JPS59197564A - イオンクラスタ−ビ−ム蒸着装置のルツボ - Google Patents

イオンクラスタ−ビ−ム蒸着装置のルツボ

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Publication number
JPS59197564A
JPS59197564A JP7130683A JP7130683A JPS59197564A JP S59197564 A JPS59197564 A JP S59197564A JP 7130683 A JP7130683 A JP 7130683A JP 7130683 A JP7130683 A JP 7130683A JP S59197564 A JPS59197564 A JP S59197564A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
control
fluid element
pair
vapor deposition
nozzle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7130683A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Masuda
博之 益田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP7130683A priority Critical patent/JPS59197564A/ja
Publication of JPS59197564A publication Critical patent/JPS59197564A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、イオンクラスタービーム蒸着装置のルツボ
に関するものであり、もう少し詳しくいうと、蒸着材を
収納し加熱により蒸着材の蒸気をノズルから噴出させる
イオンクラスタービーム蒸着装置のルツボに関するもの
である。
第1図は従来のこの種のルツボを示し、ルツボの本体1
0/の上壁にノズル/θ、2が形成されており、本体1
0/を囲んで加熱ヒータlθ3が配置されている。かか
る構成により、本体IQIに収納されている蒸着材IO
’lが加熱により溶融。
蒸発し、材料蒸気10Sがノズル102から噴流10、
Aとして外方へ放出されるるこの際、断熱膨張により材
料蒸気が凝縮し、いくつかの弱い結合の原子のかたまり
であるクラスターの状態になる。
このクラスターの数%〜数十%は途中でイオン化される
。イオン化されたクラスクーは磁場によ・つて任意の方
向に軌道を変更され、所定の蒸着面へ衝突、付着する。
しかし、以上の構成でなる従来のものにおいては、イオ
ン化されない残り数千%の中性のクラスターは、ノズル
/θスから放出されるときの飛び出し方向にある蒸着面
への衝突しか期待できず、そのため蒸着面が狭い範囲に
限られ、加えて蒸着むらを避は得ないという欠点があっ
た。
この発明は、以上の事情に鑑みてなされたもので、ノズ
ル部を純流体素子とし、これに制御用流体素子を組合せ
、ノズルのl対の出力ボートから噴出する蒸着材蒸気を
一定周期で左右に振らせることにより、広い蒸着面が得
られるとともに蒸着むらを極小となしつるイオンクラス
タービーム蒸着装置のルツボな提供することを目的とす
るものである。
以下、この発明を第2図に示す一実施例について説明す
る。第2図はルツボのノズル部を拡大して示しており、
ノズルは従来の直管ノズルに代えて、流体素子ノズル/
を構成している。純流体素子でなる流体素子ノズル/は
、2.プリツタコによって、単一の入力ポート3に通じ
るl対の出カポ−ト’I a 、 ’I bおよび入力
ボート3側に対向して形成したl対の制御ボート!ra
、jbで構成されている。制御ボート&a 、 &bに
は、蒸着材蒸気の噴流を左右に振るための制御用流体素
子Aが接続されている。制御用流体素子6も純流体素子
であり、制御用入力ポードアに通じる各l対の制御用出
力ボートga、ざbと制御用制御ボート9 a。
9bおよびアキュムレータlOa、10bで構成され、
アキュムレータlθa、10bは、流量調節用の絞り/
/を介して制御ボートja 、5bおよび制御用制御ボ
ート9a、9bにそれぞれ接続され、かつ、自らの制御
用出力ボートlra、rbにそれぞれ接続されている。
次に動作について説明する。まず、流体素子ノズル/で
は、入力ポート、?より流入する蒸着材蒸気/ !iの
矢印/、3で示す主噴流は、流れの剥離によって生じる
矢印13で示す低圧のうすが原因して出力ボート4a 
、グbいずれかの側壁1(付着し、一方の出力ボートか
ら矢印/グで示す噴流が放出される。この純流体素子ノ
ズルでは、制御ボート左a、りbよりうず73部へ流体
を瞬時導入し、5ず/3を破壊すること(てより、他方
の出力ボートの方へ主噴流を移動させることができる。
また、出力ポートゲa、!bの側壁に付着後の噴流は安
定である。こうして噴流/gの出力ボートが左右いずれ
かに選択される。
一方、制御用流体素子基においても上記と同様の現象が
みられ、アキュムレータ/θa、10bの一方lOaに
蒸着材蒸気が充填される。アキュムレータ10a、10
bは制御ボート5a 、 jbおよび制御用制御ボー)
qa、9bに接続されているので、内部圧力が流体素子
ノズルl内の主噴流12の流れ方向を変えるON−信号
となる。この入力信号により、制御用流体素子6内の主
噴流は付着壁を他方の出力ボートへ変更し、蒸気isは
他方のアキュムレータlObへ流入を開始し。
アキュムレータloa内の蒸気は各ボートを経て放出さ
れる。このとき、流体素子ノズルl内の主噴流/、2が
、信号を発生するアキュムレータ/□aと同じ側の出カ
ポ−)4(aの側壁に付着している場合は、信号発生と
ともに噴流12の流れ方向を変え、もしも初期段階で反
対の出力ボートubの側壁に主噴流/2が付着している
場合はlパルスおくれて次のアキュムレータの信号で流
れを変更する。かような動作は、流体素子ノズルlを備
えたルツボ内で蒸着材蒸気/Sが発生し続ける限り一定
の周期で繰返され、蒸着材蒸気15は左右の出力ボート
+a、Qbから交互に噴出されることとなる。
以上の説明から明らかなように、この発明は、純流体素
子を用いた簡単な構成により、外部からの動力を用いな
いで、以下の効果を奏するものである。
(a)  噴流の偏向により蒸着面が拡大される。
(b)  磁場で偏向できない中性のクラスターの偏向
が可能となる。
(C)  中性のクラスクーの偏向ICより蒸着むらを
極小となしうる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のものの縦断正面図、第2図はこの発明の
一実施例の要部の流体回路を含む縦断正面図である。 l・・流体素子ノズル、2・・スプリッタ、3・・入力
ボート、&a、llb・・出力ポート、ja、!;b・
・制御ボート、6・・制御用流体素子、7・・制御用入
力ポート、ga、tb・・制御用出力ポート、?a 、
 9b・・制御用制御ボート、lθa、10b・・アキ
ュムレータ、//・・絞り。 代理人  大 岩 増 雄 手続補正書「自発」 1.事件の表示   特願昭 5g−71JOb号2、
発明の名称 イオンクラスタービーム蒸着装置のルツボ3、補正をす
る者 代表者片山仁へ部 4代理人 (1)  明細書の発明の詳細な説明の欄(1)  明
細書源2員餓/S行、第乙頁第1二行「磁場」を「電場
」と補正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 蒸着材が収納される本体の土壁にノズルを設けてなるイ
    オンクラスタービーム蒸着装置のルツボにおいて、 対向して形成された/対の制御ボートと、この制御ボー
    トを経て単一の入力ポートから分岐されたl対の出力ポ
    ートでなる流体素子ノズルと、対向して形成されたl対
    の制御用制御ポートと、この制御用制御ボートを経て単
    一の制御用入力ポートから分岐された/対の制御用出力
    ボートと、この制御用出力ボートと前記制御ボートおよ
    び前記制御用制御ポートがそれぞれ接続された/対のア
    ギュムレータでなる制御用流体素子と、を備えてなるこ
    とを特徴とするイオンクラスタ−ビーム蒸着装置のルツ
    ボ。
JP7130683A 1983-04-21 1983-04-21 イオンクラスタ−ビ−ム蒸着装置のルツボ Pending JPS59197564A (ja)

Priority Applications (1)

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JP7130683A JPS59197564A (ja) 1983-04-21 1983-04-21 イオンクラスタ−ビ−ム蒸着装置のルツボ

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JP7130683A JPS59197564A (ja) 1983-04-21 1983-04-21 イオンクラスタ−ビ−ム蒸着装置のルツボ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59197564A true JPS59197564A (ja) 1984-11-09

Family

ID=13456814

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7130683A Pending JPS59197564A (ja) 1983-04-21 1983-04-21 イオンクラスタ−ビ−ム蒸着装置のルツボ

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JP (1) JPS59197564A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63216967A (ja) * 1987-03-06 1988-09-09 Mitsubishi Electric Corp 薄膜形成装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63216967A (ja) * 1987-03-06 1988-09-09 Mitsubishi Electric Corp 薄膜形成装置

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