET、C
3;容量素子、C8;保持用容量素子、21 :第1ク
ロツク端子、22;第2クロツク端子、23;一定電位
端子。
FIG. 1 is a connection diagram showing an A-D conversion circuit as a reference example of the present invention, FIG. 2 is an operating voltage waveform diagram at each node of the circuit shown in FIG. A-D as a reference example
4 is a circuit diagram showing the stray capacitance of the diffusion layer, FIG. 5 is a cross-sectional view showing a structure that can reduce the stray capacitance of the diffusion layer, and FIG. 6 is a D according to an embodiment of the present invention. -A
FIG. 7 is a connection diagram showing a conversion path, FIG. 7 is an operating voltage waveform diagram of each terminal of the circuit shown in FIG. 6, and FIG. 8 is a connection diagram showing a D-A conversion circuit as another embodiment of the present invention. be. C3; first IGFET, C2; second IGFET, C
3: Capacitive element, C8: Holding capacitive element, 21: First clock terminal, 22: Second clock terminal, 23: Constant potential terminal.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 第1の節点と第1の電源端子との間に接続され、ゲ
ートに第1のクロックが印加された第1の絶縁ゲート型
電界効果トランジスタ(以下IGFETと記す)と、第
2の節点と上記第1の節点との間に接続されゲートに第
1のクロックとは重なることなく同期した第2のクロッ
クが印加された第2のIGFETと、該第2のIGFE
Tのゲートと該第1の節点との間に接続された第1の容
量素子と、第3の節点と該第2の節点との間に接続され
ゲートに該第1のクロックが印加された第3のIGFE
Tと、該第3のIGFETのゲートと該第2の節点との
間に接続された第2の容量素子と、第4の節点と第3の
節点の間に接続された第4のIGFETと、前記第4の
節点と基準電源端子との間に接続された保持用容量素子
とを有し、前記第4のIGFETのゲートに上記第1の
クロックと同期したデジタル入力信号を印加し、前記第
4の節点を出力端子とし、第1のクロックに応答して第
1の電源端子から第1の容量素子へ、第2のクロックに
応答して第1の容量素子から第2の容量素子へ電荷を移
動し、上記デジタル入力信号のクロックの数と同数の上
記クロックのくり返し数に応じて上記保持容量を充電せ
しめ、この充電電位から上記デジタル信号に対応したア
ナログ信号を得ることを特徴とする信号変換回路。
1 A first insulated gate field effect transistor (hereinafter referred to as IGFET) connected between a first node and a first power supply terminal and having a first clock applied to its gate; a second IGFET connected between the first node and to which a second clock synchronized with the first clock is applied without overlapping the first clock;
The first clock is applied to the first capacitive element connected between the gate of T and the first node, and the gate connected between the third node and the second node. Third IGFE
T, a second capacitive element connected between the gate of the third IGFET and the second node, and a fourth IGFET connected between the fourth node and the third node. , a holding capacitive element connected between the fourth node and a reference power supply terminal, applying a digital input signal synchronized with the first clock to the gate of the fourth IGFET, The fourth node is the output terminal, the first power supply terminal is connected to the first capacitive element in response to the first clock, and the first capacitive element is connected to the second capacitive element in response to the second clock. The method is characterized in that the storage capacitor is charged by moving an electric charge according to the same number of clocks as the number of clocks of the digital input signal, and an analog signal corresponding to the digital signal is obtained from this charging potential. Signal conversion circuit.
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