JPS59171185A - エキシマレ−ザ発生装置 - Google Patents
エキシマレ−ザ発生装置Info
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- JPS59171185A JPS59171185A JP22187583A JP22187583A JPS59171185A JP S59171185 A JPS59171185 A JP S59171185A JP 22187583 A JP22187583 A JP 22187583A JP 22187583 A JP22187583 A JP 22187583A JP S59171185 A JPS59171185 A JP S59171185A
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- Japan
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- pulse
- pfl
- excimer laser
- shaping circuit
- laser
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
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- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Lasers (AREA)
- Manipulation Of Pulses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
＋ｌｒ業Ｉの利用分野
本発明は、エキシマレーザ発生装置Ｊ＋こ関する。エキ
シマレーザ発ノ［装置は、紫外線領域のレーザ光を発生
ずる叩 −のものとして１業的に極めて重要な意味を持
っており、ト・９体の７二−リング、光エンチング、表
面前−１、光化学、ウランの同位体濃縮もしくは核融合
等への利用かＲＨＩされている。
シマレーザ発ノ［装置は、紫外線領域のレーザ光を発生
ずる叩 −のものとして１業的に極めて重要な意味を持
っており、ト・９体の７二−リング、光エンチング、表
面前−１、光化学、ウランの同位体濃縮もしくは核融合
等への利用かＲＨＩされている。
従来技術
エキシマレーザ発生装置は、コンし１に蓄積された′屯
６１ｆを１キシマレーリ゛債に１間時印加して放電さセ
ることにより、紫外線領域のエキシマレーザ光を摺るの
ｅあるか、前記１ンデンリとしで、従来は、＝＋ｉ板型
または回佃１型の別を問わ１、誘電体としてマイラ、エ
ポキシもしくはポリ〕ブレン等のプラスチアクや、エチ
レングリコ −ルもしくは水等の静体を用いていた。ま
た、セラミンクコンデンサを用いたものも知られでいる
か、円漆１状またはｉｐ根板状形成されたセラミンクの
相対するｌＩＩ；１端而に′電極を伺すした 般的な構
造のセラミンクコンデンサを用い、その複数個を４・機
状′市極板′９の間に並列に接続する構造であった。
６１ｆを１キシマレーリ゛債に１間時印加して放電さセ
ることにより、紫外線領域のエキシマレーザ光を摺るの
ｅあるか、前記１ンデンリとしで、従来は、＝＋ｉ板型
または回佃１型の別を問わ１、誘電体としてマイラ、エ
ポキシもしくはポリ〕ブレン等のプラスチアクや、エチ
レングリコ −ルもしくは水等の静体を用いていた。ま
た、セラミンクコンデンサを用いたものも知られでいる
か、円漆１状またはｉｐ根板状形成されたセラミンクの
相対するｌＩＩ；１端而に′電極を伺すした 般的な構
造のセラミンクコンデンサを用い、その複数個を４・機
状′市極板′９の間に並列に接続する構造であった。
従来技術の欠「？、１、
しかしながら、プンスプンクな誘庫；体どしｔ−ｔＩ床
の１キシマレ−ザ発牛装置では、誘市率か低いため、イ
〕／ピータンスが高くかつパルス幅がｊｔ＋〈なり、エ
キシマし・−ザ等で８彎とさｌ＋る人゛屯流かつ長パル
スの回路を実現することかできない。
の１キシマレ−ザ発牛装置では、誘市率か低いため、イ
〕／ピータンスが高くかつパルス幅がｊｔ＋〈なり、エ
キシマし・−ザ等で８彎とさｌ＋る人゛屯流かつ長パル
スの回路を実現することかできない。
１チレングリコール（〜４０）や木（−８０）を用いた
場合は、回しパルス幅を得るの番孔 ５ （ｉ’τ以１
の長さを必要とし、しかも水の場合は絶縁抵抗が低いた
め、直流重圧を印加することができないという欠１、諷
があった。更に、通常構造のせラミンタコ゛・デンジを
並列に接続したものは、エキシマレ−ザ発生装置とはな
らず、 ・っのコンデンサとして働かない。
場合は、回しパルス幅を得るの番孔 ５ （ｉ’τ以１
の長さを必要とし、しかも水の場合は絶縁抵抗が低いた
め、直流重圧を印加することができないという欠１、諷
があった。更に、通常構造のせラミンタコ゛・デンジを
並列に接続したものは、エキシマレ−ザ発生装置とはな
らず、 ・っのコンデンサとして働かない。
本発明の［−１的
本発明は、立トかりの速い高′屯圧がっ大電流の矩形波
パルスを、比較的長時間印加することが’ｆ 能で、エ
キシマレーザの励起を確実に？ｉなうことができ、１．
かも小型化が容易で、実用＋！１の高い高出力のエキシ
マレーザ発生装置を提供することを［Ｉ的とする。
パルスを、比較的長時間印加することが’ｆ 能で、エ
キシマレーザの励起を確実に？ｉなうことができ、１．
かも小型化が容易で、実用＋！１の高い高出力のエキシ
マレーザ発生装置を提供することを［Ｉ的とする。
本発明の構成
１−記１」的を達成するため、本発明は、１キシマレ−
サ管ど、該エキシマレーザ管にＵ１形波パルスを印加す
るパルス整形回路とを備えるエキシマし・−ザ発生装置
において、前記パルス整形回路は、内周及び外周にそれ
ぞれ電極を被着形成したｌ’ｌｆｉ’ｉｌ状誘電体磁器
を備え、１１亥誘電体磁器の軸方向の両端をパルス入力
端及び出力端とするもので成ることを４′＃徴とする。
サ管ど、該エキシマレーザ管にＵ１形波パルスを印加す
るパルス整形回路とを備えるエキシマし・−ザ発生装置
において、前記パルス整形回路は、内周及び外周にそれ
ぞれ電極を被着形成したｌ’ｌｆｉ’ｉｌ状誘電体磁器
を備え、１１亥誘電体磁器の軸方向の両端をパルス入力
端及び出力端とするもので成ることを４′＃徴とする。
実施例
第１図は本発明に係る希カスーハライＩ−１キシマレー
ザ発生装置の構成を小す図−である。図において、Ｒは
入力抵抗、Ｃはコンデンサ、ＳＧＩはスパークキャップ
、Ｐ Ｆ Ｌはパルス整形回路、ＳＧ２はレールキｒ
ｙプ、Ａは昂ガスーハライトエキシマ］／〜ザ宿である
。
ザ発生装置の構成を小す図−である。図において、Ｒは
入力抵抗、Ｃはコンデンサ、ＳＧＩはスパークキャップ
、Ｐ Ｆ Ｌはパルス整形回路、ＳＧ２はレールキｒ
ｙプ、Ａは昂ガスーハライトエキシマ］／〜ザ宿である
。
パルス整形回路Ｐ Ｆ Ｌは、第２図及び第３図にも示
すように、適当な誘屯体磁器材才ｌを用いて形Ｊ＆ し
た円筒状の誘電体磁器ｌの内周面及び外周面に、それぞ
れ内周電極２及び外周電極３を形成した構造となってい
る。このパルス整形回路ＰＦＬは、軸方向の一端（イ）
における電極２−３間をパルス入力端とし、他端（ロ）
における電極２−３間をパルス出力端として動作させる
。即ち、入力端（イ）側の内周電極２をスパークキャン
プＳ６１に、また外周電極３をコンデン９Ｃに接続４−
ると共に、出力端（ロ）側の内周７Ｌ極２をＬ／−ルキ
ャンプＳ Ｇ ２に、外周電極３を札カスーハ〉イドエ
キシマレーザ管Ａの電極にそれぞれ接続ｉ〜である。
すように、適当な誘屯体磁器材才ｌを用いて形Ｊ＆ し
た円筒状の誘電体磁器ｌの内周面及び外周面に、それぞ
れ内周電極２及び外周電極３を形成した構造となってい
る。このパルス整形回路ＰＦＬは、軸方向の一端（イ）
における電極２−３間をパルス入力端とし、他端（ロ）
における電極２−３間をパルス出力端として動作させる
。即ち、入力端（イ）側の内周電極２をスパークキャン
プＳ６１に、また外周電極３をコンデン９Ｃに接続４−
ると共に、出力端（ロ）側の内周７Ｌ極２をＬ／−ルキ
ャンプＳ Ｇ ２に、外周電極３を札カスーハ〉イドエ
キシマレーザ管Ａの電極にそれぞれ接続ｉ〜である。
Ｉ−記の花力スーハライトエキシマレーヂ発生装置にお
いて、人力抵抗Ｒを通して高圧を供給し、コンデンサＣ
を充′屯した後、スパークキャンプＳ６１を閉じ、パル
ス整形回路ＰＦＬをパルス充１１ｆｉする。パルス整形
回路Ｐ Ｆ Ｌのパルス充’ｒ＋１ ’：（ｊ ｊｉ’
、 カ定の（＋７４になり、レールギャンズＳＧ２か閉
じると、パルス整形回路Ｐ Ｆ ＬＯ中を市川波かｉｉ
： ４Ｓｔ１７、矩形波パルスが希カスーハライド−１
−キシごレーザ省Ａに印加され、紫外線領域のエキう・
ブレ・−ザが発生する。
いて、人力抵抗Ｒを通して高圧を供給し、コンデンサＣ
を充′屯した後、スパークキャンプＳ６１を閉じ、パル
ス整形回路ＰＦＬをパルス充１１ｆｉする。パルス整形
回路Ｐ Ｆ Ｌのパルス充’ｒ＋１ ’：（ｊ ｊｉ’
、 カ定の（＋７４になり、レールギャンズＳＧ２か閉
じると、パルス整形回路Ｐ Ｆ ＬＯ中を市川波かｉｉ
： ４Ｓｔ１７、矩形波パルスが希カスーハライド−１
−キシごレーザ省Ａに印加され、紫外線領域のエキう・
ブレ・−ザが発生する。
ここで、パルス整形回路ＰＦＲの入力端（イ）と出力端
（ＩＴＪ）との間のインピータンスＺ、出力端（ロ）で
のパルス幅τ及び容量Ｃは、Ｚ ＝ ６０ （１／ Ｊ
−”””ｅ’−ｒ”’−） ｌ ｎ （ｒ２／ｒｌ）Ω
ｘ ＝ ２１−Ｊ ｅ−ｒ−／ ｖ Ｃ＝０．５６ｅｒ Ｌ／Ｉｎ （ｒ２／ｒｌ） ＰＦイ
１１１２、ｒｌは？Ａ Ｉｆｆ体磁器１の内径ｒ２１オ
誘゛屯休磁器ｌの外（ギ ■７は誘電体磁器ｌのＩφさ Ｇｒば誘電体磁器１の比誘電イく ｖｌｄ光速 となる。実現ｉ’ｉ）能な具体的数イ１？（どしＣ１１
，〜電体磁器１の比１誘“ｒｔｔ ４べ（ｒをεｒ＝１
２００と１−７、その形状をｒｌ＝ ９ｍｍ、 ｒ２
＝ ５０ｍｍ、 Ｌ＝ ８４ｃｍト＃’６ ト、Ｚ、
−３Ω τ ＝ １９４ ｎｓ Ｃ＝ ２８．８ ｎＦ か４１７られる。即ち、パルス幅τ−＋９４ ｎｓ（７
） Ｌｉパルスが筒中に得られるのである。またインピ
ータンスＺはコ３Ωの低インピータンスとなる。しがも
イ二・ピータンスＺの値は、１−記構成のパルス整彬回
／ｇ Ｐ Ｆ Ｌを領列に複数接続することにより、そ
σ）→ｊ・列接続個数に逆比例して低ドさせることがｅ
きる。例えば１．記構成のパルス整形回路ｐ Ｆ Ｌ
（１） ３木を、＞１＝列に接続すれは“、インピータ
ンス７、１４． ＩΩまで低トさぜるごとかできるので
ある。このため、例えば１Ω以トの非常に低いインピー
タンスの１ヤシマレーザ償Ａに対して、Ｘ’ｆ ｌ：が
りの速い高′屯圧かつ人毛〆Ｌの矩形波パルスを、２０
０ ｎｓｈ冒ｆ（σ）比較１’１９ Ｌｉ ＋＋ｒｊ間
印加し、エキシマレーザを確実番′励起させることかで
きる。
（ＩＴＪ）との間のインピータンスＺ、出力端（ロ）で
のパルス幅τ及び容量Ｃは、Ｚ ＝ ６０ （１／ Ｊ
−”””ｅ’−ｒ”’−） ｌ ｎ （ｒ２／ｒｌ）Ω
ｘ ＝ ２１−Ｊ ｅ−ｒ−／ ｖ Ｃ＝０．５６ｅｒ Ｌ／Ｉｎ （ｒ２／ｒｌ） ＰＦイ
１１１２、ｒｌは？Ａ Ｉｆｆ体磁器１の内径ｒ２１オ
誘゛屯休磁器ｌの外（ギ ■７は誘電体磁器ｌのＩφさ Ｇｒば誘電体磁器１の比誘電イく ｖｌｄ光速 となる。実現ｉ’ｉ）能な具体的数イ１？（どしＣ１１
，〜電体磁器１の比１誘“ｒｔｔ ４べ（ｒをεｒ＝１
２００と１−７、その形状をｒｌ＝ ９ｍｍ、 ｒ２
＝ ５０ｍｍ、 Ｌ＝ ８４ｃｍト＃’６ ト、Ｚ、
−３Ω τ ＝ １９４ ｎｓ Ｃ＝ ２８．８ ｎＦ か４１７られる。即ち、パルス幅τ−＋９４ ｎｓ（７
） Ｌｉパルスが筒中に得られるのである。またインピ
ータンスＺはコ３Ωの低インピータンスとなる。しがも
イ二・ピータンスＺの値は、１−記構成のパルス整彬回
／ｇ Ｐ Ｆ Ｌを領列に複数接続することにより、そ
σ）→ｊ・列接続個数に逆比例して低ドさせることがｅ
きる。例えば１．記構成のパルス整形回路ｐ Ｆ Ｌ
（１） ３木を、＞１＝列に接続すれは“、インピータ
ンス７、１４． ＩΩまで低トさぜるごとかできるので
ある。このため、例えば１Ω以トの非常に低いインピー
タンスの１ヤシマレーザ償Ａに対して、Ｘ’ｆ ｌ：が
りの速い高′屯圧かつ人毛〆Ｌの矩形波パルスを、２０
０ ｎｓｈ冒ｆ（σ）比較１’１９ Ｌｉ ＋＋ｒｊ間
印加し、エキシマレーザを確実番′励起させることかで
きる。
次に、前述のｎ１カスーハライＩ・工ｔシマレーデ発１
１装置においで、 ｅｒ＝１２００ ｒｌ＝９ｍｍ ｒ２＝５０ｍｍ Ｌ＝８４ｃｍ のパルス整形回路Ｐ Ｆ Ｌを用いた実施例につい−で
説明する。この場合、 ・木のパルス整形回路ＰＦＬで
は、 Ｚ＝３ Ω τ二１９４ ｎｓ Ｃ＝ ２８．６ ｎＦ どなる。この実施例では、負荷となる九カスーハライＦ
１キシマレーザＩ６Ａとのインピーダンスマ・２４−ン
クを老成して、−木のパルス整形回路ＰＦ Ｌを並列に
接続した。従って、パルス整形回路ＰＦＬ全体としでは
、 Ｚ＝ｌΩ τ＝ ｌ！１４ ｎｓ Ｃ＝ ８６ ｎＦ である。
１装置においで、 ｅｒ＝１２００ ｒｌ＝９ｍｍ ｒ２＝５０ｍｍ Ｌ＝８４ｃｍ のパルス整形回路Ｐ Ｆ Ｌを用いた実施例につい−で
説明する。この場合、 ・木のパルス整形回路ＰＦＬで
は、 Ｚ＝３ Ω τ二１９４ ｎｓ Ｃ＝ ２８．６ ｎＦ どなる。この実施例では、負荷となる九カスーハライＦ
１キシマレーザＩ６Ａとのインピーダンスマ・２４−ン
クを老成して、−木のパルス整形回路ＰＦ Ｌを並列に
接続した。従って、パルス整形回路ＰＦＬ全体としでは
、 Ｚ＝ｌΩ τ＝ ｌ！１４ ｎｓ Ｃ＝ ８６ ｎＦ である。
第４図は１記実施例における電ｈ′波形図、ｉ５図は回
しく電流波形図、第６図はレー・す゛波形図である。ま
−′４ゝ、電圧は、第４図に７８．１−ように、レーデ
の放゛市時にインピーダンスＺが無限大から１Ω１」ト
に急激に低トするので、？伎初に急１唆なピー・夕かあ
り、その後、パルス整形回路ＰＦＬのパルス幅で−１９
４ｎｓに対応した・定の電圧がイｙＩられるている。
しく電流波形図、第６図はレー・す゛波形図である。ま
−′４ゝ、電圧は、第４図に７８．１−ように、レーデ
の放゛市時にインピーダンスＺが無限大から１Ω１」ト
に急激に低トするので、？伎初に急１唆なピー・夕かあ
り、その後、パルス整形回路ＰＦＬのパルス幅で−１９
４ｎｓに対応した・定の電圧がイｙＩられるている。
＋Ｍ 流については、第５図に４＜ずよう（乙 パルス
整形回路ＰＦＬのパルス幅で＝１９４ｎｓの間、はぼ矩
形波が得られ、しかもへ′／１−り時間が２０ｎｓｒ約
８０ＫＡの７ｊｉ流か得られている。
整形回路ＰＦＬのパルス幅で＝１９４ｎｓの間、はぼ矩
形波が得られ、しかもへ′／１−り時間が２０ｎｓｒ約
８０ＫＡの７ｊｉ流か得られている。
レーザについては、第６図に示すように、前記パルス幅
で＝ ＋９４ ｎｓに対応して約１５０ ｎｓのパルス
幅が得られている。
で＝ ＋９４ ｎｓに対応して約１５０ ｎｓのパルス
幅が得られている。
従来、希ガスーハライ（・エキシマレーザにおいて、ｌ
’ｏＯｎｓ以七のパルス幅の高出力を得るために、水を
誘′屯体とした平板形エキシマレーザ発〕１装置を用い
ていたが、これを用いると２００ ｎｓのパルス幅を（
１（るのに、３．３ｍの長さか必要であった。これに対
し、本発明によれば、１−記実施例で説明した通り、仝
長しが８５ｃｍで外径ｒ２が５０ｍｍの誘電体磁器を用
いて、約２Ｈｎｓのパルス幅を持つエキシマレーザ発生
装４を実現することかできる。このため、装置が著しく
小型かつ筒中化さ才（る。しかも、水の循環装置や脱イ
オン化装置か不安であるため、装置全体が著しく小型化
できる。
’ｏＯｎｓ以七のパルス幅の高出力を得るために、水を
誘′屯体とした平板形エキシマレーザ発〕１装置を用い
ていたが、これを用いると２００ ｎｓのパルス幅を（
１（るのに、３．３ｍの長さか必要であった。これに対
し、本発明によれば、１−記実施例で説明した通り、仝
長しが８５ｃｍで外径ｒ２が５０ｍｍの誘電体磁器を用
いて、約２Ｈｎｓのパルス幅を持つエキシマレーザ発生
装４を実現することかできる。このため、装置が著しく
小型かつ筒中化さ才（る。しかも、水の循環装置や脱イ
オン化装置か不安であるため、装置全体が著しく小型化
できる。
第７図は本発明に係るエキシマレーザ発］１、装置を構
成−４るパルス整形回路の別の実施例を小しでいる。こ
の実施例で１１、内周及び夕１周にそれぞれ電極２，３
を被着形成した略同−形状の円筒状誘電体磁器１を複数
個用、６５． Ｌ、、各１ｊＡ ’ｌ＋ｊ：休磁器１体
、内周電極２同志及び外周電極３同志が導通するように
して、軸方向に並べたことか特徴となっている。
成−４るパルス整形回路の別の実施例を小しでいる。こ
の実施例で１１、内周及び夕１周にそれぞれ電極２，３
を被着形成した略同−形状の円筒状誘電体磁器１を複数
個用、６５． Ｌ、、各１ｊＡ ’ｌ＋ｊ：休磁器１体
、内周電極２同志及び外周電極３同志が導通するように
して、軸方向に並べたことか特徴となっている。
１掲式τ＝ ７１．、 Ｊ−εｉ−’−／ ｖから明ら
かなように１ パルス幅で１走パルス整形回路を構成す
る詰１１ｊ体磁器ｌの長さしに比例する。したか−〕−
（、誘誘電体磁器の長さしを調節することにより、パル
ス幅Ｔも調節することかできる。例えばより長いパルス
幅でか心霊な場合は、誘電体磁器１の長さ■。
かなように１ パルス幅で１走パルス整形回路を構成す
る詰１１ｊ体磁器ｌの長さしに比例する。したか−〕−
（、誘誘電体磁器の長さしを調節することにより、パル
ス幅Ｔも調節することかできる。例えばより長いパルス
幅でか心霊な場合は、誘電体磁器１の長さ■。
を長くすればよいのである。しかるに、第１図及び第３
図に小した実施例では、 −木の誘電体磁器ｌを用いて
いるため、製造し１１４る長さに製造技術１、からの限
度があり、８彎と４−る長さかｆ′）られない場合があ
る。これに対しで、第７図の実施例の場合は、略同−形
状の円筒状誘電体磁器ｌを複数個用、ａ１シ、各誘電体
磁器ｌを、内周電極２同志及び外周電極３同志か導通す
るようじして、佃１カ向に並へた４造であるから、 −
個の：ｊＡ ’ｉ［体磁器のツマきを小さくして、製造
士、の技術的困難性を解決するとｊ（に、誘電体磁器ｌ
の個数を適当に選択することにより、パルス整形回路と
しての実質的な１５、さＬを調整１〜、パルス幅τを自
由番ごかつ簡単にコントロールすることがでキル。
図に小した実施例では、 −木の誘電体磁器ｌを用いて
いるため、製造し１１４る長さに製造技術１、からの限
度があり、８彎と４−る長さかｆ′）られない場合があ
る。これに対しで、第７図の実施例の場合は、略同−形
状の円筒状誘電体磁器ｌを複数個用、ａ１シ、各誘電体
磁器ｌを、内周電極２同志及び外周電極３同志か導通す
るようじして、佃１カ向に並へた４造であるから、 −
個の：ｊＡ ’ｉ［体磁器のツマきを小さくして、製造
士、の技術的困難性を解決するとｊ（に、誘電体磁器ｌ
の個数を適当に選択することにより、パルス整形回路と
しての実質的な１５、さＬを調整１〜、パルス幅τを自
由番ごかつ簡単にコントロールすることがでキル。
第８図は第７図に示した複合構造のパルス整形回路の更
に具体的な実施例を示す図である。この′５（雄側では
、誘゛屯体磁器１の各／／は、１１１＋方向の両端面に
適当な絶縁樹脂被覆４を施した構造と１７．１、〜電体
磁器ｌの両端面における沿面絶縁破壊を絶縁樹脂被覆４
によって防止しである。このハ＾屯体耐器１は、その内
径部内に仲カ性のある金属パイプ５を共通に貫通させて
、軸力１１・口ご４【へＣ体化しである。金属パイプ５
はその肉厚部に’、Ｉ：ＩＩ５１を入れ−Ｃりｒカに１
を持たせである。このような構茹であると、当該金属パ
イプ５を誘゛市体磁器１の内径ｒａ＋内に電着１７て嵌
合させ、破損１゛を生Ｌ７ることなく、内周＋１極２に
弾力的に接触さぜることが一？２きる。
に具体的な実施例を示す図である。この′５（雄側では
、誘゛屯体磁器１の各／／は、１１１＋方向の両端面に
適当な絶縁樹脂被覆４を施した構造と１７．１、〜電体
磁器ｌの両端面における沿面絶縁破壊を絶縁樹脂被覆４
によって防止しである。このハ＾屯体耐器１は、その内
径部内に仲カ性のある金属パイプ５を共通に貫通させて
、軸力１１・口ご４【へＣ体化しである。金属パイプ５
はその肉厚部に’、Ｉ：ＩＩ５１を入れ−Ｃりｒカに１
を持たせである。このような構茹であると、当該金属パ
イプ５を誘゛市体磁器１の内径ｒａ＋内に電着１７て嵌
合させ、破損１゛を生Ｌ７ることなく、内周＋１極２に
弾力的に接触さぜることが一？２きる。
金属パイプ５によって軸力向に 体化された誘電体磁器
１の外周面には、金属網体６を套装置７てあり、該金属
網体６によって６八電休磁器ｌの各外周電極３なｒｌい
に・４通接続させである。
１の外周面には、金属網体６を套装置７てあり、該金属
網体６によって６八電休磁器ｌの各外周電極３なｒｌい
に・４通接続させである。
更に、上気絶縁セｌを向１−さけるため、金１＋１網体
６の１から熱収縮性絶縁デユープ７を被せ、全体を絶縁
ハウシング８内に収納した構造となっている。絶縁ハウ
ジング８内のパルス整形回路の周囲には、絶縁油、絶縁
カス、う・１１」ンニイト客を満た［７、シイ）面絶縁
破壊を防１１１〜である。ただし、電圧が低い場合は、
絶縁ハウジング８は′ｎ略Ｉ７てもよい。
６の１から熱収縮性絶縁デユープ７を被せ、全体を絶縁
ハウシング８内に収納した構造となっている。絶縁ハウ
ジング８内のパルス整形回路の周囲には、絶縁油、絶縁
カス、う・１１」ンニイト客を満た［７、シイ）面絶縁
破壊を防１１１〜である。ただし、電圧が低い場合は、
絶縁ハウジング８は′ｎ略Ｉ７てもよい。
未発明の効果
以１述へたように、本発明は、エヤシマレーザ管と、該
エキ−シマレーザ？６に（１形波パルスを印加す−るパ
ルス整形回路とを備えるエキシマレーザ発生装置におい
て、１１１記パルス整形回路は、内周及び外周にそれぞ
れ電極を被７１形成した円筒状誘電体磁器を備え、１俵
誘電体磁器の軸方向の両端をパルス入力端及び出力端と
するもので成することを！ｌνけＱとＪるから、５ン１
−かりの速い高正月かつ入山“流の矩形波パルスを、比
較的長＋１７間印加ジるこ）・か可能で、エキシマレー
ザの励起を確実に１１なうことかでき、しかも小型化か
容易で実用＋＋の高い高出力のエキシマレーザ発生装置
をＪｊ、ｊ供４−ることかできる。
エキ−シマレーザ？６に（１形波パルスを印加す−るパ
ルス整形回路とを備えるエキシマレーザ発生装置におい
て、１１１記パルス整形回路は、内周及び外周にそれぞ
れ電極を被７１形成した円筒状誘電体磁器を備え、１俵
誘電体磁器の軸方向の両端をパルス入力端及び出力端と
するもので成することを！ｌνけＱとＪるから、５ン１
−かりの速い高正月かつ入山“流の矩形波パルスを、比
較的長＋１７間印加ジるこ）・か可能で、エキシマレー
ザの励起を確実に１１なうことかでき、しかも小型化か
容易で実用＋＋の高い高出力のエキシマレーザ発生装置
をＪｊ、ｊ供４−ることかできる。
第１図は本発明に係る札カスーハライトコーヤシマＬ／
−ザ装置の電気回路［Ａ、第２図は回しくパルス整形回
路の１［−面断面図、第３図は回［７くその側面図、第
４図は第１図の九カスーハライＩ・エキシマレーザ発生
装置によって得られた重圧波形図、第５図は同じく電流
波形図、第６図は回しく１２一ザ波形図、第７図はパル
ス整形回路の別の実施例における止面断面図、第８図（
」パルス整形回路の更に別の実施例における正面断面図
である。 ｌ・・会話電体磁器 ２−φ・電極３・・・電極 Ａｌ１１１０エキシマ１／−ザ管 ＰＦＬ・・・パルス整形回路 特、ｉ’ｌ 出願人 渡 部 俊
太 ｆｕ匁ティーディーケイ株式会社 □ 代理人 弁理」−阿 部 美 次 部ｌ １．
１ ７ｉｙ ２ ｒ＋ ２イ、３ト１ Ｘｉ； ４ ｔＶ＋ ！４：５ Ｉ＋ 月間 −一
−ザ装置の電気回路［Ａ、第２図は回しくパルス整形回
路の１［−面断面図、第３図は回［７くその側面図、第
４図は第１図の九カスーハライＩ・エキシマレーザ発生
装置によって得られた重圧波形図、第５図は同じく電流
波形図、第６図は回しく１２一ザ波形図、第７図はパル
ス整形回路の別の実施例における止面断面図、第８図（
」パルス整形回路の更に別の実施例における正面断面図
である。 ｌ・・会話電体磁器 ２−φ・電極３・・・電極 Ａｌ１１１０エキシマ１／−ザ管 ＰＦＬ・・・パルス整形回路 特、ｉ’ｌ 出願人 渡 部 俊
太 ｆｕ匁ティーディーケイ株式会社 □ 代理人 弁理」−阿 部 美 次 部ｌ １．
１ ７ｉｙ ２ ｒ＋ ２イ、３ト１ Ｘｉ； ４ ｔＶ＋ ！４：５ Ｉ＋ 月間 −一
Claims (6)
- （１） 丁子−・ンマレーザ？値と、該１キーシマレ
ーザ？ｉに矩形波パルスを印加するノクルス整形１ｔｊ
ｌ ｋ’名とを備える１ヤシマレ一ザ発生装置番こおし
Ａで、＊ｉｉｉハＬ’ぐルス整形回路は、内周及び外周
番ごそオ１．子−れ１ｂ；極を波箔形成した円筒状誘７
（ｉ体磁器をｔｊｌえ、１：亥誘゛ｊＬ体磁器の軸力向
の両端をノクルス入）Ｊ端及びｊＩＹツノ妬ミとオるも
ので成ることを特徴とする１１−シマ１／−＝−リ′発
牛装置。 - （２） 前記パルス整形回路は、複数イ丙の１．秀′Ｉ
Ｅ体磁器を、前記内周゛上極同志及び外周屯邊斬ＩＩ＋
１，１′、、力り）９通−Ｉイ５ようにして、４１１１
方向にイ・べたことを特徴とする特−請求の範囲第１項
に記載のエキシマ１７−ヂ発生装置。 - （３） 前記複数個の誘゛市体磁器の名々ｔオ、＋１１
ノｉ向の両端面に絶縁被覆層をイＩ４−ることを特徴と
１−る４〜＋Ｍ’ ｉｉ／！束の範囲第２１エロこ記・
皆のエキ−シマｌ／ −”ｊ’発生装誇。 - （４） 前記複数個の誘電体磁器は、内（１部内を貫通
させた弾力性のある金属パイプによって１１−いに軸力
向に並べて結合し、かつ該金属パイプによって内周電極
を刀いに導通させたことを４Ｉ＋′徴とする特許請求の
範囲第２項または第３ ｓｎに記載の１キシマレ一ザ発
生装置。 - （５） 前記金属パイプは、軸力向に沿う割りを入れる
ことにより弾力性を持たせたことを特徴とする特４１請
求の範囲第４項に記載のエキシマレーザ発生装置。 - （６） 前記複数個の誘電体磁器の外周に金属網体をイ
）装置７、該金属網体により前記外周電極を・９通させ
たことを特徴とする特許請求の範囲第２ザ１、第３川、
第４項または第５項に記・伎のエキ・ンづｌ／−ザ発牛
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22187583A JPS59171185A (ja) | 1983-11-24 | 1983-11-24 | エキシマレ−ザ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22187583A JPS59171185A (ja) | 1983-11-24 | 1983-11-24 | エキシマレ−ザ発生装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57213229A Division JPS59103392A (ja) | 1982-12-04 | 1982-12-04 | パルス整形回路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59171185A true JPS59171185A (ja) | 1984-09-27 |
| JPH0546114B2 JPH0546114B2 (ja) | 1993-07-13 |
Family
ID=16773548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22187583A Granted JPS59171185A (ja) | 1983-11-24 | 1983-11-24 | エキシマレ−ザ発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59171185A (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4722080U (ja) * | 1971-03-09 | 1972-11-11 | ||
| JPS49140636U (ja) * | 1973-04-04 | 1974-12-04 | ||
| JPS56593U (ja) * | 1980-03-12 | 1981-01-06 | ||
| JPS5629387A (en) * | 1979-08-13 | 1981-03-24 | Kraftwerk Union Ag | High speed pulse discharge exciter |
| JPH0451996A (ja) * | 1990-06-18 | 1992-02-20 | Sharp Corp | 洗濯機 |
-
1983
- 1983-11-24 JP JP22187583A patent/JPS59171185A/ja active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4722080U (ja) * | 1971-03-09 | 1972-11-11 | ||
| JPS49140636U (ja) * | 1973-04-04 | 1974-12-04 | ||
| JPS5629387A (en) * | 1979-08-13 | 1981-03-24 | Kraftwerk Union Ag | High speed pulse discharge exciter |
| JPS56593U (ja) * | 1980-03-12 | 1981-01-06 | ||
| JPH0451996A (ja) * | 1990-06-18 | 1992-02-20 | Sharp Corp | 洗濯機 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0546114B2 (ja) | 1993-07-13 |
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