JPS59193056A - Substrate bias voltage generating circuit - Google Patents

Substrate bias voltage generating circuit

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JPS59193056A
JPS59193056A JP58065449A JP6544983A JPS59193056A JP S59193056 A JPS59193056 A JP S59193056A JP 58065449 A JP58065449 A JP 58065449A JP 6544983 A JP6544983 A JP 6544983A JP S59193056 A JPS59193056 A JP S59193056A
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voltage
substrate bias
bias voltage
inverter
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Noburo Tanimura
谷村 信朗
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    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05FSYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F3/00Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
    • G05F3/02Regulating voltage or current
    • G05F3/08Regulating voltage or current wherein the variable is dc
    • G05F3/10Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics
    • G05F3/16Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
    • G05F3/20Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
    • G05F3/205Substrate bias-voltage generators

Abstract

PURPOSE:To obtain the titled circuit of less consumed power by a method wherein the voltage generating circuit is composed of an oscillating circuit, a circuit forming the substrate bias voltage by rectifying the oscillation signal pulse thereof, and a voltage controlling circuit which compares this voltage with the reference voltage and then stops the oscillating action of the oscillating circuit when the voltage becomes over a fixed value in absolute value manner. CONSTITUTION:For example, four inverters 1V1-1V4 are connected in cascade form, and the output of the inverter 1V4 at the final stage is inputted to a rectifying circuit composed of capacitors C1, C2 and MOSFET elements Q1, Q2. Besides, a ring oscillator OSC is composed by connecting a NOR gate G, consisting of a C-MOS circuit impressed by a positive power source voltage Vcc, to the inverter 1V1 at the initial stage, and the output terminal of the gate G is connected to the output side of the inverter 1V4 at the final stage. The gate of the element Q2 is coupled to the voltage Vcc via resistors R2 and R1. The action of the oscillator is controlled in such a manner, thus generating a bias voltage of a fixed value -Vbb in the rectifying circuit.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、基板バイアス電圧発生回路に関するもので
、例えば、CMO5集積回路に内蔵されるものに有効な
技術に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a substrate bias voltage generation circuit, and relates to a technique that is effective for, for example, a circuit built in a CMO5 integrated circuit.

〔背景技術〕[Background technology]

従来より、MOSFET (絶縁ゲート形電界効果トラ
ンジスタ)で構成された半導体集積回路装置においては
、基板との寄生容量を減少させる等のために、基板バイ
アス電圧発生回路を内蔵させることが公知である。公知
の基板バイアス発生回路は、発振回路と、その出力パル
スを整流する回路からなり、例えばN型基板(又はウェ
ル領域)に負の電圧を供給するものである。
2. Description of the Related Art Conventionally, it has been known that a semiconductor integrated circuit device configured with a MOSFET (insulated gate field effect transistor) has a built-in substrate bias voltage generation circuit in order to reduce parasitic capacitance with the substrate. A known substrate bias generation circuit includes an oscillation circuit and a circuit that rectifies its output pulse, and supplies a negative voltage to, for example, an N-type substrate (or well region).

このような基板バイアス電圧発生回路では、論理回路の
動作又は電源電圧Vcc等の変動によって基板バイアス
電圧が変動してしまうため、例えばMOSFETのしき
い値電圧を変動させてしまう等の問題が生じる。特に、
特定のウェル領域にのみ基板バイアス電圧を供給する0
MO3(相補型MO3)回路などでは、基板バイアス電
圧が印加されないMOSFETのしきい値電圧と上記基
板バイアス電圧が印加されたMOSFETのしきい値電
圧との相対関係が大きく異なってしまうため、これらの
MO3FET回路間での信号の授受において問題となる
ものである。
In such a substrate bias voltage generation circuit, the substrate bias voltage fluctuates due to the operation of the logic circuit or fluctuations in the power supply voltage Vcc, etc., resulting in problems such as fluctuations in the threshold voltage of the MOSFET, for example. especially,
Supplying substrate bias voltage only to specific well regions 0
In MO3 (complementary MO3) circuits, etc., the relative relationship between the threshold voltage of a MOSFET to which no substrate bias voltage is applied and the threshold voltage of a MOSFET to which the above substrate bias voltage is applied is very different. This poses a problem when transmitting and receiving signals between MO3FET circuits.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明の目的は、制御された基板バイアス電圧を形成
することのできる基板バイアス電圧発生回路を提供する
ことにある。
An object of the present invention is to provide a substrate bias voltage generation circuit that can generate a controlled substrate bias voltage.

この発明の他の目的は、低消費電力化を図った基板バイ
アス電圧発生回路を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a substrate bias voltage generation circuit with reduced power consumption.

この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of this invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、基板バイアス電圧を所定の基準電圧と比較し
、一定電圧以上に基板バイアス電圧が絶対値的に太き(
なった時発振回路の発振動作を停止させることによって
、一定電圧に制御された基板バイアス電圧を形成するも
のである。
In other words, the substrate bias voltage is compared with a predetermined reference voltage, and the absolute value of the substrate bias voltage is greater than a certain voltage (
By stopping the oscillation operation of the oscillation circuit when this occurs, a substrate bias voltage controlled to a constant voltage is formed.

〔実施例1〕 第1図には、MOSFETで構成された半導体集積回路
装置に内蔵される基板バイアス電圧発生回路の一実施例
の回路図が示されている。同図の各回路を構成する回路
素子は、公知の半導体集積回路の製造技術によって形成
される。
[Embodiment 1] FIG. 1 shows a circuit diagram of an embodiment of a substrate bias voltage generation circuit built in a semiconductor integrated circuit device composed of MOSFETs. The circuit elements constituting each circuit in the figure are formed using known semiconductor integrated circuit manufacturing techniques.

この実施例の基板バイアス電圧発生回路は、次の各回路
によっ構成される。
The substrate bias voltage generation circuit of this embodiment is composed of the following circuits.

特に制限されないが、4個のインバータrV1ないしI
V4が縦列形態に接続される。終段のインバータIV4
の出力信号は、ノアゲート回路Gの一方の入力に印加さ
れ、その出方信号が上記初段のインバータIVIの入力
に印加されることによって、リングオシレータoscが
構成される。
Although not particularly limited, four inverters rV1 to I
V4 are connected in cascade configuration. Final stage inverter IV4
The output signal is applied to one input of the NOR gate circuit G, and the output signal is applied to the input of the first stage inverter IVI, thereby forming a ring oscillator osc.

特に制限されないが、これらのインバータIVIないし
IV4及びゲート回路Gは、CMOS回路によって構成
される。また、特に制限されないが、インバータIV4
の出力信号は、次の整流回路によって整流され基板バイ
アス電圧−vbbが形成される。
Although not particularly limited, these inverters IVI to IV4 and the gate circuit G are configured by CMOS circuits. In addition, although not particularly limited, inverter IV4
The output signal of is rectified by the next rectifier circuit to form a substrate bias voltage -vbb.

上記整流回路は、キャパシタCI、C2とダイオード形
態のMO5FETQI、Q2により構成される。すなわ
ち、上記インバータIV4の出力パルスは、キャパシタ
C1の一端に供給され、キャパシタCIの他端と回路の
接地電位との間に上記MO5FETQIが設けられる。
The rectifier circuit is composed of capacitors CI and C2 and diode-type MO5FETs QI and Q2. That is, the output pulse of the inverter IV4 is supplied to one end of the capacitor C1, and the MO5FET QI is provided between the other end of the capacitor CI and the ground potential of the circuit.

そして、このキャパシタClとMO3FETQIの接続
点とバイアス電圧を与える基板ないしウェル領域との間
に上記MO3FETQ2が設けられる。なお、上記キャ
パシタC2は、上記バイアス電圧が与えられる基板ない
しウェル領域と回路の接地電位との間の浮遊容量である
The MO3FETQ2 is provided between the connection point between the capacitor Cl and the MO3FETQI and the substrate or well region to which a bias voltage is applied. The capacitor C2 is a stray capacitance between the substrate or well region to which the bias voltage is applied and the ground potential of the circuit.

例えば、正の電源電圧Vccから負の基板バイアス電圧
−vbbを形成する時、上記ダイオード形態のMO3F
ETQIとQ2は、図示のようにゲート電極が接続され
る。上記インバータIV4の出力パルスが電源電圧Vc
cのようなハイレベルの時、MO3FETQIがオン状
態となるので、キャパシタC1にば、Vcc−Vthレ
ベルにチャージアンプされる。
For example, when forming a negative substrate bias voltage -vbb from a positive power supply voltage Vcc, the diode-type MO3F
The gate electrodes of ETQI and Q2 are connected as shown. The output pulse of the inverter IV4 is the power supply voltage Vc
When the voltage is at a high level such as c, MO3FET QI is turned on, so that the capacitor C1 is charge-amplified to the Vcc-Vth level.

次に、上記インバータIV4の出力パルスが回路の接地
電位のようなロウレベルの時、MO3FETQ 1がオ
フ状態となり、MO3FETQ2がオン状態となるので
、上記キャパシタc1の他端の負の電圧が牛ヤバシタC
2に伝えられるので基板ないしウェル領域は負の電圧に
バイアスされるものとなる。上記動作の繰り返しによっ
て、上記基板ないしウェル領域に与えられるバイアス電
圧=vbbは、絶対値において最大電圧が−Vcc+2
vthになる。
Next, when the output pulse of the inverter IV4 is at a low level such as the ground potential of the circuit, MO3FETQ1 is turned off and MO3FETQ2 is turned on, so that the negative voltage at the other end of the capacitor c1 is
2, the substrate or well region is biased to a negative voltage. By repeating the above operation, the bias voltage = vbb applied to the substrate or well region has a maximum voltage of −Vcc+2 in absolute value.
It becomes vth.

この実施例では、上記最大電圧以下の所定の−定電圧に
基板バイアス電圧−vbbを制御するため、次の電圧制
御回路が設けられる。
In this embodiment, the following voltage control circuit is provided in order to control the substrate bias voltage -vbb to a predetermined constant voltage below the maximum voltage.

上記基板バイアス電圧−vbbは、特に制限されないが
、高抵抗値のポリシリコン抵抗R1とR2で構成された
分圧抵抗回路の一端に供給され、他端に電源電圧Vcc
が供給されることによって、実質的に分圧される。この
分圧電圧は、特に制限されないが、インバータ回路を構
成するMO3FETQ3のゲートに印加される。このM
O3FETQ3のドL/インと電源電圧Vccとの間に
は、高抵抗のポリシリコン抵抗R3が設けられる。そし
て、このインバータ回路のMO3FETQ3のしきい値
電圧が基準電圧され、出力信号が上記ゲート回路Gの他
方の入力に供給される。
Although not particularly limited, the substrate bias voltage -vbb is supplied to one end of a voltage dividing resistor circuit made up of high-resistance polysilicon resistors R1 and R2, and the other end is supplied with the power supply voltage Vcc.
is supplied, thereby creating a substantial partial pressure. Although not particularly limited, this divided voltage is applied to the gate of MO3FETQ3 that constitutes the inverter circuit. This M
A high-resistance polysilicon resistor R3 is provided between the dot L/in of the O3FET Q3 and the power supply voltage Vcc. Then, the threshold voltage of MO3FETQ3 of this inverter circuit is set as a reference voltage, and the output signal is supplied to the other input of the gate circuit G.

この実施例回路の動作を第2図の動作波形図に従って説
明する。
The operation of this embodiment circuit will be explained with reference to the operational waveform diagram in FIG.

今、基板バイアス電圧−vbbが絶対値的に大きくなっ
て、上記分圧回路によって分圧された電圧■が上記MO
3FETQ3のしきい値電圧vth以下となると、上記
MO3FETQ3がオフ状態となる。このMO3FET
Q3のオフ状態により、その出力レベルVCがハイレベ
ル(論理“1°)となってゲート回路Gを閉じる(その
出力をロウレベルに固定する)ように制御するので、リ
ングオシレータO3Cの発振動作が停止する。これによ
り上記の整流動作も停止するので、基板バイアス電圧−
vbbは、これ以」二に絶対値的に大きく (負の電圧
側に大きく)ならない。
Now, the substrate bias voltage -vbb has become large in absolute value, and the voltage divided by the voltage dividing circuit is the voltage
When the threshold voltage vth of the 3FETQ3 becomes lower than that, the MO3FETQ3 is turned off. This MO3FET
Due to the OFF state of Q3, its output level VC becomes high level (logic "1°") and controls the gate circuit G to close (its output is fixed at low level), so the oscillation operation of ring oscillator O3C stops. This also stops the rectification operation described above, so the substrate bias voltage -
vbb no longer increases in absolute value (increases toward the negative voltage side).

また、上記整流動作の停止又は基板ないしウェル領域と
のリーク電流により、基板バイアス電圧−vbbが絶対
値的に小さくなった時には、上記分圧電圧がハイレベル
側に」−昇し2てMOS F ETQ3をオン状態とす
るので、その出力レベルがロウレベル(論理“0”)と
なり、デー1〜回路Gを開(ように制御するので、リン
グオシレータO3Cの正帰還ループが形成されることに
よってその発振動作が開始されることとなる。この発振
動作によって形成された出力パルスの整流動作が上記整
流回路で再び行われることによって、−上記一定電圧に
達するまで基板バイアス電圧−\/bbが絶対値的に大
きくなる。以上の動作によって、基板バイアス電圧−v
bbは、は−′所定の一定電圧となるように制御するこ
とできる。
Furthermore, when the substrate bias voltage -vbb becomes small in absolute value due to the stoppage of the rectifying operation or leakage current from the substrate or well region, the divided voltage increases to the high level side and the MOS F Since ETQ3 is turned on, its output level becomes a low level (logic "0"), and data 1 to circuit G are controlled to be open, so that a positive feedback loop of ring oscillator O3C is formed, thereby inhibiting its oscillation. The operation is started.The rectification operation of the output pulse formed by this oscillation operation is performed again in the rectifier circuit, so that the substrate bias voltage \/bb is kept in absolute value until it reaches the above-mentioned constant voltage. By the above operation, the substrate bias voltage -v
bb can be controlled to be -' a predetermined constant voltage.

特に制限されないが、上記基板バイアス電圧−vbbは
、CMO3回路で構成されたスタティック型RAM (
ランダム・アクセス・メモリ)のメモリアレイが形成さ
れるP型ウェル領域に供給するものとして利用される。
Although not particularly limited, the substrate bias voltage -vbb can be applied to a static RAM (
It is used to supply a P-type well region in which a memory array (random access memory) is formed.

〔効 果〕〔effect〕

(])基板バイアス電圧を所望の一定電圧に制御できる
ので、基板バイアス電圧が与えられる基板ないしウェル
領域に形成されたMOSFETのしきい値電圧を一定と
することができるという効果が得られる。
(]) Since the substrate bias voltage can be controlled to a desired constant voltage, it is possible to obtain the effect that the threshold voltage of the MOSFET formed in the substrate or well region to which the substrate bias voltage is applied can be made constant.

(2)上記(1)により、上記基板バイアス電圧が与え
られる基板ないしウェル領域に形成されたMO3FET
回路におりる寄生容量が一定とすることができるという
効果が得られる。
(2) MO3FET formed in the substrate or well region to which the substrate bias voltage is applied according to (1) above.
The effect is that the parasitic capacitance flowing into the circuit can be kept constant.

(3)上記(1)及び(2)により、MOSFETと寄
生容量を一定にすることができるから、これらの変動に
よって回路の動作マージンの悪化を防止することができ
るという効果が得られる。
(3) According to (1) and (2) above, since the MOSFET and parasitic capacitance can be kept constant, it is possible to prevent deterioration of the operating margin of the circuit due to fluctuations in these.

(4)上記リングオシレータをCMO3回路で構成した
場合には、基板バイアス電圧が必要以上に太き(なった
時リングオシレータの発振動作を停止させているので、
理論的には消費電流を零にすることができるので、基板
バイアス電圧発生回路における消費電流を必要最小に抑
えることができるとい・)効果が得られる。
(4) When the ring oscillator is configured with a CMO3 circuit, the oscillation operation of the ring oscillator is stopped when the substrate bias voltage becomes larger than necessary.
Theoretically, the current consumption can be reduced to zero, so the current consumption in the substrate bias voltage generation circuit can be suppressed to the necessary minimum.

(5)上記実施例のような基板バイアス電圧発生回路で
形成された基板バイアス電圧をを上記CMOSスタティ
ック型RAMのメモリアレイが形成されるウェル領域に
供給するものとした場合、ノ\・2テリ一ハツクアツプ
時のようなデータリテンション(データ保持)状態にお
いて、ウェル領域にリーク電流が流ないので上記発振回
路を動作状態とする時間を短(できることによって低消
費電力化が図られるη・ら、バンテリーノ\・ツクアッ
プ動作に通したスタティック型RAMが得られるという
効果が得られる。
(5) If the substrate bias voltage generated by the substrate bias voltage generation circuit as in the above embodiment is supplied to the well region where the memory array of the CMOS static RAM is formed, In a data retention state such as during a first hack-up, no leakage current flows into the well region, so the time it takes for the oscillation circuit to operate is shortened (this reduces power consumption). \・An effect can be obtained in that a static type RAM that can be subjected to a pull-up operation can be obtained.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、上記MO3F
ETQ3とポリシリコン抵抗R3からなるインバータ回
路を省略して、ゲート回路Gのロジックスレッショルド
電圧を上記基準電圧として利用するもの等発振回路及び
電圧制御回路の具体的回路構成は種々の実施形態を採る
ことができるものである。また、整流回路を構成する一
方向性素子は、PN接合ダイオード等を用いることもで
きる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that this invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, the above MO3F
The specific circuit configurations of the oscillation circuit and voltage control circuit may adopt various embodiments, such as omitting the inverter circuit consisting of ETQ3 and polysilicon resistor R3 and using the logic threshold voltage of the gate circuit G as the reference voltage. It is something that can be done. Furthermore, a PN junction diode or the like may be used as the unidirectional element constituting the rectifier circuit.

〔利用分野〕[Application field]

この発明は、半導体集積回路装置に内蔵される基板バイ
アス電圧発生回路として、広く適用することができるも
のである。
The present invention can be widely applied as a substrate bias voltage generation circuit built into a semiconductor integrated circuit device.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明の一実施例を示す回路図、第2図は
、その動作を説明するための動作波形図である。 IVI〜IV4・・インバータ、G・・ノアゲート回路
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an operation waveform diagram for explaining its operation. IVI~IV4...Inverter, G...Nor gate circuit

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、発振回路と、この発振信号パルスを整流して基板バ
イアス電圧を形成する整流回路と、上記基板バイアス電
圧と所定の基準電圧とを比較し、基板バイアス電圧が絶
対値的に一定値以上に大きくなった時上記発振回路の発
振動作を停止させる電圧制御回路とを含むことを特徴と
する基板バイアス電圧発生回路。 2、上記発振回路は、複数個のCMOSインバータ回路
と1個のゲート回路とがリング状に縦列接続され、上記
ゲート回路の他の入力端子に上記電圧検出回路の出力信
号が印加されるものであることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の基板バイアス電圧発生回路。 3、上記電圧制御回路は、基板バイアス電圧を分圧する
分圧回路と、この分圧電圧を受けるインバータ回路とを
含み、上記インバータ回路のロジックスレッショルド電
圧を上記基準電圧とするものであることを特徴とする特
許請求の範囲第1又は第2項記載の基板バイアス電圧発
生回路。 4、上記基板バイアス電圧発生回路は、CMOS集積回
路装置に内蔵されるものであることを特徴とする特許請
求の範囲第1、第2又は第3項記載の基板バイアス電圧
発生回路。
[Claims] 1. An oscillation circuit and a rectifier circuit that rectifies this oscillation signal pulse to form a substrate bias voltage, compare the substrate bias voltage with a predetermined reference voltage, and determine whether the substrate bias voltage is an absolute value. and a voltage control circuit that stops the oscillation operation of the oscillation circuit when the voltage exceeds a certain value. 2. The oscillation circuit has a plurality of CMOS inverter circuits and one gate circuit connected in series in a ring shape, and the output signal of the voltage detection circuit is applied to the other input terminal of the gate circuit. The substrate bias voltage generating circuit according to claim 1, characterized in that: 3. The voltage control circuit includes a voltage dividing circuit that divides the substrate bias voltage, and an inverter circuit that receives the divided voltage, and uses a logic threshold voltage of the inverter circuit as the reference voltage. A substrate bias voltage generation circuit according to claim 1 or 2. 4. The substrate bias voltage generation circuit according to claim 1, 2 or 3, wherein the substrate bias voltage generation circuit is built in a CMOS integrated circuit device.
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