KR100518240B1 - Circuit for generating substrate voltage of semiconductor memory - Google Patents

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KR100518240B1
KR100518240B1 KR10-1999-0000818A KR19990000818A KR100518240B1 KR 100518240 B1 KR100518240 B1 KR 100518240B1 KR 19990000818 A KR19990000818 A KR 19990000818A KR 100518240 B1 KR100518240 B1 KR 100518240B1
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Abstract

본 발명은 반도체 메모리의 기판전압 발생회로에 관한 것으로, 종래에는 내부회로의 고속동작시나 버퍼 동작과 같이 기판전압의 변동이 심한 액티브시와 기판전압의 변동이 적은 스탠바이시 구분을 위해 용량이 서로 다른 기판전압 발생기를 각각 사용함에 따라 기판전압(VBB)을 생성하기 위하여 적은 파워를 소모하면서 안정적인 기판전압(VBB)을 얻기 어려운 문제점이 있었다. 따라서 본 발명은 링 발진기(10)와, 구동부(11)와, 차지펌프(12)로 구성된 기판전압 발생회로에 있어서, 비반전단자로는 VCC전압을 공급하고, 반전단자로 인가되는 제어신호(CON1)에 따라 상기 구동부(11)에서 출력되는 펄스를 그대로 차지펌프(12)로 전송하거나 펄스의 진폭을 줄여 전송하도록 하는 전송 게이트(13)를 더 포함하여 구성하여, 차지펌프의 모스 커패시터로 인가되는 발진펄스의 진폭을 변화시킬 수 있도록 하여 메모리 동작중 VBB변동이 심한 구간과 변동이 적은 구간에 알맞게 펌핑할 수 있도록 한 효과가 있다. 또한 전원전압의 과도한 상승시 펄스진폭을 줄여주어 차지펌프가 과도하게 VBB전원을 하강시키는 것을 막도록 한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate voltage generation circuit of a semiconductor memory. In the related art, the capacitances of the semiconductor memory have different capacities for distinguishing an active state with a large variation in the substrate voltage and a standby state with a small variation in the substrate voltage, such as a high-speed operation or an internal buffer operation. As each substrate voltage generator is used, it is difficult to obtain a stable substrate voltage VBB while consuming little power to generate the substrate voltage VBB. Therefore, in the substrate voltage generation circuit including the ring oscillator 10, the driver 11, and the charge pump 12, the non-inverting terminal supplies the VCC voltage and is applied to the inverting terminal. In accordance with CON1), and further comprising a transfer gate 13 for transmitting the pulse output from the drive unit 11 to the charge pump 12 as it is or to reduce the amplitude of the pulse, applied to the MOS capacitor of the charge pump It is possible to change the amplitude of the oscillation pulse, so that the pump can be appropriately pumped in a section with a high VBB fluctuation and a section with a small fluctuation during the memory operation. In addition, the pulse amplitude is reduced when the power supply voltage rises excessively to prevent the charge pump from excessively lowering the VBB power supply.

Description

반도체 메모리의 기판전압 발생회로{CIRCUIT FOR GENERATING SUBSTRATE VOLTAGE OF SEMICONDUCTOR MEMORY}CIRCUIT FOR GENERATING SUBSTRATE VOLTAGE OF SEMICONDUCTOR MEMORY}

본 발명은 반도체 메모리에서 사용하는 기판전압(VBB)을 발생시키기 위한 반도체 메모리의 기판전압 발생회로에 관한 것으로, 특히 펌프 커패시터에 인가되는 펄스의 진폭을 VBB변동이 심한 구간과 변동이 적은 구간으로 구분하여 제공함으로써 별도의 펌핑능력을 갖는 VBB발생기를 동시에 구현할 수 있도록 한 반도체 메모리의 기판전압 발생회로에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate voltage generating circuit of a semiconductor memory for generating a substrate voltage (VBB) used in a semiconductor memory. In particular, the amplitude of a pulse applied to a pump capacitor is divided into a section having a high VBB variation and a section having a small variation. The present invention relates to a substrate voltage generation circuit of a semiconductor memory capable of simultaneously implementing a VBB generator having a separate pumping capability.

도 1은 종래 반도체 메모리의 기판전압 발생회로에 대한 구성도로서, 이에 도시된 바와같이, 일정한 발진 펄스(OSC)를 발생시키는 링 발진기(10)와, 상기에서 발생된 발진 펄스(OSC)를 버퍼링하고 그 버퍼링된 펄스(OSCDRV)를 출력시키는 구동부(11)와, 상기 구동부(11)에서 구동된 펄스(OSCDRV)를 펌핑시켜 기판전압을 만드는 차지 펌프(12)로 구성된다.FIG. 1 is a configuration diagram of a substrate voltage generating circuit of a conventional semiconductor memory. As shown in FIG. 1, a ring oscillator 10 generating a constant oscillation pulse OSC and a buffering oscillation pulse OSC generated above are shown. And a driver 11 for outputting the buffered pulse OSCDRV, and a charge pump 12 for pumping the pulse OSCDRV driven by the driver 11 to generate a substrate voltage.

이와같이 구성된 종래기술에 대하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Referring to the prior art configured as described above in detail.

홀수개의 인버터로 구성된 링 발진기(10)에서 발진 펄스(OSC)를 출력시키면, 이를 구동부(11)에서 입력받아 버퍼링을 행한다.When the oscillation pulse OSC is output from the ring oscillator 10 composed of an odd number of inverters, the oscillation pulse OSC is outputted by the driving unit 11 to perform buffering.

이렇게 버퍼링된 펄스(OSCDRV)를 구동부(11)가 차지펌프(12)로 제공한다.The buffered oscillator OSCDRV is provided to the charge pump 12 by the driver 11.

그러면 상기 차지펌프(12)의 모스 커패시터(C1)가 충전되고, 이렇게 모스 커패시터(C1)가 충전될 때 항상 턴온되어 있는 트랜지스터(Q1,Q2)에 의해 기판전압(VBB)은 하강하게 된다.Then, the MOS capacitor C1 of the charge pump 12 is charged, and the substrate voltage VBB is lowered by the transistors Q1 and Q2 which are always turned on when the MOS capacitor C1 is charged.

도 2는 액티브 구간(ACTIVE)과 스탠바이 구간(STANDBY)에 각각 다른 기판전압 발생기를 사용하는 경우를 도시한 것으로, 스탠바이용 기판전압 발생기(21)는 액티브용 기판전압 발생기(22) 보다 차지펌프의 능력이 작도록 설계되는데, 이것은 스탠바이시 기판의 변동이 액티브 구간보다 적기 때문이다.FIG. 2 illustrates a case in which different substrate voltage generators are used in the active period ACTIVE and the standby period STANDBY, respectively. The standby substrate voltage generator 21 is formed by the charge pump rather than the active substrate voltage generator 22. The capacity is designed to be small because the variation of the standby substrate is less than the active period.

그러나 상기에서와 같은 종래기술에 있어서, 내부회로의 고속동작시나 버퍼 동작과 같이 기판전압의 변동이 심한 액티브시와 기판전압의 변동이 적은 스탠바이시 구분을 위해 용량이 서로 다른 기판전압 발생기를 각각 사용함에 따라 기판전압(VBB)을 생성하기 위하여 적은 파워를 소모하면서 안정적인 기판전압(VBB)을 얻기 어려운 문제점이 있고, 특히 외부전원 상승시 과도 펌핑이 문제가 된다.However, in the prior art as described above, substrate voltage generators having different capacities are used for distinguishing between active at high substrate voltages and standby at low substrate voltages such as high-speed operation of internal circuits or buffer operation. Accordingly, there is a problem in that it is difficult to obtain a stable substrate voltage VBB while consuming little power to generate the substrate voltage VBB, and in particular, excessive pumping becomes a problem when the external power source rises.

따라서 상기에서와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 차지펌프의 모스 커패시터에 인가되는 발진펄스의 진폭을 변화시킬 수 있도록 한 반도체 메모리의 기판전압 발생회로를 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention for solving the above problems is to provide a substrate voltage generation circuit of a semiconductor memory capable of changing the amplitude of the oscillation pulse applied to the MOS capacitor of the charge pump.

본 발명의 다른 목적은 반도체 메모리의 동작중 VBB변동이 심한 구간과 변동이 적은 구간에 맞는 진폭을 조절하여 제공함으로써, 별도의 펌핑능력을 갖도록 한 반도체 메모리의 기판전압 발생회로를 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide a substrate voltage generation circuit of a semiconductor memory having a separate pumping capability by adjusting an amplitude corresponding to a section in which VBB fluctuates greatly and a section in which the fluctuation is small during operation of the semiconductor memory.

본 발명의 또 다른 목적은 전원전압의 과도한 상승시 펄스진폭을 줄여주어 차지펌프가 과도하게 VBB전원을 하강시키는 것을 방지하도록 한 반도체 메모리의 기판전압 발생회로를 제공함에 있다.It is still another object of the present invention to provide a substrate voltage generation circuit of a semiconductor memory which prevents the charge pump from dropping the VBB power supply excessively by reducing the pulse amplitude when the power supply voltage rises excessively.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 링 발진기와, 구동부와 차지펌프로 구성된 기판전압 발생회로에 있어서, 비반전단자로는 전원단자를 연결하고, 반전단자로는 제어단자를 연결하여, 상기 제어단자로 인가되는 신호에 따라 상기 구동부의 출력전압을 조절하여 상기 차지펌프로 제공하도록 하는 전송 게이트를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a substrate voltage generation circuit including a ring oscillator, a driving unit, and a charge pump, wherein a non-inverting terminal is connected to a power terminal, and an inverting terminal is connected to a control terminal. It characterized in that it further comprises a transmission gate to adjust the output voltage of the driver in accordance with the signal applied to provide to the charge pump.

이하, 첨부된 도면에 의해 상세히 살펴보면 다음과 같다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings in detail.

도 3은 본 발명 반도체 메모리의 기판전압 발생회로에 대한 제1실시예로서, 이에 도시한 바와같이, 일정한 발진 펄스(OSC)를 발생시키는 링 발진기(10)와, 상기에서 발생된 발진 펄스(OSC)를 버퍼링하고 그 버퍼링된 펄스(OSCDRV)를 출력시키는 구동부(11)와, 상기 구동부(11)에서 출력되는 펄스를 그대로 전송하거나 진폭을 줄여 출력시키는 전송 게이트(13)와, 상기 전송 게이트(13)에서 진폭이 조절된 펄스를 펌핑시켜 필요로 하는 기판전압을 생성하여 출력시키는 차지펌프(12)로 구성한다.FIG. 3 is a first embodiment of a substrate voltage generation circuit of a semiconductor memory of the present invention. As shown in FIG. 3, a ring oscillator 10 for generating a constant oscillation pulse OSC and the oscillation pulse OSC generated above are shown. ) And a driver 11 for outputting the buffered pulse OSCDRV, a transfer gate 13 for transmitting the pulse output from the driver 11 as it is or reducing the amplitude, and the transfer gate 13. ) Is configured as a charge pump 12 for generating and outputting the required substrate voltage by pumping a pulse whose amplitude is adjusted.

도 4는 본 발명 반도체 메모리의 기판전압 발생회로에 대한 제2실시예로서, 이에 도시한 바와같이, 일정한 발진 펄스(OSC)를 발생시키는 링 발진기(10)와, 상기에서 발생된 발진 펄스(OSC)를 버퍼링하고 그 버퍼링된 펄스(OSCDRV)를 출력시키는 구동부(11)와, 반전단자로 인가되는 제1제어신호(CON1)에 따라 상기 구동부(11)에 출력되는 펄스의 진폭을 조절하여 출력시키는 전송 게이트(13)와, 상기 전송 게이트(13)에서 출력되는 펄스를 펌핑시켜 필요로 하는 기판전압을 생성하는 차지펌프(12)와, 기판의 변동이 심한 액티브 구간과 변동이 심하지 않는 스탠바이 구간에 맞추어 상기 차지펌프의 펌핑동작을 조절시키기 위한 제2제어신호(CON2)를 상기 전송 게이트(13)의 비반전단자로 제공하는 전압 선택부(14)로 구성한다.FIG. 4 shows a second embodiment of the substrate voltage generating circuit of the semiconductor memory according to the present invention. As shown in FIG. 4, a ring oscillator 10 for generating a constant oscillation pulse OSC and the oscillation pulse OSC generated above are shown. ) Is buffered and outputs the buffered pulse OSCDRV and the amplitude of the pulse output to the driver 11 according to the first control signal CON1 applied to the inverting terminal. In the transfer gate 13, the charge pump 12 to generate the required substrate voltage by pumping the pulse output from the transfer gate 13, the active period of the substrate fluctuating and the standby period of the fluctuation is not severe The voltage selector 14 provides a second control signal CON2 for adjusting the pumping operation of the charge pump to the non-inverting terminal of the transfer gate 13.

도 5는 본 발명 반도체 메모리의 기판전압 발생회로에 대한 제3실시예로서, 이에 도시한 바와같이, 일정한 발진 펄스(OSC)를 발생시키는 링 발진기(10)와, 상기에서 발생된 발진 펄스(OSC)를 버퍼링하고 그 버퍼링된 펄스(OSCDRV)를 출력시키는 구동부(11)와, 반전단자로 인가되는 제1제어신호(CON1)에 따라 상기 구동부(11)에 출력되는 펄스의 진폭을 조절하여 출력시키는 전송 게이트(13)와, 상기 전송 게이트(13)에서 출력되는 펄스를 펌핑시켜 원하는 기판전압을 생성하는 차지펌프(12)와, 외부전원의 레벨에 따라 상기 전송 게이트(13)의 제어신호(CON)를 제어하는 VCC전원 감지부(15)로 구성한다.FIG. 5 is a third embodiment of the substrate voltage generation circuit of the semiconductor memory of the present invention. As shown therein, a ring oscillator 10 for generating a constant oscillation pulse OSC, and the oscillation pulse OSC generated above, are shown in FIG. ) Is buffered and outputs the buffered pulse OSCDRV and the amplitude of the pulse output to the driver 11 according to the first control signal CON1 applied to the inverting terminal. A transfer gate 13, a charge pump 12 generating a desired substrate voltage by pumping pulses output from the transfer gate 13, and a control signal CON of the transfer gate 13 according to the level of an external power source. ) Is configured as a VCC power detector (15) for controlling.

이와같이 구성된 본 발명의 동작 및 작용 효과에 대하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation and effect of the present invention configured as described in detail as follows.

도 3의 링 발진기(10)에서 일정한 펄스(OSC)를 발생시키면, 이를 구동부(11)에서 입력받아 사용가능하도록 도 6의 (a)에서와 같이 버퍼링하고, 이 버퍼링한 펄스(OSCDRV)를 전송 게이트(13)로 제공한다.When a constant pulse OSC is generated in the ring oscillator 10 of FIG. 3, the buffered oscillator 10 is buffered as shown in FIG. 6A so as to be received and used by the driver 11, and transmits the buffered pulse OSCDRV. To the gate 13.

이때 기판의 변동이 심한 액티브 구간에서는 도 6의 (b)에서와 같이 로우상태의 제어신호(CON1)를 반전단자로 인가한다.In this case, the control signal CON1 in the low state is applied to the inverting terminal in the active section in which the variation of the substrate is severe.

그리고 상기 전송 게이트(13)의 비반전단자에는 VCC전원이 계속해서 입력되어 있는 상태이므로, 엔모스 트랜지스터(MN1)은 계속해서 온상태가 된다.Since the VCC power source is continuously input to the non-inverting terminal of the transfer gate 13, the NMOS transistor MN1 is continuously turned on.

상기 전송 게이트(13)의 반전단자로 로우상태의 제어신호(CON1)를 인가함에 따라 피모스 트랜지스터(MP1)도 턴온된다.The PMOS transistor MP1 is also turned on by applying the control signal CON1 in the low state to the inverting terminal of the transfer gate 13.

따라서 상기 구동부(11)로 부터 제공되는 구동펄스(OSCDRV)는 도 6의 (c)에서와 같이 그대로 전송 게이트(13)를 통과하여 NA노드에 걸리게 된다.Accordingly, the driving pulse OSCDRV provided from the driving unit 11 passes through the transmission gate 13 as it is, as shown in FIG. 6C, and is caught by the NA node.

그리고, 리프레쉬 회로만 동작하는 스탠바이 구간에서 전송 게이트(13)의 반전단자로 도 6의 (b)에서와 같이 하이상태의 제어신호(CON1)를 제공하면, 상기 피모스 트랜지스터(MP1)가 턴오프상태가 되어 노드 NA에는 도 6의 (c)에서와 같이 VCC-VT의 진폭으로 줄어들게 된다. 여기서 VT는 전송게이트(13)의 엔모스 트랜지스터(MN1)의 드레쉬홀드 전압이다.In addition, when the control circuit CON1 of the high state is provided to the inverting terminal of the transfer gate 13 in the standby period in which only the refresh circuit operates, as shown in FIG. 6B, the PMOS transistor MP1 is turned off. The node NA is reduced to the amplitude of VCC-VT as shown in (c) of FIG. 6. Here, VT is the threshold voltage of the NMOS transistor MN1 of the transfer gate 13.

따라서 구간A에서 노드 B는 펌핑동작을 하는 동안 VT-VCC의 진폭을 갖게 되고, 구간 B에서 노드 B는 펌핑동작을 하는 동안 2VT-VCC의 진폭을 갖게 된다.Therefore, in interval A, node B has an amplitude of VT-VCC during the pumping operation, and in interval B, node B has an amplitude of 2VT-VCC during the pumping operation.

결국 스탠바이 구간에서 액티브 구간에서 보다 펌핑 억제 효과가 나타난다.As a result, the pumping suppression effect is more pronounced in the standby period than in the active period.

그리고, 도 4와 도 7에 의거하여 제2실시예에 대하여 살펴보면, 구동부(11)에서 도 7의 (a)에서와 같이 버퍼링 펄스(OSCDRV)를 전송 게이트(13)로 제공할 때, 액티브 구간에서는 도 7의 (b)에서와 같이 로우상태의 제1제어신호(CON1)와 제2제어신호(CON2)를 인가한다.4 and 7, when the driving unit 11 provides the buffering pulse OSCDRV to the transfer gate 13 as shown in FIG. In FIG. 7B, the first control signal CON1 and the second control signal CON2 in a low state are applied.

로우상태의 제2제어신호(CON2)는 인버터(I1)를 통해 반전되므로, 노드 N1에는 하이상태가 된다. Since the second control signal CON2 in the low state is inverted through the inverter I1, the node N1 becomes high.

따라서 제1전송게이트(TG1)는 온되고, 제2전송게이트(TG2)는 오프된다.Accordingly, the first transmission gate TG1 is turned on and the second transmission gate TG2 is turned off.

상기 제1전송게이트(TG1)가 온됨에 따라 VCC전원이 노드 N2를 거쳐 전송게이트(13)의 비반전단자에 걸리게 된다.As the first transmission gate TG1 is turned on, the VCC power is applied to the non-inverting terminal of the transmission gate 13 via the node N2.

따라서 상기 전송게이트(13)의 피모스 및 엔모스 트랜지스터(MP1)(MN1)가 모두 턴온되어 노드 NA에는 구동부(11)로 부터 제공되는 구동펄스(OSCDRV)는 도 7의 (d)에서와 같은 펄스가 나타난다.Accordingly, both the PMOS and NMOS transistors MP1 and MN1 of the transfer gate 13 are turned on, and the driving pulse OSCDRV provided from the driver 11 is provided at the node NA as shown in FIG. Pulses appear.

그리고, 리프레쉬 회로만 동작하는 스탠바이 구간에서 도 7의 (b)에서와 같이 하이상태의 제1제어신호(CON1)와 도 7의 (c)에서와 같이 로우상태의 제2제어신호(CON2)를 인가한다.In the standby period in which only the refresh circuit operates, the first control signal CON1 in the high state as shown in (b) of FIG. 7 and the second control signal CON2 in the low state as shown in (c) of FIG. Is authorized.

상기 로우상태의 제2제어신호(CON2)에 의해서 전송게이트(13)의 비반전단자에는 VCC전원이 인가되고, 하이상태의 제1제어신호(CON1)에 의해 상기 전송게이트(13)의 피모스 트랜지스터(MP1)는 오프상태가 되므로 노드 NA에는 도 7의 (d)에서와 같이 VCC-VT의 진폭으로 줄어들게 된다.The VCC power is applied to the non-inverting terminal of the transfer gate 13 by the second control signal CON2 in the low state, and the PMOS of the transfer gate 13 is applied by the first control signal CON1 in the high state. Since the transistor MP1 is turned off, the node NA is reduced to the amplitude of VCC-VT as shown in FIG.

이와같은 상태에서 스탠바이 구간이 다음 동작을 대기하기만 하는 경우에는 도 7의 (c)의 구간 C에서와 같이 제2제어신호(CON2)가 로우상태에서 하이상태로 바뀌게 된다.In this state, when the standby section waits only for the next operation, as shown in section C of FIG. 7C, the second control signal CON2 is changed from the low state to the high state.

그러면 인버터(I1)에 의해 반전되어 노드 N1에 로우상태가 된다.This is inverted by the inverter I1 and brought to a low state at the node N1.

상기 로우상태의 신호에 의해 제1전송게이트(TG1)는 오프되고, 제2전송게이트(TG2)가 온되므로 노드 N2에는 기준전압(VREF)가 걸리게 되고, 이 기준전압(VREF)은 전송게이트(13)의 비반전단자로 인가된다.Since the first transfer gate TG1 is turned off and the second transfer gate TG2 is turned on by the low signal, the reference voltage VREF is applied to the node N2. It is applied to the non-inverting terminal of 13).

따라서 전송게이트(13)를 거쳐 노드 NA에 걸리는 전압은 도 7의 (d)에서와 같이 VREF-VT가 된다.Therefore, the voltage applied to the node NA via the transfer gate 13 becomes VREF-VT as shown in FIG.

여기서 VREF는 VCC-VT보다 낮은 기준전압이다.Where VREF is a reference voltage lower than VCC-VT.

그리고, 도 5와 도 8에 의거하여 제3실시예에 대하여 살펴보면, 반도체 메모리는 외부전원이 3.3V를 기준으로 3.0V에서 3.6V 사이에서 변화할 수 있다.5 and 8, the semiconductor memory may vary from 3.0V to 3.6V based on 3.3V.

만일 외부전원이 3.6V 이상이면, 도 5의 구동부(11)에서 출력되는 구동펄스(OSCDRV)의 진폭이 3.6V 이상의 진폭을 가지므로 차지펌프(12)의 과도한 펌핑을 유발한다.If the external power is 3.6 V or more, the amplitude of the driving pulse OSCDRV output from the driving unit 11 of FIG. 5 has an amplitude of 3.6 V or more, causing excessive pumping of the charge pump 12.

따라서 이 경우 VCC전원 감지부(15)에서 도 8의 (b)에서와 같은 하이상태의 출력신호(OUT)를 전송게이트(13)의 반전단자로 공급한다.Therefore, in this case, the VCC power detector 15 supplies the output signal OUT of the high state as shown in (b) of FIG. 8 to the inverting terminal of the transmission gate 13.

그러면 상기 전송게이트(13)의 피모스 트랜지스터(MP1)는 오프되고, 엔모스 트랜지스터(MN1)가 온되므로 구동부(11)의 출력펄스(OSCDRV)에 엔모스 트랜지스터(MN1)의 드레쉬홀드 전압(VT)만큼 감소된 전압, 즉 도 8의 (c)에서와 같은 VCC-VT전압이 차지펌프(12)가 인가된다.Then, since the PMOS transistor MP1 of the transfer gate 13 is turned off and the NMOS transistor MN1 is turned on, the threshold voltage of the NMOS transistor MN1 is applied to the output pulse OSCDRV of the driver 11. The charge pump 12 is applied to a voltage reduced by VT), that is, a VCC-VT voltage as shown in FIG.

따라서 상기 차지펌프(12)의 과펌핑을 억제한다.Therefore, overpumping of the charge pump 12 is suppressed.

그리고 외부전원이 3.6V 이하인 경우에는 전송게이트(13)의 반전단자로 로우신호(OUT)를 제공하여 피모스 트랜지스터(MP1)를 온시킨다.When the external power source is 3.6 V or less, the PMOS transistor MP1 is turned on by providing the low signal OUT to the inverting terminal of the transfer gate 13.

따라서 차지펌프(12)로 구동부(11)에서 출력되는 구동펄스(OSCDRV)를 그대로 차지펌프(12)로 제공한다.Therefore, the driving pump OSCDRV output from the driving unit 11 to the charge pump 12 is directly provided to the charge pump 12.

이상에서와 같은 동작에 의해 차지펌프(12)의 모스 커패시터(C1)에 인가되는 발진펄스의 진폭을 변화시켜 제공할 수 있도록 한다.By the above operation, the amplitude of the oscillation pulse applied to the MOS capacitor C1 of the charge pump 12 can be changed and provided.

이상에서 상세히 설명한 바와같이 차지펌프의 모스 커패시터로 인가되는 발진펄스의 진폭을 변화시킬 수 있도록 하여 메모리 동작중 VBB변동이 심한 구간과 변동이 적은 구간에 알맞게 펌핑할 수 있도록 한 효과가 있다. 또한 전원전압의 과도한 상승시 펄스진폭을 줄여주어 차지펌프가 과도하게 VBB전원을 하강시키는 것을 막도록 한 효과가 있다. As described in detail above, it is possible to change the amplitude of the oscillation pulse applied to the MOS capacitor of the charge pump, so that the pump can be suitably pumped in a section having a high VBB fluctuation and a section having a small fluctuation during the memory operation. In addition, the pulse amplitude is reduced when the power supply voltage rises excessively, thereby preventing the charge pump from excessively lowering the VBB power supply.

도 1은 종래 반도체 메모리의 기판전압 발생회로도.1 is a circuit diagram of a substrate voltage generation of a conventional semiconductor memory.

도 2는 종래 액티브 구간과 스탠바이 구간에 각각 다른 기판전압 발생기 사용하는 경우를 도시한 실시예.2 is a diagram illustrating a case where different substrate voltage generators are used in an active section and a standby section, respectively.

도 3은 본 발명 반도체 메모리의 기판전압 발생회로에 대한 제1실시예.3 is a first embodiment of a substrate voltage generation circuit of the semiconductor memory of the present invention;

도 4는 본 발명 반도체 메모리의 기판전압 발생회로에 대한 제2실시예.Fig. 4 is a second embodiment of the substrate voltage generation circuit of the semiconductor memory of the present invention.

도 5는 본 발명 반도체 메모리의 기판전압 발생회로에 대한 제3실시예.Fig. 5 is a third embodiment of the substrate voltage generation circuit of the semiconductor memory of the present invention.

도 6은 도 3에 대한 각 부의 신호 파형도.FIG. 6 is a signal waveform diagram of each part shown in FIG. 3; FIG.

도 7은 도 4에 대한 각 부의 신호 파형도.FIG. 7 is a signal waveform diagram of each part shown in FIG. 4; FIG.

도 8은 도 5에 대한 각 부의 신호 파형도.FIG. 8 is a signal waveform diagram of each part shown in FIG. 5; FIG.

*** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ****** Explanation of symbols for main parts of drawing ***

10 : 링 발진기 11 : 구동부10 ring oscillator 11 drive unit

12 : 차지펌프13 : 전송게이트12 charge pump 13 transfer gate

14 : 전압 선택부15 : VCC전원 감지부14: voltage selector 15: VCC power detector

C1 : 모스 커패시터I1 : 인버터C1: MOS capacitor I1: Inverter

Claims (4)

링 발진기(10)와, 구동부(11)와, 차지펌프(12)로 구성된 기판전압 발생회로에 있어서, 비반전단자로는 VCC전압을 공급하고, 반전단자로 인가되는 제어신호(CON1)에 따라 상기 구동부(11)에서 출력되는 펄스를 그대로 차지펌프(12)로 전송하거나 펄스의 진폭을 줄여 전송하도록 하는 전송 게이트(13)를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 메모리의 기판전압 발생회로.In the substrate voltage generation circuit composed of the ring oscillator 10, the driver 11, and the charge pump 12, the non-inverting terminal is supplied with the VCC voltage, and according to the control signal CON1 applied to the inverting terminal. And a transfer gate (13) for transmitting the pulse output from the driver (11) to the charge pump (12) as it is or reducing the amplitude of the pulse. 링 발진기(10)와, 구동부(11)와, 차지펌프(12)로 구성된 기판전압 발생회로에 있어서, 비반전단자로는 VCC전압 또는 기준전압(VREF)을 공급하고, 반전단자로 인가되는 제1제어신호(CON1)에 따라 상기 구동부(11)에서 출력되는 펄스를 그대로 차지펌프(12)로 전송하거나 펄스의 진폭을 줄여 전송하는 전송게이트(13)와, 제2제어신호(CON2)에 따라 상기 전송게이트(13)의 비반전단자로 VCC전압 또는 기준전압(VREF)을 공급하도록 하는 전압 선택부(14)를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 메모리의 기판전압 발생회로.In the substrate voltage generation circuit composed of the ring oscillator 10, the drive unit 11, and the charge pump 12, the non-inverting terminal supplies the VCC voltage or the reference voltage VREF and is applied to the inverting terminal. According to the first control signal (CON1) according to the transmission gate 13 for transmitting the pulse output from the drive unit 11 to the charge pump 12 as it is or to reduce the amplitude of the pulse and the second control signal (CON2) And a voltage selector (14) for supplying a VCC voltage or a reference voltage (VREF) to the non-inverting terminal of the transfer gate (13). 제2항에 있어서, 전압 선택부는 제2제어신호(CON2)를 반전시키는 인버터(I1)와, 상기 제2제어신호를 반전단자로 인가받고 상기 인버터(I1)의 출력신호를 비반전단자로 인가받아 VCC전원을 전송게이트(13)의 비반전단자로 전송 또는 차단시키는 제1전송게이트(TG1)와, 상기 제2제어신호(CON2)를 비반전단자로 인가받고 상기 인버터(I1)의 출력신호를 반전단자로 인가받아 기준전압(VREF)을 상기 전송게이트(13)의 비반전단자로 전송 또는 차단시키는 제2전송게이트(TG2)로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 메모리의 기판전압 발생회로.The inverter of claim 2, wherein the voltage selector is configured to receive an inverter I1 for inverting the second control signal CON2, the second control signal as an inverting terminal, and an output signal of the inverter I1 as a non-inverting terminal. The first transmission gate TG1 for transmitting or blocking the VCC power to the non-inverting terminal of the transmission gate 13 and the second control signal CON2 as the non-inverting terminal and receiving the output signal of the inverter I1. Is a second transfer gate (TG2) for receiving or transmitting a reference voltage (VREF) to the non-inverting terminal of the transfer gate (13) by applying an inverting terminal. 링 발진기(10)와, 구동부(11)와, 차지펌프(12)로 구성된 기판전압 발생회로에 있어서, 비반전단자로는 VCC전압을 공급하고, 반전단자로 인가되는 신호(OUT)에 따라 상기 구동부(11)에서 출력되는 펄스를 그대로 차지펌프(12)로 전송하거나 펄스의 진폭을 줄여 전송하는 전송게이트(13)와, 외부전원의 크기를 검출하여 일정전압 이상이면 작은 진폭을 갖도록 하기 위한 신호(OUT)를 상기 전송게이트(13)의 반전단자로 제공하는 VCC전원 감지부(15)를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 메모리의 기판전압 발생회로. In the substrate voltage generation circuit composed of the ring oscillator 10, the driving unit 11, and the charge pump 12, the non-inverting terminal is supplied with the VCC voltage, according to the signal OUT applied to the inverting terminal. Transmission gate 13 for transmitting the pulse output from the driver 11 to the charge pump 12 as it is or to reduce the amplitude of the pulse and a signal for detecting the magnitude of the external power source to have a small amplitude if the predetermined voltage or more And a VCC power detector (15) for providing OUT to the inverting terminal of the transfer gate (13).
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