JPS59175770A - 半導体論理素子 - Google Patents
半導体論理素子Info
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- JPS59175770A JPS59175770A JP58049914A JP4991483A JPS59175770A JP S59175770 A JPS59175770 A JP S59175770A JP 58049914 A JP58049914 A JP 58049914A JP 4991483 A JP4991483 A JP 4991483A JP S59175770 A JPS59175770 A JP S59175770A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 10
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 230000006386 memory function Effects 0.000 abstract description 5
- 108010076504 Protein Sorting Signals Proteins 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 7
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- 238000003909 pattern recognition Methods 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 210000004709 eyebrow Anatomy 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/788—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate with floating gate
- H01L29/7881—Programmable transistors with only two possible levels of programmation
-
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- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
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- H01L29/7881—Programmable transistors with only two possible levels of programmation
- H01L29/7884—Programmable transistors with only two possible levels of programmation charging by hot carrier injection
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- Semiconductor Memories (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、各種の入力信号系列の特徴抽出やコード化に
用いて有用な、プログラム可能な半導体論理素子に関す
る。
用いて有用な、プログラム可能な半導体論理素子に関す
る。
従来、コンピュータを用いたデータ処理において、大量
の入力データからの特徴抽出はプログラムにより行って
いる。しかしこれでは、プログラムが直列に実行される
ため多くの時間がかかるという難点があった。特にパタ
ーン認識における特徴抽出には、大型コンピュータによ
る大量のデータ処理時間が必要であった。
の入力データからの特徴抽出はプログラムにより行って
いる。しかしこれでは、プログラムが直列に実行される
ため多くの時間がかかるという難点があった。特にパタ
ーン認識における特徴抽出には、大型コンピュータによ
る大量のデータ処理時間が必要であった。
これに対し近年、大量データの処理における特徴抽出と
いう前処理部分を専用のハードウェアを用いて高速処理
するという方式が提案されている。これは、入力データ
に対して単純な条件反射をする部分をハードウェア化す
るものである。しかしながらこの方式は、異なる入力デ
ータに対してそれぞれハードウェアを構成しなければな
ら起、設計に多大の労力を要するとむ)う難点がある。
いう前処理部分を専用のハードウェアを用いて高速処理
するという方式が提案されている。これは、入力データ
に対して単純な条件反射をする部分をハードウェア化す
るものである。しかしながらこの方式は、異なる入力デ
ータに対してそれぞれハードウェアを構成しなければな
ら起、設計に多大の労力を要するとむ)う難点がある。
一方、古くから、信号入力段のしきい値に1み付けをす
ることで種々の機能を実現する回路方式としてパーセプ
トロンが知られている。この方式は、二値情報のみを扱
うコンピュータの目覚しい進歩の影にかくれて、忘れら
れようとしているが、最近、このパーセプトロンを用G
1て入力データの特徴抽出を行うことでかなりの処理能
力が得られるという報告がなされて(7)る。
ることで種々の機能を実現する回路方式としてパーセプ
トロンが知られている。この方式は、二値情報のみを扱
うコンピュータの目覚しい進歩の影にかくれて、忘れら
れようとしているが、最近、このパーセプトロンを用G
1て入力データの特徴抽出を行うことでかなりの処理能
力が得られるという報告がなされて(7)る。
又、生物の視覚系のシステム構成に関する理解が進むに
つれて、各種人力データの前処理方式にこれを利用する
ことが注目され始めている。
つれて、各種人力データの前処理方式にこれを利用する
ことが注目され始めている。
本発明は上記の点に鑑みなされたもので、入力信号系列
の特徴抽出やコード化のための論理回路用として有用な
、所望の論理機會粍をブロク゛ラム可能とした半導体論
理素子を提供することを目的とする。
の特徴抽出やコード化のための論理回路用として有用な
、所望の論理機會粍をブロク゛ラム可能とした半導体論
理素子を提供することを目的とする。
本発明に係る半導体論理素子は、半導体基板に互いに離
間したソース、ドレイン領域を設け、副領域間のチャネ
ル領域上に第1ゲート絶縁膜を介して浮遊ゲート電極を
設け、この浮遊ゲート漬極上に第2ゲート絶縁膜を介し
て複数個の互いに電気的に分離された人カゲー1−に極
を設けて構成される。この基本素子構造はFROMに用
いられる不揮発性半導体メモリ素子のそれと同様である
が、本発明においては、複数の入力ゲートを極を有する
こと、そして前記チャネル領域で生成したホットキャリ
アを前記浮遊ゲート電極に書込むことによって複数個の
入力ゲート成極への入力信号に対して所定の論理機能を
特徴するようにしたこと、を特徴としている。
間したソース、ドレイン領域を設け、副領域間のチャネ
ル領域上に第1ゲート絶縁膜を介して浮遊ゲート電極を
設け、この浮遊ゲート漬極上に第2ゲート絶縁膜を介し
て複数個の互いに電気的に分離された人カゲー1−に極
を設けて構成される。この基本素子構造はFROMに用
いられる不揮発性半導体メモリ素子のそれと同様である
が、本発明においては、複数の入力ゲートを極を有する
こと、そして前記チャネル領域で生成したホットキャリ
アを前記浮遊ゲート電極に書込むことによって複数個の
入力ゲート成極への入力信号に対して所定の論理機能を
特徴するようにしたこと、を特徴としている。
本発明によれば、簡羊な素子構造で論理積や論理和など
所望の論理機能をプログラムできる、記憶機能をもった
論理素子が実現する。そしてこのような複数個の論理素
子を用意し、これを例えば複数個の遅延回路とランダム
をこ相互接続して信号伝播ネットワークを構成すれζf
1前6己複数の論理素子のうち選択されたーμ上の論理
素子に情報を書込んでその論理機能を特イヒすることに
より、一定の入力信号系列(こ対して一定の出力信号系
列が得られる論理回路を構成することができる。この論
理回路を用し)れ(i、大量の入力データの特徴抽出等
の前処理を高速をこ行うことができ、各種入力データ番
こ対応してそれぞれ専用の前処理用)\−ドウエアを設
計する方式に比べて前処理回路の実現が非常(こ容易を
どなる。
所望の論理機能をプログラムできる、記憶機能をもった
論理素子が実現する。そしてこのような複数個の論理素
子を用意し、これを例えば複数個の遅延回路とランダム
をこ相互接続して信号伝播ネットワークを構成すれζf
1前6己複数の論理素子のうち選択されたーμ上の論理
素子に情報を書込んでその論理機能を特イヒすることに
より、一定の入力信号系列(こ対して一定の出力信号系
列が得られる論理回路を構成することができる。この論
理回路を用し)れ(i、大量の入力データの特徴抽出等
の前処理を高速をこ行うことができ、各種入力データ番
こ対応してそれぞれ専用の前処理用)\−ドウエアを設
計する方式に比べて前処理回路の実現が非常(こ容易を
どなる。
μ下図面を参照して本発明の詳細な説明する。第1図(
a) 、 (blはpチャネルのP几OM構造を利用し
た3人力のプログラマブル・ゲート素子を示す平面図と
その人−へ′断面図である。これを製造工程に従って説
明すれば、まず素子分離されたn型Si 基板1)を
用い、第1ゲート酸化膜14を介して第2層多結晶シリ
コンカ)らなる浮遊ゲート電極15を形成する。次(こ
浮遊ゲート電極15をマスクとして不純物拡散を行って
P+ 型のソース12お・よびドレイン13を形成する
。この後浮遊ゲー+−1極15上番こ第2ゲート酸化膜
16を介して第2層多結晶シリコンからなる入力ゲート
電極17(27,〜173)を形成する。最後に、図で
は省略したが眉間絶縁膜で全面をおおい、コンタクトホ
ールをあけて金属配線を形成して完成する。
a) 、 (blはpチャネルのP几OM構造を利用し
た3人力のプログラマブル・ゲート素子を示す平面図と
その人−へ′断面図である。これを製造工程に従って説
明すれば、まず素子分離されたn型Si 基板1)を
用い、第1ゲート酸化膜14を介して第2層多結晶シリ
コンカ)らなる浮遊ゲート電極15を形成する。次(こ
浮遊ゲート電極15をマスクとして不純物拡散を行って
P+ 型のソース12お・よびドレイン13を形成する
。この後浮遊ゲー+−1極15上番こ第2ゲート酸化膜
16を介して第2層多結晶シリコンからなる入力ゲート
電極17(27,〜173)を形成する。最後に、図で
は省略したが眉間絶縁膜で全面をおおい、コンタクトホ
ールをあけて金属配線を形成して完成する。
この実施例では、入力ゲートを極17をチャネルと直交
する方向に配設しているが、こ第1らは浮遊ゲート電極
15と一定の容量結合をすればよいので、チャネル方向
に配設してもよG10このゲート素子の動作を第2図を
参照しな力Sら次に説明する。第2図に示すようEこ、
浮遊ゲートYL極15と基板11との間の容量をCo
、入力ゲートを極17と浮遊ゲート電極15との間の容
量をそれぞれC1,C9,C8とする。し)ま、基板1
1の電位を0、浮遊ゲート電極15の電位をVい各入力
ゲート電極17.,17.・173の電位をVl e’
t −v3とし、浮遊ゲート15に蓄えられた電荷量を
ΔQとしたとき、 −ΔQo+Co■o=C+(V+ Vo)+Ct(V2
−vo)−4−C3(V3−Vo) ・・=−111
とおくと、(1)式から と表;b’lする。■1.■2.■3はOまタハ■H(
負)をとるとして、これらの全てがvHの場合のV。
する方向に配設しているが、こ第1らは浮遊ゲート電極
15と一定の容量結合をすればよいので、チャネル方向
に配設してもよG10このゲート素子の動作を第2図を
参照しな力Sら次に説明する。第2図に示すようEこ、
浮遊ゲートYL極15と基板11との間の容量をCo
、入力ゲートを極17と浮遊ゲート電極15との間の容
量をそれぞれC1,C9,C8とする。し)ま、基板1
1の電位を0、浮遊ゲート電極15の電位をVい各入力
ゲート電極17.,17.・173の電位をVl e’
t −v3とし、浮遊ゲート15に蓄えられた電荷量を
ΔQとしたとき、 −ΔQo+Co■o=C+(V+ Vo)+Ct(V2
−vo)−4−C3(V3−Vo) ・・=−111
とおくと、(1)式から と表;b’lする。■1.■2.■3はOまタハ■H(
負)をとるとして、これらの全てがvHの場合のV。
をvoa=vo (H、H、H)で表わし、全てがOの
場合のv(、をVoL=■o(Y〕、L、L)で表わす
と、となる。
場合のv(、をVoL=■o(Y〕、L、L)で表わす
と、となる。
いま、このゲート素子の浮遊ゲート電極15に電荷注入
を行わない状態、即ちプログラミング前の状態では1.
−VT>ン−VHでありしきい値が負方向に十分大きい
。この状態ではVOL。
を行わない状態、即ちプログラミング前の状態では1.
−VT>ン−VHでありしきい値が負方向に十分大きい
。この状態ではVOL。
VOHいずれもしきい値を越えることはない。即ち入力
ゲート電極17にOとvHがいかなる組合せて入力して
も、チャネルは導通せず、論理機能は活性化されていな
いことになる。このゲート素子のプログラミングは、浮
遊ゲート15への電子注入により行われる。これは、F
ROMにおいてよく知られているように、チャネル領
域にホットキャリアを生成して高エネルギーの電子を浮
遊ゲート15に注入することにより行われる。これによ
って、vT を下げ、しきい値VTHに対して −Vou>−VTH>−VT>0 とすることができる。叩ちしきい値がt31 、 +4
1式のVOH、vOL の中間に設定される。
ゲート電極17にOとvHがいかなる組合せて入力して
も、チャネルは導通せず、論理機能は活性化されていな
いことになる。このゲート素子のプログラミングは、浮
遊ゲート15への電子注入により行われる。これは、F
ROMにおいてよく知られているように、チャネル領
域にホットキャリアを生成して高エネルギーの電子を浮
遊ゲート15に注入することにより行われる。これによ
って、vT を下げ、しきい値VTHに対して −Vou>−VTH>−VT>0 とすることができる。叩ちしきい値がt31 、 +4
1式のVOH、vOL の中間に設定される。
ここで、説明を簡単にするため、C1=C,=C,=C
とすると、3つの入力ゲート電極17へ供給されるVH
,0の組合せによって、浮遊ゲート電極15は次の4つ
の電位をとることができる0 そこで、前述したプログラミング後の素子のしきい値V
TRを例えば、 −VO(L、L、L)<−VTH<−VH(L、L、H
) 、、、、、・f!51とすると、このゲート素子は
、入力ゲートを極17への人力信号が全て0のときは非
導通、入力信号が一つでもVHになれば導通となる。即
ちvHを”1′とし、素子の導通状態を“1“、非導通
状態をmolとすれば、このゲート素子はOR機能が活
性化されたことになる。またプログラミング後の素子の
しきい値VTHを−V□(L、H,H)<−VTH<−
v□(HeHlH) ・・−・・t61となるように
設定すれば、このゲート素子はAND機能が活性化され
たことになる。
とすると、3つの入力ゲート電極17へ供給されるVH
,0の組合せによって、浮遊ゲート電極15は次の4つ
の電位をとることができる0 そこで、前述したプログラミング後の素子のしきい値V
TRを例えば、 −VO(L、L、L)<−VTH<−VH(L、L、H
) 、、、、、・f!51とすると、このゲート素子は
、入力ゲートを極17への人力信号が全て0のときは非
導通、入力信号が一つでもVHになれば導通となる。即
ちvHを”1′とし、素子の導通状態を“1“、非導通
状態をmolとすれば、このゲート素子はOR機能が活
性化されたことになる。またプログラミング後の素子の
しきい値VTHを−V□(L、H,H)<−VTH<−
v□(HeHlH) ・・−・・t61となるように
設定すれば、このゲート素子はAND機能が活性化され
たことになる。
次に本発明のゲート素子を用いてCMO8型のプログラ
マブルNANDゲートを構成した実施例を説明する。第
3図はその模式的レイアウト図であり、第4図は等価回
路図である。n型Si基板領域に第1ゲート酸化膜を介
して第1層多結晶シリコンによる浮遊ゲート電極21を
形成し、ソース、ドレイン領域となるp+ 層211゜
22□ を形成した後更に第2ゲート酸化膜を介して浮
遊ゲート電極2ノに重なる第2@多結晶シリコンからな
る入力ゲート電極2s(2s、。
マブルNANDゲートを構成した実施例を説明する。第
3図はその模式的レイアウト図であり、第4図は等価回
路図である。n型Si基板領域に第1ゲート酸化膜を介
して第1層多結晶シリコンによる浮遊ゲート電極21を
形成し、ソース、ドレイン領域となるp+ 層211゜
22□ を形成した後更に第2ゲート酸化膜を介して浮
遊ゲート電極2ノに重なる第2@多結晶シリコンからな
る入力ゲート電極2s(2s、。
232 t 23m )を形成して、3人力のPチャネ
ル型ゲート素子Qp を構成している。またn型Si基
板に設けたpウェル内に、第1ゲート酸化膜を介して第
1層多結晶シリコンからなるゲート電極24 (241
g24t w24s +24+ )を形成し、ソース、
ドレイン領域となるn十 層25(25I〜255)を
形成して、nチャネルMO8FET−Qr、、−Q、l
、を構成している。M OS F E T −Qn 4
は書込み制御用トランジスタである。ゲート素子QP
は、予めしきい値が負の十分大きな値に設定されている
。
ル型ゲート素子Qp を構成している。またn型Si基
板に設けたpウェル内に、第1ゲート酸化膜を介して第
1層多結晶シリコンからなるゲート電極24 (241
g24t w24s +24+ )を形成し、ソース、
ドレイン領域となるn十 層25(25I〜255)を
形成して、nチャネルMO8FET−Qr、、−Q、l
、を構成している。M OS F E T −Qn 4
は書込み制御用トランジスタである。ゲート素子QP
は、予めしきい値が負の十分大きな値に設定されている
。
このように構成されたNANDゲートは、電源Vss=
0〔■〕、電源■DD=+5〔■〕として、正論理でN
AND機能をもつ。即ち、プログラミング前は、入力端
子IN、〜■N、にいかなる組合せで入力信号が入って
も、ゲート素子Qp は非導通で出力端子OUTは高
レベルとなる。これは回路が未だ活性化されていないこ
とを示す。プログラミングは例えば入力端子IN1〜I
N、の全てに同時に正電位を与え、書込み制御用MO8
FET−Qn 4を導通させてゲート素子Qpのドレイ
ン側でアバランシェをおこし、生成された電子、正孔対
のうち電子を浮遊ゲート21に注入することにより行わ
れる。このとき、書込みが行われたゲート素子Qpのし
きい値は、前述の(5)式を満たすように制御される。
0〔■〕、電源■DD=+5〔■〕として、正論理でN
AND機能をもつ。即ち、プログラミング前は、入力端
子IN、〜■N、にいかなる組合せで入力信号が入って
も、ゲート素子Qp は非導通で出力端子OUTは高
レベルとなる。これは回路が未だ活性化されていないこ
とを示す。プログラミングは例えば入力端子IN1〜I
N、の全てに同時に正電位を与え、書込み制御用MO8
FET−Qn 4を導通させてゲート素子Qpのドレイ
ン側でアバランシェをおこし、生成された電子、正孔対
のうち電子を浮遊ゲート21に注入することにより行わ
れる。このとき、書込みが行われたゲート素子Qpのし
きい値は、前述の(5)式を満たすように制御される。
こうして活性化されると、この回路は次のような論理動
作をする。
作をする。
入力端子IN、〜IN3のうち一つがO[V’Jであれ
ば、−ゲート素子Qpが導通して出力端子OUTは高レ
ベル、即ち約+5〔V〕となる。入力端子IN1〜IN
、の全てが高レベルのとき、ゲート素子Qpが非導通で
出力端子OUTは低レベル、即ち約0■となる。つまり
、NAND機能が特化されたことになる。
ば、−ゲート素子Qpが導通して出力端子OUTは高レ
ベル、即ち約+5〔V〕となる。入力端子IN1〜IN
、の全てが高レベルのとき、ゲート素子Qpが非導通で
出力端子OUTは低レベル、即ち約0■となる。つまり
、NAND機能が特化されたことになる。
以上のようにしてこの発明によれば、所望の論理機能を
プログラムできる記憶機能をもった論理素子を、簡単な
素子構造で実現することができる。しかも前述のように
、全ての入力端子に同時に正電圧が入ったときのみ書込
みが行われるようにしておけば、信号レベルは別として
、人力信号系列の例示のみによって論理ゲートの特化が
できることになる。
プログラムできる記憶機能をもった論理素子を、簡単な
素子構造で実現することができる。しかも前述のように
、全ての入力端子に同時に正電圧が入ったときのみ書込
みが行われるようにしておけば、信号レベルは別として
、人力信号系列の例示のみによって論理ゲートの特化が
できることになる。
なおμ上では、各人力ゲート面極と浮遊ゲートを極間の
容量が等しい場合を説明したが、各容量を異なる値に設
定すれば、複数の入力ゲート電極に優先度を与えること
も可能である。
容量が等しい場合を説明したが、各容量を異なる値に設
定すれば、複数の入力ゲート電極に優先度を与えること
も可能である。
次に本発明に係る論理素子を用いて、入力データの特徴
抽出やコード化を行うプログラマブル論理回路を構成し
た応用例を説明する。真5図はその回路構成を示してい
る。この例は信号入力端子がc、 、c、 、c、 、
c、の4個、信号出力端子がり1.D、 、D3.D、
の4個の場合を示しているが、一般に任意の入出力端子
数に拡張できる。Ti(i=1.2.・・)は遅延回路
であり、Gj(j=i、z*・・・)は本発明に係る記
憶機能つきの論理素子で、例えば、しきい値プログラマ
ブルANDゲートである。遅延回路Ti とANDゲ
ートGj はランダムな組合せで相互接経して、入出
力端子間に信号伝播ネットワークを構成している。
抽出やコード化を行うプログラマブル論理回路を構成し
た応用例を説明する。真5図はその回路構成を示してい
る。この例は信号入力端子がc、 、c、 、c、 、
c、の4個、信号出力端子がり1.D、 、D3.D、
の4個の場合を示しているが、一般に任意の入出力端子
数に拡張できる。Ti(i=1.2.・・)は遅延回路
であり、Gj(j=i、z*・・・)は本発明に係る記
憶機能つきの論理素子で、例えば、しきい値プログラマ
ブルANDゲートである。遅延回路Ti とANDゲ
ートGj はランダムな組合せで相互接経して、入出
力端子間に信号伝播ネットワークを構成している。
第6図〜第8図はこの回路の基本動作を説明するために
、人力信号の伝播の様子を示したものである。いま、第
6図に示すようなタイミングで信号入力端子C,、C2
,C8に入力信号系列が入ったとする。第7図はこの入
力信号系列に対するANDゲートG1の入出力関係であ
る。
、人力信号の伝播の様子を示したものである。いま、第
6図に示すようなタイミングで信号入力端子C,、C2
,C8に入力信号系列が入ったとする。第7図はこの入
力信号系列に対するANDゲートG1の入出力関係であ
る。
なお、遅延回路T1 の遅延時間をTiで表わし、A
NDゲー) GjへのXからの入力信号を、 Gj (
X)で表わしている。即ち入力端子C,,C2の入力信
号はそれぞれ遅延回路T、、T、でτ1.τ4 だけ遅
延され、入力端子C5の入力信号はそのまま、それぞれ
ANDゲートG1に人力される。このとき、t1+τ1
=t2+τ4 であれば、第7図に示すように時刻tG
+でANDが成立して11“が出る。更に遅延回路T1
の出力は遅延回路T2.T3を通過してANDゲートG
tに入り、またANDゲー1−01の出力もANDゲー
トG tに入る。
NDゲー) GjへのXからの入力信号を、 Gj (
X)で表わしている。即ち入力端子C,,C2の入力信
号はそれぞれ遅延回路T、、T、でτ1.τ4 だけ遅
延され、入力端子C5の入力信号はそのまま、それぞれ
ANDゲートG1に人力される。このとき、t1+τ1
=t2+τ4 であれば、第7図に示すように時刻tG
+でANDが成立して11“が出る。更に遅延回路T1
の出力は遅延回路T2.T3を通過してANDゲートG
tに入り、またANDゲー1−01の出力もANDゲー
トG tに入る。
ANDゲートGj での遅延をτGjとすると、第8
図に示すように、to+τ、十τ2+τ5=tG+十τ
()Iのとき、時刻jGzでこのANDゲートG 2の
出力に”1“が立つ。即ち、第6図に示す入力信号系列
に対して出力端子D1に時刻tG2で111が出ること
になる。
図に示すように、to+τ、十τ2+τ5=tG+十τ
()Iのとき、時刻jGzでこのANDゲートG 2の
出力に”1“が立つ。即ち、第6図に示す入力信号系列
に対して出力端子D1に時刻tG2で111が出ること
になる。
こうして第5図の回路は、一定の入力信号系列に対して
一定の出力信号系列を出すことにより、入力信号系列を
識別できる。
一定の出力信号系列を出すことにより、入力信号系列を
識別できる。
第5図の回路の特化は次のように行われる。
ANDゲートGj は記憶機能を有するプログラマブ
ルANDゲートであって、前述した入力信号系列の例示
と同時に書込み信号をイネーブルとして書込みモードと
する。これにより、出力がl 11となるANDゲート
、先の動作説明の例でいえばα、と02のみが活性化さ
れる。即ちANDゲートG、とG、のみがその後もAN
Dゲートとして働き、これ以外のANDゲートはゲート
として機能しない状態に設定される。
ルANDゲートであって、前述した入力信号系列の例示
と同時に書込み信号をイネーブルとして書込みモードと
する。これにより、出力がl 11となるANDゲート
、先の動作説明の例でいえばα、と02のみが活性化さ
れる。即ちANDゲートG、とG、のみがその後もAN
Dゲートとして働き、これ以外のANDゲートはゲート
として機能しない状態に設定される。
このようにして、第5図の回路は必要なにのゲートG」
を活性化することによって、一定の入力信号系列に
対して一定の出力信号系列が得られる論理回路として特
化され、異なる入力信号系列に対しては応答しない状態
ζこなる。
を活性化することによって、一定の入力信号系列に
対して一定の出力信号系列が得られる論理回路として特
化され、異なる入力信号系列に対しては応答しない状態
ζこなる。
こうして本発明を応用すれば、大量の入力データの特徴
抽出やコード化を行う論理回路が容易に作成できる。即
ち第5図の論理回路は、回路を特化する前は遅延回路と
論理素子をランダムに組合せただけであるから、いわば
汎用品であって、各種入力データに対応して専用の前処
理用ハードウェアを設計する縦来の方式に比べて、°前
処理回路の実現が容易である。またこの論理回路を用い
れば、大量の人力データの前処理を高速に行うことがで
き、後処理のソフトウェアの負担が大幅に軽減される。
抽出やコード化を行う論理回路が容易に作成できる。即
ち第5図の論理回路は、回路を特化する前は遅延回路と
論理素子をランダムに組合せただけであるから、いわば
汎用品であって、各種入力データに対応して専用の前処
理用ハードウェアを設計する縦来の方式に比べて、°前
処理回路の実現が容易である。またこの論理回路を用い
れば、大量の人力データの前処理を高速に行うことがで
き、後処理のソフトウェアの負担が大幅に軽減される。
この結果、各種データ処理を小型のコンピュータで行う
ことができ、パターン認識装置の小型化や移動するシス
テムへの組込みも容易になる。例えばロボットへの小型
の視覚系の組込みが可能古なる。
ことができ、パターン認識装置の小型化や移動するシス
テムへの組込みも容易になる。例えばロボットへの小型
の視覚系の組込みが可能古なる。
第1図(a) 、 (blは本発明の一実施例の論理ゲ
ート素子を示す平面図とそのA −A’断面図、第2図
はその動作を説明するための図、第3図は本発明の他の
実施例のCMO8型NAND ゲートを示すレイアウト
図、第4図はその等価回路図、第5図は本発明に係るゲ
ート素子を応用した論理回路例を示す図、第6図〜第8
図はその基本動作を説明するための信号波形図である。 11 =−’n型Si基板、22 、13.−p+層、
14・・・第1ゲート酸化膜、15・・・浮遊ゲートH
極、16・・・第2ゲート酸化膜、171,172゜1
7s・・入力ゲー ト電極。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第1図 第2図 第3図
ート素子を示す平面図とそのA −A’断面図、第2図
はその動作を説明するための図、第3図は本発明の他の
実施例のCMO8型NAND ゲートを示すレイアウト
図、第4図はその等価回路図、第5図は本発明に係るゲ
ート素子を応用した論理回路例を示す図、第6図〜第8
図はその基本動作を説明するための信号波形図である。 11 =−’n型Si基板、22 、13.−p+層、
14・・・第1ゲート酸化膜、15・・・浮遊ゲートH
極、16・・・第2ゲート酸化膜、171,172゜1
7s・・入力ゲー ト電極。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第1図 第2図 第3図
Claims (2)
- (1)半導体基板に互いに離間したソース、ドレイン領
域を設け、副領域間のチャネル領域上に第1ゲート絶縁
膜を介して浮遊ゲート4極を設け、この浮遊ゲート上ζ
こ第2ゲート絶縁膜を介して複数個の互いに1気的に分
離された入カゲーzt極を設けて構成され、前記チャネ
ル領域で生成されたホットキャリアを前記浮遊ゲート成
極に書込むことにより、前記複数個の入カゲー)!極へ
の入力信号に対して所定の論理機能を特化するようにし
たことを特徴とする半導体論理素子。 - (2) 前記浮遊ゲート電極への書込みは、前記複数
個の入力ゲートを極に同時に書込み電位が与えられたと
きに行われる特許請求の範囲第1項記載の半導体論理素
子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58049914A JPS59175770A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | 半導体論理素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58049914A JPS59175770A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | 半導体論理素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59175770A true JPS59175770A (ja) | 1984-10-04 |
JPH0420272B2 JPH0420272B2 (ja) | 1992-04-02 |
Family
ID=12844276
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58049914A Granted JPS59175770A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | 半導体論理素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59175770A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1990015444A1 (en) * | 1989-06-02 | 1990-12-13 | Tadashi Shibata | Semiconductor device |
WO1992016971A1 (en) * | 1991-03-21 | 1992-10-01 | Tadashi Shibata | Semiconductor device |
EP0657934A1 (en) * | 1992-08-26 | 1995-06-14 | SHIBATA, Tadashi | Semiconductor integrated circuit |
US5498888A (en) * | 1993-03-19 | 1996-03-12 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor device and method for processing multiple input signals |
US5594372A (en) * | 1989-06-02 | 1997-01-14 | Shibata; Tadashi | Source follower using NMOS and PMOS transistors |
US5739568A (en) * | 1994-11-28 | 1998-04-14 | Motorola, Inc. | Non-volatile memory having a cell applying to multi-bit data by double layered floating gate architecture and programming method for the same |
-
1983
- 1983-03-25 JP JP58049914A patent/JPS59175770A/ja active Granted
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1990015444A1 (en) * | 1989-06-02 | 1990-12-13 | Tadashi Shibata | Semiconductor device |
EP0739041A2 (en) * | 1989-06-02 | 1996-10-23 | SHIBATA, Tadashi | Floating gate transistor with a plurality of control gates |
EP0739041A3 (en) * | 1989-06-02 | 1996-11-06 | SHIBATA, Tadashi | Floating gate transistor with a plurality of control gates |
US5594372A (en) * | 1989-06-02 | 1997-01-14 | Shibata; Tadashi | Source follower using NMOS and PMOS transistors |
WO1992016971A1 (en) * | 1991-03-21 | 1992-10-01 | Tadashi Shibata | Semiconductor device |
US5587668A (en) * | 1991-03-21 | 1996-12-24 | Shibata; Tadashi | Semiconductor devices utilizing neuron MOS transistors |
EP0657934A1 (en) * | 1992-08-26 | 1995-06-14 | SHIBATA, Tadashi | Semiconductor integrated circuit |
EP0657934A4 (en) * | 1992-08-26 | 1997-09-03 | Tadashi Shibata | INTEGRATED SEMICONDUCTOR CIRCUIT. |
US5498888A (en) * | 1993-03-19 | 1996-03-12 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor device and method for processing multiple input signals |
US5739568A (en) * | 1994-11-28 | 1998-04-14 | Motorola, Inc. | Non-volatile memory having a cell applying to multi-bit data by double layered floating gate architecture and programming method for the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0420272B2 (ja) | 1992-04-02 |
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