JPS59192150U - ホトマスク基板 - Google Patents

ホトマスク基板

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Publication number
JPS59192150U
JPS59192150U JP1983086906U JP8690683U JPS59192150U JP S59192150 U JPS59192150 U JP S59192150U JP 1983086906 U JP1983086906 U JP 1983086906U JP 8690683 U JP8690683 U JP 8690683U JP S59192150 U JPS59192150 U JP S59192150U
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JP
Japan
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photomask substrate
photomask
substrate
view
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Pending
Application number
JP1983086906U
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English (en)
Inventor
明 森重
Original Assignee
富士通株式会社
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来のホトマスク基板収納ケースの一例を示す
斜視図、第２図、第３図は従来のホトマスク基板収納ケ
ースにホトマスを収容した図であり、第２図は側面図、
第３図は平面図、第４図、第５図は本考案の一実施例で
あるＵＮ形成したホトマスク基板を示す斜視図（第４図
）及び側面図（第５図）、第６図は本考案の一実施例で
あるホトマスク基板を収容した収納ケースを示す要部平
面図、第７図は本−案の他の応用例であるホトマ　□ス
フ基板移送手段を示す図、第８図は本考案の他の実施例
であるし溝を備えた角形ホトマスク基板を示す斜視図で
ある。 図中、１１・・・・・・ホトマスク基板収納ケース、１
２．１３・・・・・・側面、１４・・・・・・ガイドレ
ール、１５．１８・・・・・・ホトマスク基板、１６．
１９・・・・・・ＵＮ、１７．１７’・・・・・・ワイ
ヤ。 ＩＩ　Ｓ１１　ｉｔ　’＜ 一一一一一一一」

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 基板の側面にガイド用溝が形成されてなることを特徴と
    するホトマスク基板。
JP1983086906U 1983-06-07 1983-06-07 ホトマスク基板 Pending JPS59192150U (ja)

Priority Applications (1)

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JP1983086906U JPS59192150U (ja) 1983-06-07 1983-06-07 ホトマスク基板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1983086906U JPS59192150U (ja) 1983-06-07 1983-06-07 ホトマスク基板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59192150U true JPS59192150U (ja) 1984-12-20

Family

ID=30216830

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1983086906U Pending JPS59192150U (ja) 1983-06-07 1983-06-07 ホトマスク基板

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JP (1) JPS59192150U (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55158636A (en) * 1979-05-29 1980-12-10 Nec Corp Photo-mask for semiconductor device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55158636A (en) * 1979-05-29 1980-12-10 Nec Corp Photo-mask for semiconductor device

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