JPS59201052A - Manufacture of cuprous halide photosensitive material - Google Patents

Manufacture of cuprous halide photosensitive material

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JPS59201052A
JPS59201052A JP7663883A JP7663883A JPS59201052A JP S59201052 A JPS59201052 A JP S59201052A JP 7663883 A JP7663883 A JP 7663883A JP 7663883 A JP7663883 A JP 7663883A JP S59201052 A JPS59201052 A JP S59201052A
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cupric
ions
reducing agent
halogen
solution
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    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/72Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
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Abstract

PURPOSE:To obtain fine particles of cuprous halide crystals extremely rapidly and easily by reducing cupric ions in a hydrophilic colloidal layer spread on a support in the presence of halogen ions. CONSTITUTION:A film formed by coating with a hydrophilic colloid of a hydrophilic polymer contg. cupric ions, water-soluble halogen ions, and at least one of reducing agent is immersed into an aq. soln. of a reducing agent, halogen ions, and cupric ions to execute reducing reaction in a pH of 0-4. Cuprous halide crystals are prepared by controlling halogen ion concn. to >=120 moles per 100 moles of cupric ions, and concn. of the reducing agent to 100-300moles, and adjusting contact time of each component. The reducing agent usable advantageously are sulfurous and nitrous acids, alkali metal sulfite or nitrite, L-ascorbic acid, aminoborane, dialkylaminoborane, etc.

Description

【発明の詳細な説明】 ■ 発明の背景 技術分野 本発明は、ハロゲン化第−銅を用いた写真感光材料の新
規な製造法に関するも、のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (1) Background of the Invention Technical Field The present invention relates to a novel method for producing photographic materials using cupric halide.

先行技術とその問題点 従来、高感度の写真法としては、通常のハロゲン化銀写
真法が広く用いられている。 そして、ハロゲン化銀写
真法は、高感度、高品質、連続調階調を有し、さらには
迅速処理、或いは、乾式処理等が可能である等々の多く
の特徴を有するものである。
Prior Art and its Problems Conventionally, ordinary silver halide photography has been widely used as a high-sensitivity photography method. The silver halide photography method has many features such as high sensitivity, high quality, continuous tone gradation, and the ability to perform rapid processing or dry processing.

しかし、銀化合物を感光性物質および画像形成物質とし
て用いたシ、あるいはハロゲン化銀カラー写真法の場合
には、色素画像形成の中間媒体として用いるため、一般
に多電の銀の使用を必要としている。 これに対し、銀
の回収や再使用も提案されているが、これらは設備等の
点で、上記写真法の内、一部で実施されているに過ぎな
い。 これらのため、ハロゲン化銀写真法は、一般に、
高価であシ、また、銀資源の枯渇が懸念され、また銀の
価格が高騰している昨今、銀を用いる写真法の欠点とも
なっている。
However, in the case of silver compounds using silver compounds as photosensitive substances and image forming substances, or in the case of silver halide color photography, it is generally necessary to use polyelectrode silver because it is used as an intermediate medium for dye image formation. . In response, recovery and reuse of silver have been proposed, but these have only been implemented in some of the above photographic methods due to equipment and other considerations. For these reasons, silver halide photography is generally
It is expensive, and there are concerns about the depletion of silver resources, and the price of silver is soaring, which is a disadvantage of photographic methods that use silver.

従って、銀の使用量の節減された写真法、あるいは、全
く、銀を使用しない写真法の開発が必要である。
Therefore, there is a need to develop a photographic method that uses less silver or no silver at all.

非銀塩写真法は、数多く報告されているが、一般に、銀
を用いる写真法に比較して、低感度であシ、また、非銀
塩感光材料の多くは、連続階調を有する画像を得ること
が出来ない。
Many non-silver salt photography methods have been reported, but they generally have lower sensitivity than those using silver, and many non-silver salt photosensitive materials cannot produce images with continuous gradation. I can't get it.

これら非銀塩感光材料の中で、比較的感度が高く、連続
階調が得られる非銀塩感光材料として、ハロゲン化第−
銅結晶を使用した感光材料、あるいは、第一銅錯体を用
いる写真法が、リサーチのディスクロージャー屋151
66.15251.15252.米国特許第3,859
,092号、同第3,860,500号、同第3,86
0,501号および第3,880,724号各明細書に
記載されている。
Among these non-silver salt photosensitive materials, halogenated photosensitive materials have relatively high sensitivity and can provide continuous gradations.
Photosensitive materials using copper crystals or photographic methods using cuprous complexes are available at Research Disclosure Shop 151.
66.15251.15252. U.S. Patent No. 3,859
, No. 092, No. 3,860,500, No. 3,86
No. 0,501 and No. 3,880,724.

これらの文献によれば、ハロゲン化第−銅結晶や、−価
の銅イオンの錯体は、紫外線に対して感光性を有し、こ
れらを塗設したシートを紫外線照射した後、物理現像液
、または化学現像液で現像することによシ、連続階調を
有する着色画像が得られる。
According to these documents, cupric halide crystals and complexes of -valent copper ions are sensitive to ultraviolet rays, and after a sheet coated with these is irradiated with ultraviolet rays, a physical developer, Alternatively, by developing with a chemical developer, a colored image having continuous gradations can be obtained.

感光性ハロゲン化第−銅結晶をバインタ゛−中に分散し
た塗布液を調製する方法の1つとして、リサーチ拳ディ
スクロージャーA 15 ]、 66には、次に示すよ
うな方法が開示されている。
As one method for preparing a coating liquid in which photosensitive cupric halide crystals are dispersed in a binder, the following method is disclosed in Research Fist Disclosure A15], 66.

すなわち、まず、ハロゲン化第−銅結晶を作る方法とし
てアール・エヌ・ケラ−、エイチ・ディー・グアイコフ
「イノ−ガニツク・シンセシス」第2巻1ぺ−J(19
46)に記載されている方法によシ、ハロゲン化第二銅
の水溶液中にて、亜硫酸ナトリウムを用いて、次の様な
反応によシ、ハロゲン化第二銅を還元して、ハロゲン化
第−銅の結晶を作る。
That is, first, as a method for producing cupric halide crystals, R.N.Keller, H.D.
According to the method described in 46), the cupric halide is reduced by the following reaction using sodium sulfite in an aqueous solution of cupric halide, and the halide is converted into a halogenated product. Create a cuprous crystal.

20uX2 +Na2803+)12Q−+2CuX+
Na2s04+2HXこの方法では、コロイド保読性を
有する物質のない状態にて、ハロゲン化第−銅結晶を作
るため、結晶は粗大となる。 このため、結晶をヂール
ミルで粉砕し、さらにセルロース・アセテートブチレー
ト、ポリビニルブチレート等の高分子化合物のア七トン
等の有機溶媒に溶かした溶液中に、このハロゲン化第−
銅結晶粉末を分散し、この分散液を支持体上に塗布して
感光性フィルムとするものである。
20uX2 +Na2803+)12Q-+2CuX+
Na2s04+2HX In this method, cupric halide crystals are produced in the absence of a substance having colloidal readability, so the crystals become coarse. For this reason, the halogenated crystals are ground in a Dirumill and then dissolved in an organic solvent such as acetate of a polymer compound such as cellulose acetate butyrate or polyvinyl butyrate.
Copper crystal powder is dispersed and this dispersion is applied onto a support to form a photosensitive film.

しかし、この方法では、ハロゲン化第−銅の粗大結晶を
粉砕して微粒子化するため (1)  微粒子化のだめの粉砕処理に長時間を要する
However, in this method, since the coarse crystals of cupric halide are pulverized to form fine particles, (1) It takes a long time to perform the pulverization process to form fine particles.

(2)粉砕によって得たハロゲン化第−銅結晶の粒径分
布が広く、フィルムを現像して得られた画像の階調は極
めて軟調であり、コントラストがない。
(2) The cupric halide crystals obtained by pulverization have a wide particle size distribution, and the gradation of the image obtained by developing the film is extremely soft and lacks contrast.

(3)フィルムを現像して得られた画像の粒状性が悪く
、着色濃度が低い等の欠点がある。
(3) There are drawbacks such as poor graininess and low color density of images obtained by developing the film.

一方Antoni Gulecki 、 Jan Wo
jfezakらによる報告が、”Prace Komi
sji Mat Przyrod” Vol。
On the other hand, Antoni Gulecki and Jan Wo
A report by Jfezak et al.
sji Mat Przyrod” Vol.

7(4号)3〜12ページ(1956)に記載されてい
る。
7 (No. 4), pages 3-12 (1956).

この報告は、「硫酸銅、ヨウ化カリウムを含むゼラチン
水溶液中にて、亜硫酸ナトリウムを用いてOu”+イオ
ンを還元してOuI結晶を作り、同時にゼラチン溶液中
に分散することが可能である。」というものである。
This report states that ``Ou''+ ions can be reduced using sodium sulfite in an aqueous gelatin solution containing copper sulfate and potassium iodide to form OuI crystals, which can be simultaneously dispersed in the gelatin solution. ”.

しかし、この報告の方法では、 (1)特に塩化第一銅、臭化第一銅等を作成するときに
は、結晶が成長し易く、粗大粒子が出来易い。
However, in the method of this report, (1) Especially when preparing cuprous chloride, cuprous bromide, etc., crystals tend to grow easily and coarse particles are easily formed.

(2)  この方法で調製したノ・ロゲン化第−銅結晶
は粒子が大きく、粒径分布が広いため、このハロゲン化
第−銅結晶をゼラチン水溶液中に分散し、支持体に塗布
して作った感材を現像して得られる画像は、コントラス
トが低く、画像の粒状性が悪く画像の着色濃度が低い等
の欠点かめる。
(2) Since the cupric halide crystals prepared by this method have large particles and a wide particle size distribution, the cupric halide crystals prepared by this method are dispersed in an aqueous gelatin solution and coated on a support. The images obtained by developing the photosensitive materials suffer from drawbacks such as low contrast, poor graininess, and low color density.

(3)さらには、亜硫酸塩を用いてCu2+イオンを還
元してハロゲン化第−銅結晶を作るので、還元反応時に
多量の亜硫酸ガスを発生し、極めて危険な方法であると
いう欠点もある。
(3) Furthermore, since cupric halide crystals are produced by reducing Cu2+ ions using sulfite, a large amount of sulfur dioxide gas is generated during the reduction reaction, making it an extremely dangerous method.

本発明者らは微粒子ハロゲン化第−銅を安全かつ簡便に
作る方法について鋭意研究を重ね、特開昭57−138
633号、特開昭57−140317号、特開昭57−
154233号に、微粒子ハロゲン化第−銅乳剤の製造
方法を提案している。
The present inventors have conducted extensive research on a method for safely and easily producing fine-particle cupric halide, and have
No. 633, JP-A-57-140317, JP-A-57-
No. 154233 proposes a method for producing a fine-grain cupric halide emulsion.

これらのうち、その第一の方法は、銅、ビスマス、銀、
金、鉄、クロム、亜鉛、錫、コバぶト等の金属コロイド
粒子、または硫化銅、硫化亜鉛、硫化銀、硫化金2等の
難溶性コロイド状金属化合物を含むゼラチンのような水
溶性高分子溶液の存在下で、水溶性第二銅塩(例えば、
硝酸第二銅、硫酸第二銅)の水溶液と、水溶性ハロゲン
塩(例えば、塩化カリウム、臭化カリウム)と還元剤(
例えば、亜硫酸塩、亜硝酸塩。
Of these, the first method is copper, bismuth, silver,
Water-soluble polymers such as gelatin containing colloidal particles of metals such as gold, iron, chromium, zinc, tin, orbabut, or sparingly soluble colloidal metal compounds such as copper sulfide, zinc sulfide, silver sulfide, gold sulfide 2, etc. In the presence of a solution, a water-soluble cupric salt (e.g.
An aqueous solution of cupric nitrate, cupric sulfate), a water-soluble halogen salt (e.g. potassium chloride, potassium bromide) and a reducing agent (
For example, sulfites, nitrites.

L−アスコルビン酸、ヒドラジン等)とを含む水溶液を
混合する。 あるいは、ハロゲン化第二艙(塩化第二銅
、臭化第二銅)の水溶液と上記還元剤の水溶液を混合す
る方法である。
(L-ascorbic acid, hydrazine, etc.). Alternatively, there is a method of mixing an aqueous solution of a second halide (cupric chloride, cupric bromide) and an aqueous solution of the above-mentioned reducing agent.

第二の方法は、硝酸第二銅、または、硫酸第二銅と硝酸
銀を含゛む水溶液と、水溶性ハロゲン塩(例えば塩化カ
リウム、臭化カリウム、ヨウ化カリウム)と上記還元剤
を含む水溶液をゼラチンの如き水溶性高分子の存在下で
混合する方法である。
The second method uses an aqueous solution containing cupric nitrate or cupric sulfate and silver nitrate, a water-soluble halogen salt (for example, potassium chloride, potassium bromide, potassium iodide), and an aqueous solution containing the above-mentioned reducing agent. This is a method in which the ingredients are mixed in the presence of a water-soluble polymer such as gelatin.

そして、これらの混合後、過剰の塩類を除去する脱塩−
水洗処理や再溶解処理等を施し、これを支持体上に塗布
、乾燥して、感光材料を得るものである。
After mixing these, desalination is performed to remove excess salts.
A light-sensitive material is obtained by washing with water, redissolving, etc., coating the material on a support, and drying it.

これらの方法によれば、第一銅結晶は微粒子で、かつ粒
径分布がシャープであるので、階調は硬調であシ、コン
トラストが高く、画像の粒状性が良好で、着色濃度も高
い。
According to these methods, the cuprous crystals are fine particles and have a sharp particle size distribution, so the gradation is high, the contrast is high, the granularity of the image is good, and the color density is high.

しかし、これらの方法では、 (1)微粒子ハロゲン化第−銅結晶を調製後過剰の塩類
を除去するための脱塩処理に長時間を要する。
However, these methods require (1) a long time for desalination treatment to remove excess salts after preparing fine cupric halide crystals;

(2)シかも、溶解度の高い塩化第一銅においては、こ
の方法を用いても、臭化第一銅、法具化第−銅結晶に比
較して結晶粒子は大きくなる傾向にある等の欠点がある
(2) However, even if this method is used for cuprous chloride, which has a high solubility, the crystal particles tend to be larger compared to cuprous bromide and cuprous crystals. There are drawbacks.

■ 発明の目的 本発明の主たる目的は、上記の特開昭57−13863
3号、同57−140317号、同57−154233
号にて提案した方法を改良して、これと同等の写真性能
を維持した上で、きわめて迅速かつ容易に微粒子ハロゲ
ン化銀第一銅結晶を得ることのできるハロゲン化銀第一
銅感光材料の製造方法を提供することにある。
■ Purpose of the Invention The main purpose of the present invention is
No. 3, No. 57-140317, No. 57-154233
We have developed a silver halide cuprous photosensitive material that can obtain fine-grain silver halide cuprous crystals very quickly and easily while maintaining the same photographic performance by improving the method proposed in the above issue. The purpose is to provide a manufacturing method.

本発明者らは、このよう表目的を達成するには、バイン
ダー被榎中にて、微粒子ハロゲン化第−銅結晶を形成す
ればよいとの着想をえ、下記の本発明を完成するに至っ
た。
The present inventors came up with the idea that in order to achieve the above object, it would be sufficient to form fine-grain cupric halide crystals in a binder, and completed the present invention as described below. Ta.

すなわち本発明は、 支持体上に塗設された親水性コロイド層中にて、ハロゲ
ンイオンの存在下で第二銅イオンを還元して、微粒子ハ
ロゲン化第−銅結晶を生成させることを特徴とするノ・
ロゲン化第−銅感光材料の製造方法である。
That is, the present invention is characterized in that cupric ions are reduced in the presence of halogen ions in a hydrophilic colloid layer coated on a support to produce fine cupric halide crystals. Do no・
This is a method for producing a halogenated cupric photosensitive material.

■ 発明の具体的構成 以下本発明の具体的構成について詳細に説明する。■Specific structure of the invention The specific configuration of the present invention will be explained in detail below.

本発明においては、支持体上に塗設された親水性コロ4
13層中にて、ハロゲンイオンの存在     下でC
u”+イオンを還元するものである。
In the present invention, a hydrophilic roller 4 coated on a support is used.
In the presence of halogen ions in layer 13, C
It reduces u''+ ions.

すなわち、親水性高分子からなる親水性コロイドに、第
二銅イオン、水溶性ハロゲンイオンおよび還元剤の1種
以上を共存させた被膜を、還元剤、ハロゲンイオンおよ
び第二銅イオンの1種以上を含有する水溶液に浸漬して
還元反応を行えばよい。
That is, a coating in which one or more of cupric ions, water-soluble halogen ions, and reducing agents coexist with a hydrophilic colloid made of a hydrophilic polymer is coated with one or more of the reducing agents, halogen ions, and cupric ions. The reduction reaction may be carried out by immersing it in an aqueous solution containing.

この場合、還元反応は、pHo〜7の範囲において行う
ことができるが、p)(が6以上ではハロゲン化第−銅
以外に水酸化第一銅が出来易く、pHO〜4の範囲で還
元反応を行うことが好ましい。
In this case, the reduction reaction can be carried out in the range of pH ~ 7, but when p) It is preferable to do this.

本発明の感光性ハロゲン化第−調熱材の製法の好ましい
実施態様としては 囚 第二銅イオンを含有する親水性高分子層被膜をハロ
ゲンイオン及び還元剤を含む水溶液に浸漬する方法、 (B)  第二銅イオン及びハロゲンイオンを含有する
親水性高分子層被膜を還元剤水溶液中に浸漬する方法、 (0)  還元剤を含有する親水性高分子層被膜を第二
銅イオン及びハロゲンイオンを含有する水溶液に浸漬す
る方法、 (D)  親水性高分子層被膜を第二銅イオン、ハロゲ
ンイオンを含有する水浴液に浸漬し、次いで、還元剤水
浴液に浸漬する方法が挙げられる。
A preferred embodiment of the method for producing the photosensitive halogenated thermal control material of the present invention includes a method in which a hydrophilic polymer layer coating containing cupric ions is immersed in an aqueous solution containing halogen ions and a reducing agent; ) A method of immersing a hydrophilic polymer layer coating containing cupric ions and halogen ions in a reducing agent aqueous solution, (0) A method of immersing a hydrophilic polymer layer coating containing a reducing agent in cupric ions and halogen ions. (D) A method in which the hydrophilic polymer layer coating is immersed in a water bath solution containing cupric ions and halogen ions, and then immersed in a reducing agent water bath solution.

これらの方法において、ハロゲン化第−銅結晶を調整す
る際のハロゲンイオン濃度は、第二銅イオンに対して、
120モル%以上の濃度となるように、また還元剤は1
00モル%〜300モル%の範囲となるように、各成分
の濃度、あるいは第一銅結晶調製の際の各成分の接触時
間(浸漬時間)をコントロールすることが有効である。
In these methods, the halogen ion concentration when preparing the cupric halide crystal is as follows:
The concentration of the reducing agent is 120 mol% or more, and
It is effective to control the concentration of each component or the contact time (immersion time) of each component during cuprous crystal preparation so that the concentration ranges from 00 mol% to 300 mol%.

次に本発明の写真感光材料の製造方法のもつとも好まし
い実施態様について、更に具体的に説明する。
Next, the most preferred embodiment of the method for producing a photographic material of the present invention will be described in more detail.

(I)  水溶性第二銅化合物、水溶性ハロゲン化合物
、および親水性高分子化合物を含有する層を支持体上に
有するシートを、還元剤水溶液に浸漬し、第二銅イオン
を還元して、感光性ハロゲン化第−調熱材を製造する方
法。
(I) A sheet having a layer containing a water-soluble cupric compound, a water-soluble halogen compound, and a hydrophilic polymer compound on a support is immersed in an aqueous reducing agent solution to reduce cupric ions, A method of producing a photosensitive halogenated thermal control material.

この実施態様をさらに具体的に示すと、次のとおシであ
る。
More specifically, this embodiment is as follows.

例えば、水溶性第二銅化合物、水溶性ノーロゲン化合物
および、親水性高分子化合物を溶解してなる水溶液にお
いて、第二銅イオンに対してハロゲンイオンが100〜
400モル%でア)、第二銅化合物からの第二銅イオン
の親水性高分子に対する比が0.1〜1.0(重量比)
、好ましくは、0.2〜0.5(同上)となるように調
製した溶液を調製する。
For example, in an aqueous solution prepared by dissolving a water-soluble cupric compound, a water-soluble norogen compound, and a hydrophilic polymer compound, the ratio of halogen ion to cupric ion is 100 to
At 400 mol%, a) the ratio of cupric ions from the cupric compound to the hydrophilic polymer is 0.1 to 1.0 (weight ratio)
, preferably 0.2 to 0.5 (same as above).

これを、支持体上に、第二銅イオンが10〜100■/
血2、好ましくは15〜50■/血2となるように常法
にて塗布乾燥する。
This is placed on a support with cupric ions of 10 to 100 μ/
It is coated and dried in a conventional manner at a ratio of 2 blood, preferably 15 to 50 cm/2 blood.

そして、このシートを、還元剤(例えば、L−アスコル
ビン酸、まだは、その誘導体、ヒドラジンなど)1.0
〜20%、好ましくは2.0〜lO%の水溶液に1〜1
0分間浸漬し、次いで、1〜10分間水洗2乾燥する。
Then, this sheet was treated with a reducing agent (for example, L-ascorbic acid, its derivatives, hydrazine, etc.) at 1.0
1 to 1 in an aqueous solution of ~20%, preferably 2.0 to 10%
Soak for 0 minutes, then wash and dry for 1 to 10 minutes.

(n)  第二銅イオンおよび鋤、水性高分子化合物を
含有する層を支持体上に有するシートを、水溶性ハロゲ
ン化合物(例えば塩化カリウム。
(n) A sheet having on a support a layer containing cupric ions and a water-based polymeric compound, such as a water-soluble halogen compound (e.g. potassium chloride).

臭化カリウム、ヨウ化カリウム等)および還元剤を含有
する水溶液中に浸漬し、第二銅イオンを還元して感光性
ハロゲン化第−調熱光材料の製造方法。
A method for producing a photosensitive halogenated thermostatic light material by immersing it in an aqueous solution containing potassium bromide, potassium iodide, etc.) and a reducing agent to reduce cupric ions.

この実施態様をさらに具体的に示すと次のとおりである
This embodiment will be described more specifically as follows.

例えば、水溶性第二銅化合物および残水性高分子化合物
を溶解してなる水溶液において、第二銅化合物からの第
二銅イオンの親水性高分子に対する比(重量比)が、0
.1〜1.0(重量比)、好ましくは0.2〜0.5(
同上)となるように調製した溶液を調製する。
For example, in an aqueous solution prepared by dissolving a water-soluble cupric compound and a water-residual polymer compound, the ratio (weight ratio) of cupric ions from the cupric compound to the hydrophilic polymer is 0.
.. 1 to 1.0 (weight ratio), preferably 0.2 to 0.5 (
(Same as above).

これを、支持体上に、第二銅イオンが10〜1007v
/dl!2、好ましくは、15〜50 m7/ch2と
なるように、常法にて塗布乾燥する。
This is placed on a support with cupric ions of 10 to 1007V.
/dl! 2. Preferably, the coating is applied and dried in a conventional manner so that the rate is 15 to 50 m7/ch2.

そして、このシートを還元剤1.0〜20%、好ましく
は、2〜10%およびハロゲン化合物1.0〜20%、
好ましくは3〜10%を含有する水溶液に30秒〜10
分間、好ましくは2〜5分間浸漬し、次いで1〜10分
、好ましくは2〜7分間水洗し乾燥すればよい。
Then, this sheet is mixed with a reducing agent of 1.0 to 20%, preferably 2 to 10% and a halogen compound of 1.0 to 20%.
Preferably for 30 seconds to 10 seconds to an aqueous solution containing 3 to 10%
What is necessary is just to soak for 1 to 10 minutes, preferably for 2 to 7 minutes, and then to dry.

qm  還元剤および親水性高分子化合物を含有する層
を支持体上に有するシートを、水溶性第二銅化合物およ
び、水溶性ハロゲン化合物を含有する溶液中に浸漬し、
第二銅イオンを還元して感光性ハロゲン化第−餉惑材を
製造する方法。
qm A sheet having a layer containing a reducing agent and a hydrophilic polymer compound on a support is immersed in a solution containing a water-soluble cupric compound and a water-soluble halogen compound,
A method for producing a photosensitive halogenated diluting material by reducing cupric ions.

この実施態様をさらに具体的に示すと次のとおシである
More specifically, this embodiment is as follows.

例えば、】0〜100 yq/ctm2、好ましくは1
5〜50■Zdr&2の金属銅に相当するハロゲン化第
−銅を得るために化学量論的に必要な還元剤、および第
二銅イオンの還元反応によって得られたハロゲン化第−
銅を、金属銅に換算した際の銅と親1水性高分子との比
(重量比)が、0.1〜1.0となるように、還元剤と
親水性高分子を含有する水溶液を調製する。
For example, ]0 to 100 yq/ctm2, preferably 1
A reducing agent stoichiometrically necessary to obtain a cupric halide corresponding to metallic copper of 5 to 50 Zdr&2, and a cupric halide obtained by a reduction reaction of cupric ions.
An aqueous solution containing a reducing agent and a hydrophilic polymer is prepared so that the ratio (weight ratio) of copper to monohydrophilic polymer when converted to metallic copper is 0.1 to 1.0. Prepare.

これを支持体上に塗布乾燥して得られたシートを0.5
〜10%、好ましくは1.0〜3.0%の濃度の第二銅
イオン、および第二銅イオンに対して120〜350モ
ル%のハロゲンイオンを含有する水溶液に30秒〜5分
間浸漬し次いで1.0〜10分、好ましくは2.0〜5
.0分間水洗し乾燥すればよい。
The sheet obtained by coating this on a support and drying it is 0.5
Immersion for 30 seconds to 5 minutes in an aqueous solution containing cupric ions at a concentration of ~10%, preferably 1.0 to 3.0%, and halogen ions at a concentration of 120 to 350 mol% relative to cupric ions. Then 1.0 to 10 minutes, preferably 2.0 to 5 minutes
.. Just wash with water for 0 minutes and dry.

(IVI  親水性高分子化合物の水溶液を支持)体上
に塗布乾燥して得たシートを還元剤溶液に浸漬し、次い
でハロゲンイオンおよび第二銅イオンを含有する溶液に
浸漬し親水性高分子被膜中にて第二銅イオンを還元して
、感光性ノ・ロゲン化第−銅感光材料を製造する方法2
゜この実施態様をさらに具体的に示すと次のとおシであ
る。
(IVI Supports an aqueous solution of a hydrophilic polymer compound) A sheet obtained by coating and drying on a body is immersed in a reducing agent solution, and then immersed in a solution containing halogen ions and cupric ions to form a hydrophilic polymer coating. Method 2 of producing a photosensitive cupric photosensitive material by reducing cupric ions in the medium
This embodiment will be described in more detail as follows.

例えば、親水性高分子溶液を乾燥膜厚にて3〜15μI
nの厚さにて支持体上に塗布乾燥して得られたシートを
、10〜50%の還元剤水溶液続いて、0.5〜10%
、好ましくは1.0)3.0%の濃度の第二銅イオン、
および第二銅イオンに対して120〜350モル%のハ
ロゲンイオンを含有する水溶液に30秒〜5分間浸漬し
、欠いで1−’O〜10分、好ましくは2.0〜5.0
分間水洗し乾燥すればよい。
For example, a hydrophilic polymer solution with a dry film thickness of 3 to 15 μI
The sheet obtained by coating and drying on a support with a thickness of
, preferably 1.0) cupric ions at a concentration of 3.0%,
and immersed in an aqueous solution containing 120 to 350 mol% of halogen ions relative to cupric ions for 30 seconds to 5 minutes, and then immersed for 1-'O to 10 minutes, preferably 2.0 to 5.0
Just wash with water for a minute and dry.

以上のような各方法で得られるハロゲン化第−銅結晶の
平均粒径は、通常、0.1〜3μmである。
The average grain size of cupric halide crystals obtained by each of the above methods is usually 0.1 to 3 μm.

本発明の感光性ハロゲン化第−調熱材の調製にm==ら
hるOu”+イオンの供給源としては、水溶性無機第二
銅塩、例えば、硝酸第二銅、硫酸銅、塩化第二銅、臭化
第二銅が挙げられるが、これらの中から適宜選択して用
いることが可能である。
In the preparation of the photosensitive halogenated heat regulating material of the present invention, the source of Ou''+ ions may include water-soluble inorganic cupric salts such as cupric nitrate, copper sulfate, chloride, etc. Examples include cupric cupric and cupric bromide, and it is possible to appropriately select and use from these.

またハロゲンイオンの供給源としては、アルカリ金属ハ
ライド、例えば塩化カリ、塩化ナトリウム、臭化カリウ
ム、臭化ナトリウム、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウ
ム等の中から適宜選択して用いることが可能である。た
だし、Ou”イオンの供給源として、ノ・ロゲン化第二
銅を用いる場合には、ハロゲンイオンの供給源としてア
ルカリ金属ハライドを添゛加する必要はないが、塩臭化
第一銅、法具化第−銅結晶等の二種以上のハライドを含
む混晶を作る際には、その目的に応じてアルカリ金属ノ
・ライドを添加すればよい。
The source of halogen ions can be appropriately selected from alkali metal halides such as potassium chloride, sodium chloride, potassium bromide, sodium bromide, potassium iodide, and sodium iodide. However, when cupric halogenide is used as a source of halogen ions, there is no need to add an alkali metal halide as a source of halogen ions, but cuprous chloride, copper chloride, When producing a mixed crystal containing two or more types of halides, such as an embodied cupric crystal, an alkali metal oxide may be added depending on the purpose.

本発明の感光材料の製造に用いられるOu”+イオンの
還元剤としては、亜硫酸、亜硫酸のアルカリ金属塩、亜
硝酸、亜硝酸のアルカリ金属塩。
The Ou''+ ion reducing agent used in the production of the photosensitive material of the present invention includes sulfurous acid, an alkali metal salt of sulfite, nitrous acid, and an alkali metal salt of nitrous acid.

L−アスコルビン酸、L−アスコルビン酸誘導体、アラ
ゼ・アスコルビン酸、L−エリスロアスコルビン酸誘導
体のアルカリ金属塩、ヒドラジン、フェニルヒドラジン
、トリフェニル・フォスファイト、アミノポラン、ジア
ルキル・アミノ・iラン(例えば、ジメチル・アミノ・
ポラン)等が有利に用いられる。
L-ascorbic acid, L-ascorbic acid derivatives, alase ascorbic acid, alkali metal salts of L-erythroascorbic acid derivatives, hydrazine, phenylhydrazine, triphenyl phosphite, aminoporan, dialkyl amino i-rane (e.g. dimethyl ·amino·
Pollan) etc. are advantageously used.

本発明において、支持体上に塗設される親水性コロイド
層の親水性コロイドとしては、従来のハロゲン化銀乳剤
の調製時の保護コロイドとして有用なもの、例えば、ゼ
ラチン、ゼラチン誘導体、アラビアゴム、アルブミン、
寒天等の天然高分子化合物、および、ポリビニルアルコ
/ 一ル、ホリヒニルピロリトン、セルロースエーテル、部
分的に加水分解した酢酸セルロース等の合成高分子化合
物の中から任意のものを用りることかできる。
In the present invention, the hydrophilic colloids in the hydrophilic colloid layer coated on the support include those useful as protective colloids in the preparation of conventional silver halide emulsions, such as gelatin, gelatin derivatives, gum arabic, albumin,
Any of natural polymeric compounds such as agar, and synthetic polymeric compounds such as polyvinylalcohol, pyrrolitone, cellulose ether, and partially hydrolyzed cellulose acetate may be used. I can do it.

この場合、親水性高分子化合物は常法にて塗布できる範
囲の濃度で使用されるが、一般的には3〜10%程度の
濃度で使用される。
In this case, the hydrophilic polymer compound is used at a concentration within a range that can be coated by a conventional method, but is generally used at a concentration of about 3 to 10%.

さらには、ノ・ロゲン化第−銅感光材料に用いられてい
るもの、例えば、紙のような多孔質の支持体、あるいは
ガラス、アルミニウム、銅。
Furthermore, those used in cupric photosensitive materials such as porous supports such as paper, glass, aluminum, and copper.

亜鉛、及び錫のような金属板、または、酢酸セルロース
、硝酸セルロース、酢酸酪酸セルロー/(、J リxテ
レンテレフタレート、ポリスチレンおよびバライタ紙、
樹脂加工紙のような従来からのフィルム支持体等が使用
できる。
Metal plates such as zinc, and tin, or cellulose acetate, cellulose nitrate, cellulose acetate butyrate/(, J Rix terene terephthalate, polystyrene and baryta paper,
Conventional film supports such as resin-treated paper can be used.

上記のような方法にて支持体に塗布された親水性高分子
化合物の被膜中にて調製された感光性ハロゲン化第−銅
結晶からなる本発明の感光材料は、乾燥状態においては
、感光性を有しないが、リサーチ・ディスクロージャー
l615166(1976)、A15251 (197
6)。
The photosensitive material of the present invention, which is composed of a photosensitive cupric halide crystal prepared in a film of a hydrophilic polymer compound applied to a support by the method described above, is photosensitive in a dry state. Research Disclosure l615166 (1976), A15251 (197
6).

415252(1976)、’415959(1976
)等に記載されている露光、現像処理方法を適用するこ
とによシ現像することが可能である。
415252 (1976), '415959 (1976)
It is possible to develop the image by applying the exposure and development processing methods described in ).

例えば、水、アルコール(メタノール、エタノールなど
)、グリコール(例えばエチレングリコール)等の極性
溶媒を用いた公知の現像液に、感光材料を5秒〜60秒
間浸漬した後、湿潤状態にて、260〜450mμの範
囲の波長を有する光源にて画像様露光を行いJさらに、
公知の現像液で現像をし、かつ公知の定着を行うことに
よシ、粒状性に優れたコントラストが高い良好な画像を
得ることが出来る。
For example, a photosensitive material is immersed in a known developer using a polar solvent such as water, alcohol (methanol, ethanol, etc.), glycol (e.g. ethylene glycol) for 5 to 60 seconds, and then immersed in a wet state for 260 to Perform imagewise exposure with a light source having a wavelength in the range of 450 mμ, and
By developing with a known developer and performing known fixing, a good image with excellent graininess and high contrast can be obtained.

■ 発明の具体的効果 本発明によれば、特開昭57−138633号、特開昭
57−140317号、特開昭57−154283号に
記載されている方法、すなわち、金属コロイド粒子また
は難溶性金属化合物のコロイド粒子を含む親水性高分子
溶液の存在下で、水溶性第二銅塩の水溶液と、水溶性ハ
ロゲン塩および還元剤溶液とを混合し、次いで過剰の塩
類を除去する脱塩・水洗処理、再溶解処理等を行い、さ
らに、支持体上に塗布・乾燥して得られた感材と比較し
て、極めて短時の内に、直接的に感光性ハロゲン化第−
銅を形成でき、しかも上記方法によって得られた感光性
/・ロゲン化第−銅感材とほぼ同等の写真性態を有する
感光材料を製造することができる。
■Specific Effects of the Invention According to the present invention, the method described in JP-A-57-138633, JP-A-57-140317, and JP-A-57-154283, that is, metal colloid particles or poorly soluble A desalination process in which an aqueous solution of a water-soluble cupric salt, a water-soluble halogen salt and a reducing agent solution are mixed in the presence of a hydrophilic polymer solution containing colloidal particles of a metal compound, and then excess salts are removed. Compared to a sensitive material obtained by washing with water, redissolving, etc., and then coating and drying on a support, the photosensitive halogenated photosensitive material can be directly processed in an extremely short period of time.
It is possible to produce a photosensitive material which can form copper and has photographic properties almost equivalent to the photosensitive cupric chloride photosensitive material obtained by the above method.

■ 発明の具体的実施例、比−較例、実施例以下、実施
例によシ本発明を更に、具体的に説明するが、本発明は
これらに限定されるものではない。
(2) Specific Examples, Comparative Examples, and Examples of the Invention The present invention will now be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1 下記の組成となる様に、/々ライタ紙上に常法によシ、
塗布・乾燥したシートを作成した。
Example 1 The following composition was prepared by printing on lighter paper in the usual manner.
A coated and dried sheet was created.

〜 ゼラチン      5.0fr/血20uBr28.
85 fr/d*2 サポニン      20η/− ホルマリン(1−o謝#液) 1.5 ml/ frG
eLこのシートを下記の組成からなる溶液−1に、20
℃にて2分間浸漬し、欠いで純水に2分間浸漬し、可溶
性塩類を除去し、乾燥した。 この感光性臭化第一銅感
光材料シートを試料m1とする。
~ Gelatin 5.0fr/Blood 20uBr28.
85 fr/d*2 Saponin 20η/- Formalin (1-o liquid) 1.5 ml/frG
eLThis sheet was added to solution-1 consisting of the following composition for 20 minutes.
℃ for 2 minutes, and then immersed in pure water for 2 minutes to remove soluble salts and dry. This photosensitive cuprous bromide photosensitive material sheet is designated as sample m1.

(溶液−1) この試料について、X−線マイクロアナライザーにて臭
化第一銅結晶の含量を測定したところ、金属銅に換算し
て2.21fr/ m”含有されていることが、また、
電子顕微鏡写XKよシ臭化第−銅結晶粒子の平均粒子径
を調べた結果帆5±0.06μであった。
(Solution-1) When the content of cuprous bromide crystals in this sample was measured using an X-ray microanalyzer, it was found that the content was 2.21 fr/m'' in terms of metallic copper.
The average particle diameter of the cupric bromide crystal particles was examined by electron micrograph XK and was found to be 5±0.06 μm.

実施例2 下記の組成となる様に、バライタ紙上に常法に従って塗
布乾燥したシートを作成した。
Example 2 A sheet having the following composition was coated and dried on baryta paper according to a conventional method.

このシートを下記の組成からなる溶液−2に25℃にて
2分間浸漬し、次いで、純水に1.0分間浸漬し、可溶
性塩類を除去し、乾燥した。
This sheet was immersed in Solution 2 having the composition shown below at 25° C. for 2 minutes, then in pure water for 1.0 minutes to remove soluble salts, and dried.

この感光性塩化第一銅感光材料のシートを試料魚2とす
る。
This sheet of photosensitive cuprous chloride photosensitive material is designated as sample fish 2.

(溶液−2) この試料について、X線マイクロアナライザーにて臭化
第一銅含量を測定したところ、金属に換算して、2.1
7 rr/ m2含有されていることが、また、電子顕
微鏡写真よ多結晶粒子の平均粒径を調べた結果、0.7
4±0.08μであることがわかった。
(Solution-2) When the cuprous bromide content of this sample was measured using an X-ray microanalyzer, it was found to be 2.1% in terms of metal.
As a result of examining the average grain size of polycrystalline particles from electron micrographs, it was found that the content was 0.7 rr/m2.
It was found to be 4±0.08μ.

実施例3 下記の組成となる様にバライタ紙上に常法に従って塗布
乾燥したシートを作成した。
Example 3 A sheet having the following composition was coated and dried on baryta paper according to a conventional method.

このシートを前記実施例1にて用いた還元剤溶液(溶液
−1)に20℃にて3分間浸漬し、次いで、純水に2分
間浸漬し、可溶性塩類を除去し、次いで乾燥した。 こ
の感光性塩臭化第一銅感光材料シートを試料N113と
する。
This sheet was immersed in the reducing agent solution (solution-1) used in Example 1 at 20° C. for 3 minutes, then in pure water for 2 minutes to remove soluble salts, and then dried. This photosensitive cuprous chlorobromide photosensitive material sheet is designated as sample N113.

この試料について、元素分析によジハロゲン化第−銅結
晶の組成を調べた結果、O4−:65mot%、 13
r−: 35 mot%であシ、また、X−線マイクロ
アナライザーにて該ハロゲン化第一銅の被膜中への含有
量を測定した結果、金属銅に換算して2059r/ m
”含有されていることが、さらには、電子顕微鏡写真に
よ多結晶粒子の平均粒径を調べた結果、0.63±0.
06μであることがわかった。
Regarding this sample, the composition of the cupric dihalide crystal was investigated by elemental analysis, and the result was that O4-: 65 mot%, 13
r-: 35 mot%, and as a result of measuring the cuprous halide content in the film using an X-ray microanalyzer, it was 2059 r/m in terms of metallic copper.
Furthermore, as a result of examining the average grain size of the polycrystalline particles using electron micrographs, it was found that the polycrystalline particles contained 0.63±0.
It was found to be 0.06μ.

実施例4 下記の組成となる様に、29242紙上に常法に従って
Ou (NO3)2のゼラチン溶液を塗布し乾燥したシ
ートを作成した。
Example 4 A gelatin solution of Ou (NO3)2 was coated and dried on 29242 paper according to a conventional method to prepare a sheet having the following composition.

このシートを下記の組成からなる溶液−3に20℃にて
、3分間浸漬し、次いで、純水にて1分間浸漬し、可溶
性塩類を除去し、乾燥した。
This sheet was immersed in Solution-3 having the following composition at 20° C. for 3 minutes, then in pure water for 1 minute to remove soluble salts, and dried.

この感光性塩臭化第一銅感光材料シートを試料随4とす
る。
This photosensitive cuprous chlorobromide photosensitive material sheet was designated as Sample No. 4.

(溶液−3) この試料について元素分析によりハロゲン化第−銅結晶
のハロゲン組成を調べた結果cf ;51 mot%、
 Br−: 49 mot%であシ、また、X−線マイ
クロアナライザーにて、該ハロゲン化第一銅の被膜中へ
の含有量を測定した結果、金属銅に換算して1.9 t
r/ m”含有されていることが、さらには、電子顕微
鏡写真により結晶粒子の平均粒径を調べた結果、0.6
2士帆07μであることがわかった。
(Solution-3) The halogen composition of the cupric halide crystal of this sample was investigated by elemental analysis, and the result was cf; 51 mot%.
Br-: 49 mot%, and as a result of measuring the cuprous halide content in the coating using an X-ray microanalyzer, it was 1.9 t in terms of metallic copper.
Furthermore, as a result of examining the average grain size of crystal grains using electron micrographs, it was found that the average grain size of crystal grains was 0.6
It turned out to be 2 Shiho 07μ.

実施例5 下記の組成となる様゛に、バライタ紙上に常法に従って
塗布−乾燥したシートを作成した。
Example 5 A sheet having the following composition was coated and dried on baryta paper according to a conventional method.

このシートを下記の組成からなる溶液−4に20℃にて
2分間浸漬し、次いで、純水にて2分間浸漬し可溶性塩
類を除去して乾燥した。
This sheet was immersed in Solution-4 having the composition shown below at 20° C. for 2 minutes, then in pure water for 2 minutes to remove soluble salts, and then dried.

この感光性塩化第一銅感光材料シートを試料随5とする
This photosensitive cuprous chloride photosensitive material sheet was designated as Sample No. 5.

この試料についてX−線マイクロアナライザーにてゼラ
チン被膜中に含有する塩化第一銅を測定したところ、金
属銅に換算して52−10fr/rr?含有されている
ことが、壕だ、電子顕微鏡写真によシ結晶粒子の平均粒
径を調べた結果0.8±0.09μであることがわかっ
た。
When this sample was measured for cuprous chloride contained in the gelatin coating using an X-ray microanalyzer, it was found to be 52-10 fr/rr in terms of metallic copper. The average grain size of the crystal grains was examined using electron micrographs and found to be 0.8±0.09μ.

実施例6 下記の組成となる様に、バライタ紙上にL−アスコルビ
ン酸/ゼラチン水溶液を常法に従って塗布乾燥したシー
トを作成した。
Example 6 A sheet having the composition shown below was prepared by applying an aqueous solution of L-ascorbic acid/gelatin on baryta paper according to a conventional method and drying it.

このシートを下記の組成からなる溶液−5に25℃にて
3分間浸漬し、次いで、純水に3分間浸漬し、可溶性塩
類を除去し、乾燥した。
This sheet was immersed in Solution-5 having the following composition at 25° C. for 3 minutes, then in pure water for 3 minutes to remove soluble salts, and dried.

この感光性塩臭化第一銅感光材料シートを試料随6とす
る。
This photosensitive cuprous chlorobromide photosensitive material sheet was designated as Sample No. 6.

(溶液−5) この試料について元素分析によジハロゲン化第−銅結晶
のハロゲン組成を調べた結果Ct−:57.4 mo1
%+ Br−=41−8 mo1%であシ、まだ、X線
マイクロアナライザーにてゼラチン被膜中の該Jπ臭化
第一銅の含有量を測定した結果、金属銅に換算して2.
34tr/rr?含有されていることが、さらには、電
子顕微鏡写真によシ結晶粒子の平均粒径を調べた結果、
0.54士帆08μであることがわかった。
(Solution-5) The halogen composition of the cupric dihalide crystal of this sample was investigated by elemental analysis, and the result was Ct-: 57.4 mo1
%+Br-=41-8 mo1% However, as a result of measuring the content of the Jπ cuprous bromide in the gelatin coating using an X-ray microanalyzer, it was found to be 2.5% in terms of metallic copper.
34tr/rr? Furthermore, as a result of examining the average particle size of crystal grains using electron micrographs, it was found that
It was found to be 0.54 Shiho and 08μ.

実施例7 下記の組成と麦る様に、バライタ紙上にゼラチン水溶液
を常法に従って塗布し、乾燥したシートを作成した。
Example 7 An aqueous gelatin solution was coated on baryta paper according to a conventional method, and a dried sheet was prepared using the following composition.

組成 このシートを下記の組成からなる溶液−6に30℃にて
3分間浸漬し、次いで、溶液−7に2分間浸漬し、さら
には純水に2分間浸漬し、可溶性塩類を除去し乾燥した
Composition This sheet was immersed for 3 minutes at 30°C in solution 6 consisting of the following composition, then immersed in solution 7 for 2 minutes, and further immersed in pure water for 2 minutes to remove soluble salts and dry. .

この感光性塩臭化第一銅感光材料シートを試料m7とす
る。
This photosensitive cuprous chlorobromide photosensitive material sheet is designated as sample m7.

(溶液−6) (溶液−7) この試料について、元素分析によりノ・ロゲン化第−銅
結晶のハロゲン組成を調べだ結果、06−865 mo
t%、I−:128 mot%であシ、また、X線マイ
クロアナライザーにてゼラチン被膜中の該塩沃化第−銅
の含有量を測定した結果、金属銅に換算して1.51F
r/−含有されていることが、さらには、電子顕微鏡写
真によシ結晶粒子の平均粒径を調べた結果0.48士帆
07μであることがわかった。
(Solution-6) (Solution-7) Regarding this sample, the halogen composition of the cupric halogenide crystal was investigated by elemental analysis. As a result, 06-865 mo
t%, I-: 128 mot%, and as a result of measuring the cupric chloride iodide content in the gelatin coating using an X-ray microanalyzer, it was 1.51F in terms of metallic copper.
Furthermore, as a result of examining the average grain size of the crystal grains using electron micrographs, it was found that the average grain size of the crystal grains was 0.48 and 07μ.

比較例1 下記の組成の溶液を用いて塩臭化第一銅結晶を作った。Comparative example 1 Cuprous chlorobromide crystals were produced using a solution with the following composition.

(溶液−8) すなわち、液温40℃で溶液−8を攪拌しつつ、これに
溶液−9を瞬時に添加し、20分間攪拌し続けた。その
後以下の操作によシ脱塩・水洗を行った。
(Solution-8) That is, while stirring Solution-8 at a liquid temperature of 40°C, Solution-9 was instantly added thereto, and stirring was continued for 20 minutes. Thereafter, desalting and washing with water were performed by the following operations.

沈澱剤として、花王ア、ト、う冬社製デモール・N5%
水溶液と硫酸マグネシウム30%水溶液を1=7の割合
で沈澱を生じるまで加えた。静置によシ沈澱が沈降した
後、上澄みを傾斜し、蒸留水3000−を加え、沈澱を
再分散させた。
As a precipitant, Kao A, To, Utosha Demol N5%
An aqueous solution and a 30% aqueous magnesium sulfate solution were added at a ratio of 1=7 until precipitation occurred. After the precipitate settled by standing still, the supernatant was decanted and 3,000 ml of distilled water was added to redisperse the precipitate.

30%硫酸マグネシウム水溶液を再び沈澱ができるまで
加えた。
A 30% aqueous magnesium sulfate solution was added again until a precipitate formed.

結晶粒子が沈降した後、上澄液を傾斜しオセインゼラチ
ン水溶液(ゼラチン45?rを含む)を加えて40℃に
て30分間撹拌によって分散し、蒸留水にて総量を10
00−に調製した。
After the crystal particles have settled, the supernatant liquid is decanted, an ossein gelatin aqueous solution (containing 45 ml of gelatin) is added, and the mixture is dispersed by stirring at 40°C for 30 minutes.
It was adjusted to 00-.

この乳剤について、電子顕微鏡写真によ多結晶粒子を調
べた結果、平均粒径は0.6±0.07μであシ、また
、この乳剤について元素分析によジハロゲン化第−銅結
晶のハロゲン組成を調べた結果、O6−: 73.7 
mo1%、 Br−: 26.3mo拐であった。 こ
の塩臭化第一銅乳剤について、ゼラチン対塩臭化第−銅
の比を4対1とし、シ′かも、この乳剤のゼラチン濃度
が59I;になるように乳剤液を調製し、塩臭化第一銅
の塗布量が金属銅に換算して2.0 Yr/ tr?と
なるように、ノ々ライタ紙上に塗布した。
As a result of examining the polycrystalline grains of this emulsion using electron micrographs, the average grain size was found to be 0.6±0.07 μm. Elemental analysis of this emulsion revealed that the halogen composition of the cupric dihalide crystals As a result of investigating, O6-: 73.7
mo1%, Br-: 26.3 mo. For this cuprous chloride bromide emulsion, the ratio of gelatin to cupric chloride bromide was set to 4:1, and an emulsion solution was prepared so that the gelatin concentration of this emulsion was 59I; Is the coating amount of cuprous oxide 2.0 Yr/tr in terms of metallic copper? It was applied on Nono Writer paper so that

この感光材料を比較試料m1とした、 比較例2 下記の組成の2液を用いて、0uBrl結晶よC;’Z
 L’AM−frZM L*、       。
This photosensitive material was used as comparative sample m1. Comparative Example 2 Using two liquids with the following composition, 0uBrl crystals were
L'AM-frZM L*, .

(溶液−IO)          、・1(溶液−1
1) 溶液−1Oを攪拌しつつ、溶液−11を瞬時に添加し、
反応時の温度を40℃に保ち10分間攪拌を続けた。そ
の後上記比較例−1の水洗。
(Solution-IO) , 1 (Solution-1
1) Add solution-11 instantly while stirring solution-1O,
The temperature during the reaction was maintained at 40°C and stirring was continued for 10 minutes. After that, the above Comparative Example-1 was washed with water.

脱塩処理に順じた処理を行った。A treatment similar to the desalting treatment was performed.

水洗、脱塩処理後、オセイン・ゼラチン水溶液(ゼラチ
ン40tr含有)を加えて40℃に保ち、30分間攪拌
して分散し、蒸留水で総量をi、oo。
After washing with water and desalting, an aqueous ossein/gelatin solution (containing 40 tr of gelatin) was added, kept at 40°C, stirred for 30 minutes to disperse, and the total volume was adjusted to i, oo with distilled water.

meに調整した。Adjusted to me.

この乳剤について電子顕微鏡写真によ多結晶粒子を調べ
たところ、平均粒径は0.4±0.06μであり、また
、元素分析によジハロゲン化第−銅結晶のハロゲン組成
を調べた結果、Br−。
When the polycrystalline grains of this emulsion were examined using electron micrographs, the average grain size was 0.4±0.06μ, and the halogen composition of the cupric dihalide crystals was examined using elemental analysis. Br-.

91 、6 mot%、 ニー: 8.2 mot%で
おった。
91, 6 mot%, knee: 8.2 mot%.

この法具化第−銅乳剤について、ゼラチン対法具化第−
銅の比を4対1とし、しかも、乳剤のゼラチン濃度が5
%になるように乳剤液を調製し、法具化第−銅の塗布量
が金属銅に換算して2.0fr/rrlとなる様に、バ
ライタ紙上に塗布した。 この感光材料を比較例試料鳩
2とした。
Regarding this copper emulsion, gelatin vs. copper emulsion
The copper ratio is 4:1, and the gelatin concentration of the emulsion is 5:1.
%, and coated on baryta paper so that the coating amount of copper cupric was 2.0 fr/rrl in terms of metallic copper. This photosensitive material was designated as Comparative Sample Pigeon 2.

実施例 実験例1〜7および比較例1.2にて調製されたハロゲ
ン化第−調熱光材料(試料m1−N17、比較試料ml
 、m2)を下記の組成の現像液にて20℃、30秒間
浸漬処理した後、260〜420r1mの範囲の紫外線
を有する光源を用いて光楔を通して10’ erf/ 
cr!の露光を与えた後、下記の組成の現像液にて20
℃2.7分間現像処理した。 その後定着水洗処理を行
った。
Examples Experimental Examples 1 to 7 and Comparative Example 1.2 prepared halogenated thermostatic light materials (Samples m1-N17, Comparative Samples
, m2) in a developer having the following composition at 20°C for 30 seconds, and then passed through a light wedge using a light source with ultraviolet rays in the range of 260 to 420 r1m to 10' erf/
CR! After exposure to light of
It was developed for 2.7 minutes at ℃. After that, a fixing and washing treatment was performed.

〔現像液〕[Developer]

〔定着液〕 センミドメトリーの結果を第1表に示す。 [Fixer] The results of senmidometry are shown in Table 1.

第1表に示される結果から、先の提案に係る従来のハロ
ゲン化第−銅乳剤の製造方法と比較したとき、本発明に
よれば、きわめて簡便な方法にて製造でき、かつこれと
ほぼ同等の写真性能を示すことがわかる。
From the results shown in Table 1, when compared with the conventional production method of cupric halide emulsion according to the previous proposal, according to the present invention, it can be produced by an extremely simple method, and it is almost equivalent to this method. It can be seen that the photographic performance is shown as follows.

出願人 小西六写真工業株式会社 代理人 弁理士 石 井 陽 −Applicant: Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. Agent Patent Attorney Yo Ishii -

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、支持体上に塗設された親水性コロイド層中にて、ハ
ロゲンイオンの存在下で第二銅イオンを還元して、微粒
子ハロゲン化第−銅結晶を生成させることを特徴とする
ハロゲン化第−調熱光材料の製造方法。
1. Halogenation characterized by reducing cupric ions in the presence of halogen ions in a hydrophilic colloid layer coated on a support to produce fine-particle cupric halide crystals No. 1 - Method for producing a thermostatic light material.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57138633A (en) * 1981-02-21 1982-08-27 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Preparation of photosensitive silver halide cuprous emulsion
JPS57140317A (en) * 1981-02-21 1982-08-30 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Manufacture of photosensitive cuprous halide emulsion
JPS57154233A (en) * 1981-02-21 1982-09-24 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive cuprous halide emulsion and its manufacture

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JPS57154233A (en) * 1981-02-21 1982-09-24 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive cuprous halide emulsion and its manufacture

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