JPS59172606A - Color filter - Google Patents

Color filter

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Publication number
JPS59172606A
JPS59172606A JP58047063A JP4706383A JPS59172606A JP S59172606 A JPS59172606 A JP S59172606A JP 58047063 A JP58047063 A JP 58047063A JP 4706383 A JP4706383 A JP 4706383A JP S59172606 A JPS59172606 A JP S59172606A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
wavelength
film thickness
transmittance
color filter
Prior art date
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Pending
Application number
JP58047063A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hajime Sakata
肇 坂田
Kojiro Yokono
横野 幸次郎
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Filing date
Publication date
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Priority to JP58047063A priority Critical patent/JPS59172606A/en
Publication of JPS59172606A publication Critical patent/JPS59172606A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters

Abstract

PURPOSE:To obtain a blue color filter which has a colored layer formed under control over film thickness by vacuum deposition while thin-film interference effect is utilized and has large difference in quantity of transmitted light between the light transmission wavelength area and a light attenuating wavelength area. CONSTITUTION:A pigment film has such film thickness that the transmittance to a light wave with a 450nm wavelength in the transmission wavelength range is maximum or at least between Tmax and Tmax.X85% within the film thickness range wherein a light wave of 600nm in the attenuation wavelength range has transmittance below a specific value. The refractive index of the colored layer used for a blue color filter should be smaller than that of a substrate in order to set the optimum film thickness of the colored layer. Further, the center wavelength, i.e. 450nm is selected normally as wavelength within the blue transmission wavelength range, and 600nm is selected as a representative wavelength in the attenuation wavelength range. Then, the transmittance of light with some wavelength in the attenuation wavelength range should be some set value for the color filter.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はカラーフィルター、11にカラー撮像素子およ
びカラーデイヌブレイ)゛に使ノ月される歯色系の微細
色う1解フイルターに関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a color filter, a tooth-colored fine color resolution filter used in a color image sensor and a color image sensor.

従来の一般的/よりターフィルターとして、フ1(板上
に有1′&市分子被膜を形成し、さらにこれを染(−1
で染色する有機系染色フィルターが知られている。
As a conventional general/more filter, a film is formed on the film plate, and this is further dyed (-1).
Organic dyed filters are known.

しかし、これらのフィルターの作成には、染色のため多
くの工数やlF、j間を要しJ1能率的であった。
However, the production of these filters required a large number of man-hours and IF and j time for staining, making it inefficient.

また染色層即ち着色透光層が比較的j9.くなるととも
に、厚さを一様にすることがfJi jiflj息lこ
め透過特性偶が不均一であるという欠点があった。
Also, the dyed layer, that is, the colored transparent layer is relatively j9. However, even if the thickness is made uniform, there is a drawback that the transmission characteristics are non-uniform.

これに7・]シ、真空蒸着により色伺を基板」二に直接
形成し、この着色層を光学的フィルター素子として月1
いる色材蒸着は上記引色フィルターの欠点を除去する俊
才′シたカラーフィルターである。また、作成に要する
コスI・は比較的安く、作成された着色層は耐熱[生に
侃れているという利点がある。特に、媒染層もしくはバ
インダー前の邑(」保)%’): l(!iを用いず、
直接、色伺を基板上に蒸着するので微細色分解フィルタ
ーに必要な11−反か容易にHB、 ;れるとともに、
着色層が色祠のみから11”11成されるので、層の厚
さが;λりくてもカラーフィルターに必要な吸光量が容
易眞得られる。
In addition to this, a colored layer is formed directly on the substrate by vacuum evaporation, and this colored layer is used as an optical filter element once a month.
Colorant vapor deposition is an excellent color filter that eliminates the drawbacks of the above-mentioned color filters. In addition, the cost I required for production is relatively low, and the produced colored layer has the advantage of being heat resistant. In particular, before the mordant layer or the binder, %'): l (without using !i,
Since the color separation layer is directly deposited on the substrate, it is easy to obtain the 11-color HB, which is necessary for fine color separation filters.
Since the colored layer is made up of only colored grains, the amount of light absorption necessary for the color filter can be easily obtained even if the layer thickness is approximately λ.

しかし、着色層の厚さが可視光波長もしくは、それ以下
のオーダーになると、光吸収1i6としての加色層のふ
るまし・は、従来知られているものと周なる。即ち、多
重光重干渉の影響が現わ:lt 、膜厚変化に対する透
、過率特性曲線は従来よく知られている単調減少曲線で
はなく川明的ピーク値を不1する曲線となる。これは特
に光透過波IQ域′(゛顕杵である。
However, when the thickness of the colored layer is on the order of the visible light wavelength or less, the behavior of the additive layer as a light absorber 1i6 becomes similar to what is conventionally known. That is, the influence of multiple light multiple interference appears: the transmission characteristic curve with respect to change in film thickness becomes a curve that does not have a clear peak value, rather than the conventionally well-known monotonically decreasing curve. This is particularly true for the optical transmission wave IQ region.

この現象により、色祠蒸着カラーフィルターの分光透過
率重性が複雑化するので、従来これを防114するため
着色層と同じ屈折率をもつ透明層を干ねることによって
層全体を厚くして光干渉による影響を減′νさぜたり、
あるいは適切な厚さの着色層と一υなる屈折率をもつ透
明層をΦねろことにより反則光の位相を制御して光11
渉による影K1−9.iを減少させて℃・る(特開昭S
t、−3010gなど)。
This phenomenon complicates the spectral transmittance of color filters, so conventional methods to prevent this problem include drying a transparent layer that has the same refractive index as the colored layer, thereby making the entire layer thicker and allowing the light to shine through. Reduce the effects of interference,
Alternatively, the phase of the repulsed light can be controlled by forming a transparent layer with a refractive index equal to the colored layer with an appropriate thickness.
Shadow by Wataru K1-9. By decreasing i, ℃・ru (JP-A-Sho S
t, -3010g, etc.).

しかし、色A’A’ K応じたl1j3 」)? 9’
c=’をイ1する透明層の選択が困難であり、肪に複数
色の色祠を同一ノ1(板に形成するとき、すべての色利
について上記条件をjlj(:)たすことは極めて困何
である。
But the color A'A' K according to l1j3'')? 9'
It is difficult to select a transparent layer that satisfies c = '1, and when forming multiple color marks on the same board (board), it is difficult to satisfy the above conditions for all colors. This is extremely difficult.

本発明は上記の点に鑑み提案されたもので、薄膜干渉効
果を利用可能に真空蒸着により膜1′ノを制御されて形
成された着色層を有[〜、光透過伎長域での透過光量と
光減衰波長域での透過光triの差を大きくしたカラー
フィルクーのC諺イ共を目′]勺とする。。
The present invention has been proposed in view of the above points, and has a colored layer formed by controlling the film 1' by vacuum deposition to make use of the thin film interference effect. A color film with a large difference between the amount of light and the transmitted light tri in the optical attenuation wavelength range is defined as the color filter. .

ます、本発明の実施例の前提である水色[14の光透過
特性ならびに現象および本発明に係る着色層の膜厚を得
るための条件について概略、脱明する。
First, we will briefly clarify the light transmission characteristics and phenomena of light blue [14], which are the premise of the embodiments of the present invention, and the conditions for obtaining the thickness of the colored layer according to the present invention.

一般に1段)IC性のある成膜を光が透過する場合、透
過光−砒および反射光叶を決定するのは薄膜と薄’jl
’+:の上下層の各々の屈折率(n)、減衰率(8))
、薄膜のj艷ルさくCI+である。これらのうち、屈折
率と減衰率はAlt膜(ここでは着色層)および上下層
に固有のものである。従って透過光量を制御ずろために
は膜厚を変化さぜる必要がある。
In general, when light passes through a film with IC properties, it is the thin film and thin film that determine the transmitted light and reflected light.
'+: refractive index (n), attenuation rate (8) of each of the upper and lower layers)
, is a thin film structure CI+. Among these, the refractive index and attenuation rate are unique to the Alt film (here, the colored layer) and the upper and lower layers. Therefore, in order to control the amount of transmitted light, it is necessary to change the film thickness.

第1図は透過波長域にある光眞ついての光透過率と着色
層の膜厚との関係をあられす図である。
FIG. 1 is a diagram showing the relationship between the true light transmittance of light in the transmission wavelength range and the thickness of the colored layer.

実線は光干渉効果を考慮したときのI]@ifニー光透
過率曲線であり、破線は光干渉効果を考慮しないときの
膜厚−光透過曲線である。図において、着色層の1)つ
1馬」はこの光の波長と同程度もしくはそれ以下のオー
ダーであり、このため着色層による吸光量か少な℃・の
で干渉効果は顕著になっている。尚、着色層の屈折率と
基板の屈折率の大小関係によって、膜1ζL−光透過率
曲線の性質が変わるが、この図は、基板の屈Di率が着
色層のそれより高し・ときを示す。
The solid line is the I]@if knee light transmittance curve when light interference effects are considered, and the broken line is the film thickness-light transmittance curve when light interference effects are not taken into account. In the figure, the wavelength of the colored layer 1) is on the same order of magnitude or less than the wavelength of this light, and therefore the amount of light absorbed by the colored layer is small, so the interference effect is significant. Note that the properties of the film 1ζL-light transmittance curve change depending on the magnitude relationship between the refractive index of the colored layer and the refractive index of the substrate, but this figure shows that the refractive index of the substrate is higher than that of the colored layer. show.

第2図は減衰波長域にある光についての光透過率と着色
層の膜厚との関係を示す。この場合、着色j7’f4の
膜厚がこの光の波長と同程度もしくはそれ以下のオーダ
ーであっても、透過光の減衰が激しく、干渉による影響
はあられれない。
FIG. 2 shows the relationship between the light transmittance for light in the attenuation wavelength range and the thickness of the colored layer. In this case, even if the film thickness of the colored j7'f4 is on the same order of magnitude or smaller than the wavelength of this light, the transmitted light is attenuated so sharply that there is no effect of interference.

第3図は、着色層の屈折率が基板の屈折率より高いと℃
・う条件を除いて第7図と同4.ηな条件下の透過波長
域にある光についての光透過・全くと着色層の膜厚との
関係をあられず図である。実線は光干渉効果を考慮した
ときの膜厚−光透過イ用111線であり、破線は光干渉
効果を考慮しな(・ときの1模j″;L−光透過半曲線
であるが、干渉効果によって透過率が低下する点で第7
図に示す場合と5yなっている。
Figure 3 shows that when the refractive index of the colored layer is higher than the refractive index of the substrate,
・Same as Figure 7 except for the conditions in 4. 7 is a diagram showing the relationship between the total light transmission and the thickness of the colored layer for light in the transmission wavelength range under the condition of η. The solid line is the film thickness-light transmission line when taking into account the optical interference effect, and the broken line is the 111 line when considering the optical interference effect. The seventh point is that the transmittance decreases due to interference effects.
It is 5y compared to the case shown in the figure.

尚、減衰波長域(Cある光(でついては干渉効果を示さ
な(・から、着色層の屈折率が基板の屈折率より高いと
いう条件によっては特性は影響されず、このため、膜厚
−光透過半曲線は第7図と同様の関係を示す。
Note that the attenuation wavelength range (C) does not show any interference effect for certain light (. Therefore, the characteristics are not affected by the condition that the refractive index of the colored layer is higher than the refractive index of the substrate, and therefore, the film thickness - light The transmission half curve shows the same relationship as in FIG.

次に、以上の特性図から青色カラーフィルターとして使
用する着色層の最適の膜厚を設定するための条件を求め
る。まず、着色層の屈折率は基板の屈折率より低いもの
を用いる。透過波長域において透過率がより1彎い膜厚
を選択しうる可能性があるかr)である(図/と図3と
の比較より)。また、古色透過θ支長域にある波長とし
て、通常その中心波長である1150 nm を選び、
減衰波長域にある波長の代表として乙00nmの波長を
選ふ。
Next, conditions for setting the optimal film thickness of the colored layer used as the blue color filter are determined from the above characteristic diagram. First, a colored layer having a refractive index lower than that of the substrate is used. Is there a possibility of selecting a film thickness that has a higher transmittance in the transmission wavelength range? In addition, as the wavelength in the archaic transmission θ branch region, 1150 nm, which is usually the center wavelength, is selected,
A wavelength of 00 nm is selected as a representative wavelength in the attenuation wavelength range.

第7図を波長ダ汐0nm の膜L7−透過率の関係を示
す図であると仮定し、また第2図を波長乙00nmの膜
19〜透過率の関係を示す図であると仮定する。カラー
フィルターとして必要な条件は、まず減衰波長域(Cあ
る波長の透過率がある設定値以下であることである。い
ま設定値を特徴とする特許図スよりそのときの1戻厚は
dlであるから、必要膜1!9ばdlす、トとなる。こ
の条件下で、透過波長域のθにしの透過率が最大となる
膜厚が求める膜厚て・あるか、これを図/により求める
。即ち、図/において、II勇1i、’: d、以上の
範囲で最大透過Ha Tmax を示す膜厚はd2であ
る。このようにして、最適膜厚を設定できるが、実際に
は膜厚設定にバラツギも生じるし、また必ずしも最大透
過イーくを示ず膜j!/!でなければならないわけでは
ない。たとえば’I”mln  以」二だとすると、第
7図により所要の1模j7設定範囲はclmin  <
d (dmax  である。
It is assumed that FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the film L7 and the transmittance at a wavelength of 0 nm, and that FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the film 19 and the transmittance at a wavelength of 00 nm. The necessary conditions for a color filter are that the transmittance of a certain wavelength in the attenuation wavelength range (C) is below a certain set value.From the patent diagram that features the set value, the 1 return thickness at that time is dl. Therefore, the required film is 1!9 dl. Under these conditions, the required film thickness for the maximum transmittance at θ in the transmission wavelength range is determined by using the diagram. That is, in Figure 1, the film thickness exhibiting the maximum transmission Ha Tmax in the range above d is d2.In this way, the optimum film thickness can be set, but in reality the film thickness There will be variations in the thickness setting, and it does not necessarily have to be a film j!/! that does not necessarily show the maximum permeability.For example, if it is 'I"mln"2, the required 1 model j7 setting according to Figure 7. The range is clmin <
d (dmax).

次に、本発明の実施例に係る青色系カラーフィルターを
固体撮像素子如適用した場合について説明する。
Next, a case will be described in which the blue color filter according to the embodiment of the present invention is applied to a solid-state image sensor.

実施例/ まず、固体撮像素子の形成されたウェハー」二にFPM
 2 / 0を塗布しスピンナー塗布t)、により膜厚
を7000Aにする。乾燥後750〜200℃で30〜
60分間のプリベークをイーJい、その後遠紫外光にて
ス)・ライブ形状のマスク露光を行う。さらに所定の現
像処理を施してレジストマスクを形成した。ついで、レ
ジストマスクの形成されたウェハー全面に遠紫外光を照
射して溶剤に旬容な状、Il!Jとした。次にウェハー
と、モリブテン(MO)ボートに詰めた銅フタロシアニ
ン(C,1,711/乙0)を真空容器内に設置し真空
度70〜/Q  TOrrにおいてMOボートを50θ
〜S汐0℃に加熱し、銅フタロシアニンの蒸着を行った
Example/ First, a wafer on which a solid-state image sensor is formed, and second, an FPM
2/0 and spinner coating t) to make the film thickness 7000A. 30~ at 750~200℃ after drying
After pre-baking for 60 minutes, mask exposure of the live shape is performed using deep ultraviolet light. Furthermore, a resist mask was formed by performing a predetermined development process. Next, the entire surface of the wafer on which the resist mask has been formed is irradiated with far-ultraviolet light to soak it in a solvent. I made it J. Next, the wafer and copper phthalocyanine (C, 1,711/0) packed in a molybdenum (MO) boat were placed in a vacuum container, and the MO boat was heated at 50θ at a vacuum degree of 70~/Q TOrr.
It was heated to 0° C. to deposit copper phthalocyanine.

このときの蒸着膜厚は上述した原理に基づき、次のよう
に設定した。まず、銅フタロンアニンの屈折率(n+お
よび減衰率(k)を偏光解析の手法を用いて算出した。
The thickness of the deposited film at this time was set as follows based on the above-mentioned principle. First, the refractive index (n+) and attenuation rate (k) of copper phthalonanine were calculated using a polarization analysis method.

その結果、透過波長域の波長(入−950nm )にお
いてn = 7 ’7 、 k=0.0 /であり、減
衰波長域の波長(入=乙00nm )においてn =2
.0.に=0.3であった。尚、Slの屈折率はn−5
(入=−’I 30 nm  ) 、 n−1(人=6
00nm)である。この値を用いて1模厚−光透過率の
関係をグラフ化すると第9図(透過波長域)fI3S図
(減衰波長域)となる。(・ま減衰波長域での透過率を
3%以下に設定すると第に図により、膜j′−f4はa
乙Onm以上必要であることがわかる。
As a result, at the wavelength in the transmission wavelength range (input -950 nm), n = 7'7, k = 0.0 /, and at the wavelength in the attenuation wavelength range (input = O00 nm), n = 2.
.. 0. = 0.3. In addition, the refractive index of Sl is n-5
(in = -'I 30 nm), n-1 (person = 6
00 nm). When the relationship between thickness and light transmittance is graphed using this value, the result is FIG. 9 (transmission wavelength range) fI3S diagram (attenuation wavelength range). (・If the transmittance in the attenuation wavelength range is set to 3% or less, the film j′-f4 becomes a
It can be seen that more than Onm is required.

この条件下で透過波長域の波長が最大透過率を示す膜厚
は第9図」:すd=330nm であり、最大1h過率
は73係であることがわかる。また、透過波長域での透
過率をある設定値以上必要とするとき、第11を図によ
り、それに応じた膜厚の設定すべき範囲が定まる。
Under these conditions, the film thickness at which the wavelength in the transmission wavelength range exhibits the maximum transmittance is 330 nm in Figure 9, and it can be seen that the maximum 1-h transmittance is 73. Further, when the transmittance in the transmission wavelength range is required to be higher than a certain set value, the range in which the film thickness should be set accordingly is determined by referring to Figure 11.

実施例では、蒸着膜厚を最適膜厚である330nm  
とした。しがるのち、FPM、2#7D(FPM210
用現像液:ダイキン工業製)中にて3分間浸−を行いレ
ジストマスクを溶解すると同111Jに蒸着膜の不要部
分を除去してウェハー上にカラーフィルターを形成した
In the example, the deposited film thickness was set to 330 nm, which is the optimum film thickness.
And so. After a while, FPM, 2#7D (FPM210
The wafer was immersed for 3 minutes in a developer solution (manufactured by Daikin Industries, Ltd.) to dissolve the resist mask, and unnecessary portions of the deposited film were removed at 111J to form a color filter on the wafer.

尚、比較のために従来例に係るカラーフィルター即ち有
機高分子被膜による青色フィルターについて8悦明する
For comparison, a conventional color filter, ie, a blue filter made of an organic polymer film, will be described below.

まず、ウェハー上にゼラチン層を設け、銅フタロシアニ
ンと&Jぼ等しい分光吸収特性をもっカヤノール・ザイ
アニン4B(日本化部製)により染色を行い、以下レジ
ストを用いた公知のフォトエツチング法によりバターニ
ングを行った。このときの膜厚と透過率の関係を第4図
(透過波長域)。
First, a gelatin layer is formed on the wafer, and dyed with Kayanol Zyanine 4B (manufactured by Nippon Kabu), which has spectral absorption characteristics similar to copper phthalocyanine. went. The relationship between film thickness and transmittance at this time is shown in Figure 4 (transmission wavelength range).

第7図(減衰波長域)に示す。図から明らかなように、
最適膜厚設定値はケo o o nm となり、透過波
長域での最大透過率は40係となる。これから、明らか
なよう匠、本発明に係るカラーフィルターは従来のもの
に比ベア3%も高い透過率を得ることができる。
It is shown in FIG. 7 (attenuation wavelength range). As is clear from the figure,
The optimal film thickness setting value is ke o o o nm, and the maximum transmittance in the transmission wavelength range is 40 factors. From this, it is clear that the color filter according to the present invention can obtain a transmittance 3% higher than that of the conventional color filter.

実施例記 本発明の実施に係る青色系カラーフィルターを使用して
液晶カラーディスプレーを作製した場合について説明す
る。まず、ガラス板上に形成された5no2透明電極板
を載板とし、色月として加金1、鳴フタロシアニン(C
,■。qqloo )を用いて着色層を形成した。その
後、着色層のパッシベーション膜としてPGMAを形成
する。その後、実施例/と同様な手順によりストライプ
状のパターン形成を行った。なお、5no2 の屈折率
はn−ス0゜PGM’Aの屈折率n=l’19であり、
これらのイ[11Jを用いて作成した膜厚−透過率の関
係図より求めた最適膜厚値である厚さ300 nm の
着色層を形成した。その結果、透過波長域で透過率gθ
係の5色フィルターが得られた。これを液晶板に貼り合
わせて液晶カラーディスプレーを作成した。
EXAMPLE A case will be described in which a liquid crystal color display is manufactured using a blue color filter according to the present invention. First, a 5no2 transparent electrode plate formed on a glass plate was used as a plate, and Kakin 1 and Nauphthalocyanine (C
,■. qqloo) was used to form a colored layer. Thereafter, PGMA is formed as a passivation film for the colored layer. Thereafter, a striped pattern was formed using the same procedure as in Example. In addition, the refractive index of 5no2 is n-s0°PGM'A's refractive index n=l'19,
A colored layer was formed to have a thickness of 300 nm, which was the optimum thickness determined from the film thickness-transmittance relationship diagram prepared using these A[11J]. As a result, the transmittance gθ in the transmission wavelength range is
A related five-color filter was obtained. This was pasted onto a liquid crystal board to create a liquid crystal color display.

以−1六説明したように本発明によれば、フィルター市
外の良好なカラーフィルターが容易に得られる。また、
薄1換であるから微絹加工に適し、高1141度を要求
される撮像素子やディスプレー雪のカラーフィルターと
して特にぞ1益である。
As explained below, according to the present invention, a color filter with excellent quality can be easily obtained. Also,
Because it is a thin film, it is suitable for fine silk processing, and is particularly useful as a color filter for image pickup devices and display snow, which require a high temperature of 1141 degrees.

尚、本発明に係るカラーフィルターに月](・C)れる
基板は使用目的に応じて、選択1jJ能で特に限定され
ない。
The substrate used in the color filter according to the present invention can be selected depending on the purpose of use and is not particularly limited.

例えば、具体的に以下のものが使用できる。カラス仮、
光学用樹脂板、ゼラチン、ボリヒニルアルコール、ヒド
ロギシエチルセル[コース、メチルメタクリレート、ポ
リエステル、ブチラール、ポリアミドなとの樹脂フィル
ムで゛ある。−4:た、カラーフィルターを適用される
物と一体に形成ずろことも可能である。その場合の基板
の一例としては、CCD (チャージ・カップルド (バケット・ブリゲート・デフ4イス)、CID(チャ
ージ・インジェクション・デノ・イヌ)旬の固体撮像素
子,ブラウン管表示面,撮像管の受)(6面。
For example, specifically the following can be used: Crow temporary,
Optical resin plates, resin films of gelatin, polyhinyl alcohol, hydroxyethyl cell [cose, methyl methacrylate, polyester, butyral, polyamide, etc.]. -4: It is also possible to form the color filter integrally with the object to which it is applied. Examples of substrates in this case include CCD (charge coupled (bucket bridge differential)), CID (charge injection denomination) solid-state imaging devices, cathode ray tube display surfaces, and image pickup tube receivers. ) (6th page.

液晶デイヌブレー面,カラー電子写真用感光体等があげ
られる。
Examples include liquid crystal display surfaces and color electrophotographic photoreceptors.

着色層の色相は真空蒸着シ]能なものであれ(・子、問
題なく使用できる。
The hue of the colored layer can be used without any problem, even if it can be vacuum-deposited.

例えば、 (1)  イソイソトリノン系着色剤 モノライト・ネイビーB V   (C,1.No.7
3000>(2)  インダスロン系着色剤 ファーストゲン・スーパー・フ゛ルーAO//AMA(
C.1.No乙)goo) ボリモ・イ、イビーブルーFR (C.1.No.4’
7g35)リソゾール・フ゛ルーG L    (C.
1.N069g10)(3)  ジオキサジン系着色剤 クロモフタル・バイオレットB ファーストゲン・スーパー・ノくイオレットBBL(C
。1.Noり/3だυ (4)  インダスレン系着色剤 ミケヌレン・ブリリアント・ノくイオレノトRR(C.
1.Noろ0010) ミケスレン・フ゛ルー3G  (C。1.No乙9g’
IO)(5)l・リフコーニル・メタン系着色剤)’)
’)−ルーy/ルーDi>3’AO   (C.T.N
nq25?5:、2)ダイニチ・ファースト・ブルーB
OX (C。■.rlo.’l 41O’13:2)イルガラ
イト・ブルーTCR  (C.T.No4’J/’#;
’:/)ファナトン・ブルーろG   (C.I。NC
り20.23 : / )ハロボン・フ゛ルーRNN 
   (C. T 、No.’,’.2ろ00:/)レ
フレックス・ブルー 〇   (C. I 、No’1
2700 : / )アルカリ・ブルー・トナー (C
. 1.No.’i.2’730 : / )ブルー・
レイク・2グ372A(c。I 、No//−)θフ0
:/)レフレックス・ブルーCG   (C. I 、
No.’12g 00 )レフレックス・ブルー1え1
3’  (C.1.N鍔27ワS)ファナル・フ゛ルー
D乙3gO (6)  フタロンアニン系願制 銅フタロシアニン(α型)  (C.1.No.74’
/40)//    (β型) 無金属フタロシアニン   (C。■。No.74’ 
/ 00 )亜鉛フタロシアニン 鉄フタロシアニン 金フタロシアニン クロムフタロシアニン 又、本発明で用いるレジメNま、郡々のものカス適宜選
択されて用いられる。その代表的なもの(商品名)を挙
げると、 フォト・レジストとしては、 ”OFPR  シリーズ<、t,qq.qg 、goo
)”” OMRシリーズ(g/.g3.g3.g7)”
II Tl)R11 II SVR 11 11 03
R II II TPS 11以上東京応化?!!敷 
” KMPR−309” ” KMR−’7グ’7  
” l’ KMR−75.2””   KTFR   
”   ”   KPR  嘗1  ”  KPR−3
    ”   ”   KPR −’I”J21、 
−Lコダック製、” JSR−CBR  ” ” JS
R−CBI化−qO/”” JSR−CIR−70/ 
”以上1]本合成コ゛ム製II wayc。
For example, (1) Isoisotrinon colorant Monolite Navy B V (C, 1. No. 7
3000>(2) Indathlon colorant Fastgen Super Color AO//AMA(
C. 1. No. goo) Bolimo I, Ivy Blue FR (C.1.No.4'
7g35) Lysozol Fluor G L (C.
1. N069g10) (3) Dioxazine colorant Chromophthal Violet B First Gen Super Noku Iolet BBL (C
. 1. No. 3 (4) Industhrene colorant Mikenurene Brilliant Nokuiorenoto RR (C.I.
1. No. 0010) Mikethlen Full 3G (C. 1. No. 9g'
IO) (5) l, rifconil, methane colorant)')
')-Lou y/Lou Di>3'AO (C.T.N
nq25?5:, 2) Dainichi First Blue B
OX (C.■.rlo.'l 41O'13:2) Irgalite Blue TCR (C.T.No4'J/'#;
':/) Phanaton Bluero G (C.I.NC
20.23: / ) Hallo Bonn Flame RNN
(C.T, No.','.2ro00:/) Reflex Blue 〇 (C.I, No'1
2700: / ) Alkaline Blue Toner (C
.. 1. No. 'i. 2'730: / ) Blue・
Rake 2g 372A (c.I, No//-) θF 0
:/) Reflex Blue CG (C.I,
No. '12g 00) Reflex Blue 1E1
3' (C.1.N Tsuba27waS) Final Furu D3gO (6) Phthalonanine-based copper phthalocyanine (α type) (C.1.No.74'
/40)// (β type) Metal-free phthalocyanine (C.■.No.74'
/00) Zinc phthalocyanine Iron phthalocyanine Gold phthalocyanine Chromium phthalocyanine Also, the regimen N used in the present invention may be appropriately selected and used. Typical examples (product names) of photoresists include the ``OFPR series<, t, qq. qg, goo
)"" OMR series (g/.g3.g3.g7)"
II Tl) R11 II SVR 11 11 03
R II II TPS 11 or more Tokyo Oka? ! ! floor
"KMPR-309""KMR-'7gu'7
"l'KMR-75.2""KTFR
” ” KPR 1st ” KPR-3
” ”KPR-'I”J21,
-L Manufactured by Kodak, "JSR-CBR""JS
R-CBI conversion-qO/”” JSR-CIR-70/
``Above 1] II wayc made by this synthetic comb.

at  LSI  ReSISt” ”HP:R  P
OSltlVe  Resist(1011,10乙)
” ” WayCOat(HNR,HNR−L???.
NegatlVe H’R,IC,Type3IC,S
C) ”以上ハント製、 ” AZ / 330 ” ” AZ / 350 J
 ”思」ニヅブレイ製、遠紫外用レジストとしては、 ”0DURシリーズ(1000,100/、1010.
10/り/10WR,/20)”東京応化源、11.に
ニゲ0O−DUV11ノブレイ製” r(pR(20’
1.20乙)  IIハント製、” FBM/10””
FBM/20””FPM、2/θ11  リ、」ニダイ
ギン製、 電子ビーム用しジヌトとしては、 ” 0EBR(10θθ、 1010 、 /θ30.
/θ0)11東京応化製、 ” 5EL(N、TypeA、Type F)” ソマ
ール製、11FMR(E10/、E102)“1富士薬
品製、”EBR(/、9)”東し製などが挙げられる。
at LSI ReSISt” “HP:R P
OSltlVe Resist (1011, 10 Otsu)
” ” WayCOat(HNR, HNR-L???.
NegatlVe H'R,IC,Type3IC,S
C) ``Manufactured by Hunt, ``AZ/330'' ``AZ/350J
"Oshi"Nizubray's far-UV resists include the "0DUR series (1000, 100/, 1010.
10/ri/10WR,/20) "Tokyo Oka Gen, 11. Nige0O-DUV11 made by Nobley"r(pR(20'
1.20) Made by II Hunt, “FBM/10”
FBM/20"" FPM, 2/θ11, manufactured by Nidaigin, for electron beam use, "0EBR (10θθ, 1010, /θ30.
/θ0) 11 manufactured by Tokyo Ohka, "5EL (N, Type A, Type F)" manufactured by Somar, 11 FMR (E10/, E102) "1 manufactured by Fuji Pharmaceutical,""EBR (/, 9)" manufactured by Toshi, etc. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の実施例に係るカラーフィルターの特性
を説明するための図であり基板のlq4析tが着色層の
屈升率より「−いときの透過波長域にある光の透過率と
膜jすとの関係図、第2図は減衰波長域にある光につい
ての同様の関係1ンl、第3図は基板の屈叶率が着色層
の屈4ノT率より低℃・ときの透過波長域にある光の透
過率と膜19との関係図、第9図は本発明の実施例に係
る81基板」二、に銅フタロンアニン蒸着膜を形成した
カラーフィルターの透過波長域である光(入−りa+0
nm)の透過イーくと1漢厚との関係図、第Nj/1は
減衰波長域(Cある光(入−400nm)の透過率と膜
厚との同7はの関係図、第4図は従来例((係る81基
板上に形成したカヤノール・ザイアニン乙B染色フィル
ターの透過波長域にある光(人=l130nrn)の透
過率と膜厚との関係図、第7図は減衰波長域にある光(
入−ろ00nm)の透過率と膜厚との同様の関係図′(
−ある。 /−/・・・・干渉効果を持った膜厚−光透過量曲線 /−)・ ・干渉効果を持たない時の膜厚−光透過量曲
線 3−/・・・・干渉効果を持たない時の膜厚−光透過量
曲線 3−2・・・・干渉効果を持った膜厚−光透過量曲線 第1図 第2図 第5図 d(nm) 第6図
FIG. 1 is a diagram for explaining the characteristics of a color filter according to an embodiment of the present invention. Figure 2 shows a similar relationship for light in the attenuation wavelength range, and Figure 3 shows the relationship between the substrate and the film when the refractive index is lower than the colored layer's refractive index. Figure 9 shows the relationship between the transmittance of light in the transmission wavelength range and the film 19, and Figure 9 shows the relationship between the transmittance of light in the transmission wavelength range and the film 19. A certain light (entering a+0
Figure 4 shows the relationship between the transmittance of light (input -400 nm) and the film thickness. is a diagram of the relationship between the transmittance and film thickness of light in the transmission wavelength range (human = 130nrn) of the Kayanol-Xianin Otsu B dyed filter formed on the related 81 substrate; A certain light (
A similar relationship diagram between transmittance and film thickness (input/output 00 nm)' (
-Yes. /-/...Film thickness-light transmission curve with interference effect/-) Film thickness-light transmission curve 3 without interference effect-/...Film thickness-light transmission curve without interference effect Film thickness-light transmission curve 3-2...Film thickness-light transmission curve with interference effect Figure 1 Figure 2 Figure 5 d (nm) Figure 6

Claims (1)

【特許請求の範囲】 L l )  1+!仮−4−に色素膜が形成されたカ
ラーフィルターにおし・て、 11行配色素1]1アば、減衰波長域にあるθ・k長乙
00nm の光波か所定値以下の透過・牝を示す膜J1
.f、範囲にあって、 透過波長域にある波長ll汐Q nmの光波が最大の透
僅〈+モまたは少1.1−くともTmiaX−TmaX
、 X g 3係の範囲(Cある透過進を示ず膜j′J
を自することを特徴とするh゛色系カラーフィルター。 イルター。
[Claims] L l ) 1+! Put it on a color filter with a dye film formed on it, and select 11 rows of dyes. Film J1 showing
.. In the range f, the light wave with a wavelength ll Q nm in the transmission wavelength region has maximum transmission of only 〈+Mo or less than 1.1-TmiaX-TmaX
,
A color filter that is characterized by its own characteristics. Ilter.
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