JPS592001A - 光照射装置 - Google Patents
光照射装置Info
- Publication number
- JPS592001A JPS592001A JP10987582A JP10987582A JPS592001A JP S592001 A JPS592001 A JP S592001A JP 10987582 A JP10987582 A JP 10987582A JP 10987582 A JP10987582 A JP 10987582A JP S592001 A JPS592001 A JP S592001A
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- JP
- Japan
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- grooves
- alloy
- pipes
- plate
- light irradiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
- H01L21/67115—Apparatus for thermal treatment mainly by radiation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
- H01L21/67109—Apparatus for thermal treatment mainly by convection
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
大発明は、半導体ウェハーの加熱処理に利用できる光照
射装置に関する。
射装置に関する。
上記光照射装置は例えば特開昭５６−４８１２８号にも
紹介されているように、被加熱物を比較的短い時間で高
温に昇温せしめることができる特徴があり、その代りに
使用する光源の数は多く、電気的にはかなりの大容量と
なることがある。したがって光源やミラーをしっかり冷
却する必要がわり、一般には「風冷」だけでは不充分な
ので例えば特公昭５０−３０９５０号などでは「水冷」
も組み合せている。
紹介されているように、被加熱物を比較的短い時間で高
温に昇温せしめることができる特徴があり、その代りに
使用する光源の数は多く、電気的にはかなりの大容量と
なることがある。したがって光源やミラーをしっかり冷
却する必要がわり、一般には「風冷」だけでは不充分な
ので例えば特公昭５０−３０９５０号などでは「水冷」
も組み合せている。
ところで水冷型ミラーは、アルミニウムが多く用いられ
るが、アルミニウムは軽量で成形性は良いが冷却水に腐
蝕されやすかったり、冷却水用パイプを熔接しにくかっ
たりして冷却の点では少々難点があること、更に、光で
物を加熱する場合は、赤外線をよく反射すると言う理由
でミラーに金メッキをほどこすことがあるが、アルミニ
ウムにはこの金メッキがのりにくかったり、冷却が不充
分だとはがれやすかったりし、これらの種々の事情が重
なって、物を加熱する光照射装置としては不都合なこと
が多い。例えば、被加熱処理物を透明な容器に入れて、
容器の外部から光の照射で加熱する場合（例えば特開昭
５６−１００４１２号）、はがれた金メッキの破片が透
明容器に耐着したり、冷却が不充分だと、ミラーの基台
やメッキ層からの蒸散物が比較的温度があまりあがって
いない透明容器をくもらせたりすることがちや、電気的
に大容量の光照射装置では透明容器の破損の原因になっ
たり、被処理物の加熱が不充分だったりする欠点がある
。
るが、アルミニウムは軽量で成形性は良いが冷却水に腐
蝕されやすかったり、冷却水用パイプを熔接しにくかっ
たりして冷却の点では少々難点があること、更に、光で
物を加熱する場合は、赤外線をよく反射すると言う理由
でミラーに金メッキをほどこすことがあるが、アルミニ
ウムにはこの金メッキがのりにくかったり、冷却が不充
分だとはがれやすかったりし、これらの種々の事情が重
なって、物を加熱する光照射装置としては不都合なこと
が多い。例えば、被加熱処理物を透明な容器に入れて、
容器の外部から光の照射で加熱する場合（例えば特開昭
５６−１００４１２号）、はがれた金メッキの破片が透
明容器に耐着したり、冷却が不充分だと、ミラーの基台
やメッキ層からの蒸散物が比較的温度があまりあがって
いない透明容器をくもらせたりすることがちや、電気的
に大容量の光照射装置では透明容器の破損の原因になっ
たり、被処理物の加熱が不充分だったりする欠点がある
。
本発明は上記事情を考慮してなされたものであって、そ
の目的は、ミラーの冷却が十分であり、透明容器に対し
てもその破損原因にならないような新規な光照射装置を
提供することにあり、構成上、アルミニウム、アルミニ
ウム合金、銅、銅合金から選ばれた金属材料よりなり、
その前面を鏡面仕上し、背面に溝を設けたミラー基台と
、前記溝に押圧してか＼え込ませた、銅もしくは銅合金
のパイプと、前記ミラー基台の前面側に配置した光源と
を含むところに特徴がある。
の目的は、ミラーの冷却が十分であり、透明容器に対し
てもその破損原因にならないような新規な光照射装置を
提供することにあり、構成上、アルミニウム、アルミニ
ウム合金、銅、銅合金から選ばれた金属材料よりなり、
その前面を鏡面仕上し、背面に溝を設けたミラー基台と
、前記溝に押圧してか＼え込ませた、銅もしくは銅合金
のパイプと、前記ミラー基台の前面側に配置した光源と
を含むところに特徴がある。
以下図面を参照しながら、本発明光照射装置の実施例の
一つを説明する。
一つを説明する。
第１図は、実施例装置の要部の説明図であって、１は、
消費電力２ＫＷの棒状のハロゲン電球、２は、石英のよ
うな透明容器６内に配置され、加熱処理されるべきシリ
コンウェハー、３は五徳状のウェハ一台、４は押出し成
形されたアルミニウムで出来たミラー基台である。ハロ
ゲン電球１のフィラメントの全長は約２０ｃＰＲ，電球
パルプの外径は約１謂で、１ｅＭｇ間隔で配置され、電
球１け、ミラー基台４０曲面に設けた＃Ｉ１４αに受容
され、全体としては、略２０ｃｍ Ｘ ８ ｃｍ程度の
面光源を形成するようにしている。これに対し、シリコ
ンウェハーの方は、直径２インチの大きさをしており、
１回につき２〜４枚程加熱処理できるものである。そし
て、ミラー基台４の背面には、銅パイプ５をか＼え込む
ｎ４ｂを設けておくが、同図では、押圧してか＼見込ま
せる前の状態を示している。第２図は、押圧した状態の
拡大説明図であるが、矢印２もしくはＶけ、押圧方向を
示し、矢印２は銅パイプの変形方向を示す。
消費電力２ＫＷの棒状のハロゲン電球、２は、石英のよ
うな透明容器６内に配置され、加熱処理されるべきシリ
コンウェハー、３は五徳状のウェハ一台、４は押出し成
形されたアルミニウムで出来たミラー基台である。ハロ
ゲン電球１のフィラメントの全長は約２０ｃＰＲ，電球
パルプの外径は約１謂で、１ｅＭｇ間隔で配置され、電
球１け、ミラー基台４０曲面に設けた＃Ｉ１４αに受容
され、全体としては、略２０ｃｍ Ｘ ８ ｃｍ程度の
面光源を形成するようにしている。これに対し、シリコ
ンウェハーの方は、直径２インチの大きさをしており、
１回につき２〜４枚程加熱処理できるものである。そし
て、ミラー基台４の背面には、銅パイプ５をか＼え込む
ｎ４ｂを設けておくが、同図では、押圧してか＼見込ま
せる前の状態を示している。第２図は、押圧した状態の
拡大説明図であるが、矢印２もしくはＶけ、押圧方向を
示し、矢印２は銅パイプの変形方向を示す。
第１図、第２図を用いて押圧の様子を説明すると、溝４
ｂの断面は、半周よりや＼多い円の一部で、パイプ５の
外径は、溝４ｂの入口４ｃよりゃ＼小きくしておき、パ
イプ５を溝４ｂに挿入した後パイプ５に２方向に圧力を
かけると、パイプ５は２方向へ変形してパイプ５の外面
と溝４ｂの内面とは良好に密着する。その密着パイプを
５αとして例示する。
ｂの断面は、半周よりや＼多い円の一部で、パイプ５の
外径は、溝４ｂの入口４ｃよりゃ＼小きくしておき、パ
イプ５を溝４ｂに挿入した後パイプ５に２方向に圧力を
かけると、パイプ５は２方向へ変形してパイプ５の外面
と溝４ｂの内面とは良好に密着する。その密着パイプを
５αとして例示する。
他方、溝４ｂを形成する凸条４ｄが比較的薄い場合は、
凸条４ｄに１方向へ圧力を加え、パイプ５が２方向パイ
プの寸法例は、肉厚１襲、内径０．６傭程度である。
凸条４ｄに１方向へ圧力を加え、パイプ５が２方向パイ
プの寸法例は、肉厚１襲、内径０．６傭程度である。
上記のように銅パイプ５を溝４ｂにか＼え込ませた状態
で、ハロゲン電球１を４本とも２ＫＷで全点灯せしめる
と、シリコンウェハーの表面は約１０秒程度で１０００
ｔ；程度まで加熱できるとともに、銅パイプの内部を
通過する冷却水の方は、市水を１〜２ ｔ／−ｆｊで流
す。この場合で、ミラー基台の前面の最高温度は９０Ｃ
以下に抑制することができ、ミラーからの蒸散物が透明
容器６を外側から汚染して光の透過をさまたげ、シリコ
ンウェハーの加熱処理をさまたげたり、容器自身が光を
吸収して昇温するようなこともなく、いたってすぐれた
光照射装置を得ることができる。特に、光の照射で物を
加熱する場合、可視光から赤外光にまたがって光を利用
するから、鏡面には１０００〜１００００ Ｘ の厚み
の金蒸着もしくは金メッキをほどこすことが多く、既知
の如く、この金膜は、ミラーの温度が高いと案外いたみ
やすい。しかし上記装置でははがれや蒸散物による容器
６の外側からの汚染がない。
で、ハロゲン電球１を４本とも２ＫＷで全点灯せしめる
と、シリコンウェハーの表面は約１０秒程度で１０００
ｔ；程度まで加熱できるとともに、銅パイプの内部を
通過する冷却水の方は、市水を１〜２ ｔ／−ｆｊで流
す。この場合で、ミラー基台の前面の最高温度は９０Ｃ
以下に抑制することができ、ミラーからの蒸散物が透明
容器６を外側から汚染して光の透過をさまたげ、シリコ
ンウェハーの加熱処理をさまたげたり、容器自身が光を
吸収して昇温するようなこともなく、いたってすぐれた
光照射装置を得ることができる。特に、光の照射で物を
加熱する場合、可視光から赤外光にまたがって光を利用
するから、鏡面には１０００〜１００００ Ｘ の厚み
の金蒸着もしくは金メッキをほどこすことが多く、既知
の如く、この金膜は、ミラーの温度が高いと案外いたみ
やすい。しかし上記装置でははがれや蒸散物による容器
６の外側からの汚染がない。
上記実施例は、ハロゲン電球からの可視光から赤外光に
またがる放射光でシリコンウェハーを加熱処理するもの
であるが、上記光照射装置は、塗料やインクの乾燥等信
の用途にも利用でき、その場合、透明容器は蒸発した溶
剤の排絡として利用できる。また上記ハロゲン電球に代
えて大出力の紫外線ランプを配置し、紫外線硬化型のイ
ンクや塗料の硬化、その細光化学反応を生起せしめても
良く、この場合、前記容器は化学反応容器としての役目
を果す。たりし紫外線照射器として利用する場合は、金
膜の形成は不要で、ミラー基台がアルミニウムの場合は
化学研磨のみの方が良い。いづれにしても鏡面の形成は
、目的に応じて種々選択して良い。
またがる放射光でシリコンウェハーを加熱処理するもの
であるが、上記光照射装置は、塗料やインクの乾燥等信
の用途にも利用でき、その場合、透明容器は蒸発した溶
剤の排絡として利用できる。また上記ハロゲン電球に代
えて大出力の紫外線ランプを配置し、紫外線硬化型のイ
ンクや塗料の硬化、その細光化学反応を生起せしめても
良く、この場合、前記容器は化学反応容器としての役目
を果す。たりし紫外線照射器として利用する場合は、金
膜の形成は不要で、ミラー基台がアルミニウムの場合は
化学研磨のみの方が良い。いづれにしても鏡面の形成は
、目的に応じて種々選択して良い。
ミラー基台の材質は、前記実施例で説明したように押出
成形・七たアルミニウムが一番良いが、熱伝導性、加工
性等を考慮すると鋼、もしくはアルミニウムや銅を主体
とした合金類も使用できる。
成形・七たアルミニウムが一番良いが、熱伝導性、加工
性等を考慮すると鋼、もしくはアルミニウムや銅を主体
とした合金類も使用できる。
本発明は以上の説明からも理解できるように、ミラー自
体が製作しやすくて耐久性もあり、かつ冷却も十分なの
で、被処理物を取り囲む透明容器を外側から汚染するこ
ともなく、非常にすぐれた光照射装置が提供できる。
体が製作しやすくて耐久性もあり、かつ冷却も十分なの
で、被処理物を取り囲む透明容器を外側から汚染するこ
ともなく、非常にすぐれた光照射装置が提供できる。
第１図は本発明光照射装置の一実施例の要部の説明図、
第２図は押圧によるパイプの固定の拡大説明図であって
、１はハロゲン電球、２はシリコンウェハー、３はウェ
ハ一台、４はミラー基台、５は銅パイプを示す。
第２図は押圧によるパイプの固定の拡大説明図であって
、１はハロゲン電球、２はシリコンウェハー、３はウェ
ハ一台、４はミラー基台、５は銅パイプを示す。
Claims (1)
- （１） アルミニウム、アルミニウム合金、銅、鋼合
金から選ばれた金属材料よりなり、その前面を鋼面仕上
し、背面に溝を設けたミラー基台と、前記溝に押圧して
か＼見込ませた、銅もしくは銅合金のパイプと、前記ミ
ラー基台の前面側に配置した光源とを含む光照射装置。 ｉ２＋、ｆｉ源をはさんで、ミラー基台と反対側に被処
理物を取り囲む透明容器を具備する第１項グ′ 記載の光照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10987582A JPS592001A (ja) | 1982-06-28 | 1982-06-28 | 光照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10987582A JPS592001A (ja) | 1982-06-28 | 1982-06-28 | 光照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS592001A true JPS592001A (ja) | 1984-01-07 |
Family
ID=14521389
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10987582A Pending JPS592001A (ja) | 1982-06-28 | 1982-06-28 | 光照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS592001A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1513189A1 (de) * | 2003-09-05 | 2005-03-09 | Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH | Infrarotreflektor und Infrarotstrahler mit einem derartigen Infrarotreflektor |
-
1982
- 1982-06-28 JP JP10987582A patent/JPS592001A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1513189A1 (de) * | 2003-09-05 | 2005-03-09 | Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH | Infrarotreflektor und Infrarotstrahler mit einem derartigen Infrarotreflektor |
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