JPS59170912A - 流量制御装置 - Google Patents
流量制御装置Info
- Publication number
- JPS59170912A JPS59170912A JP4314483A JP4314483A JPS59170912A JP S59170912 A JPS59170912 A JP S59170912A JP 4314483 A JP4314483 A JP 4314483A JP 4314483 A JP4314483 A JP 4314483A JP S59170912 A JPS59170912 A JP S59170912A
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- JP
- Japan
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- control
- flow rate
- temperature
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-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Feedback Control In General (AREA)
- Flow Control (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、４直性流体の流量制御装置に係り、特に流体
の温度変化やその流路の圧力損失の変化の大きいシステ
ムに於ても、良好な制御特性を維持する機能を有した流
量制御装置に関する。
の温度変化やその流路の圧力損失の変化の大きいシステ
ムに於ても、良好な制御特性を維持する機能を有した流
量制御装置に関する。
導電性流体を流す装置として電磁ポンプがある。
この装置は、導電性流体の流れる配管に磁界をかけ、こ
の磁界と直角に電流を流すと流体が動くことを応用した
ものであり、水、液体金属ナトリウムの駆動装置として
使用されている。特に、液体金属す） ＩＪウムは高速
増殖炉の冷却材として使用されており、このだめの流量
制御装置が第１図に示されている。
の磁界と直角に電流を流すと流体が動くことを応用した
ものであり、水、液体金属ナトリウムの駆動装置として
使用されている。特に、液体金属す） ＩＪウムは高速
増殖炉の冷却材として使用されており、このだめの流量
制御装置が第１図に示されている。
第１図に於て、電磁ポンプ４は、しゃ断器１ａ。
電磁開閉器２ ａ ＋電圧調整器３を通して供給される
電力により駆動される。電圧調整器３は、電磁ポンプ４
の印加電圧Ｖを変えることにより、その出力、即ち揚程
を変える。配管１０内の液体金属す） ＩＪウムの流量
Ｑは、電磁流量計１１で検出され、流量変換器１２に於
て適当な係数を乗ぜられて設定信号発生器１３からの流
量設定値Ｑｏと比較器１５ａによυ比較される。この比
較により得られた流量偏差は流量制御演算器１４で処理
され、比較器１５１）へ入力される。比較器１５ｂのも
う一方の入力は、電磁ポンプ４の印加電圧Ｖを変圧器７
．電圧変換器９を介してとシ込んだものであり、比較器
１５ｂから出力された偏差は、自動制御装置８を介して
自動制御用電力開閉器５へ印加される。電力開閉器５は
、誘導電動機６への供給電力を変化させ、これによって
電圧調整器３の出力電圧Ｖが変化し、流量Ｑが変化する
。このような２重のフィードバックルーズにより流ｔＱ
がその設定値Ｑｏになるように制御される。
電力により駆動される。電圧調整器３は、電磁ポンプ４
の印加電圧Ｖを変えることにより、その出力、即ち揚程
を変える。配管１０内の液体金属す） ＩＪウムの流量
Ｑは、電磁流量計１１で検出され、流量変換器１２に於
て適当な係数を乗ぜられて設定信号発生器１３からの流
量設定値Ｑｏと比較器１５ａによυ比較される。この比
較により得られた流量偏差は流量制御演算器１４で処理
され、比較器１５１）へ入力される。比較器１５ｂのも
う一方の入力は、電磁ポンプ４の印加電圧Ｖを変圧器７
．電圧変換器９を介してとシ込んだものであり、比較器
１５ｂから出力された偏差は、自動制御装置８を介して
自動制御用電力開閉器５へ印加される。電力開閉器５は
、誘導電動機６への供給電力を変化させ、これによって
電圧調整器３の出力電圧Ｖが変化し、流量Ｑが変化する
。このような２重のフィードバックルーズにより流ｔＱ
がその設定値Ｑｏになるように制御される。
この制御系の特性は、プラントの流体系の特性（以下単
にプラント特性という）と、電磁ポンプの特性に応じて
定められる必要がある。特にこれらの特性に応じて、制
御系の開ループゲイン（フィードバックループ−巡の龍
利得）を適切に設定し、流量Ｑに変動が生じた時にこれ
が設定値Ｑ。
にプラント特性という）と、電磁ポンプの特性に応じて
定められる必要がある。特にこれらの特性に応じて、制
御系の開ループゲイン（フィードバックループ−巡の龍
利得）を適切に設定し、流量Ｑに変動が生じた時にこれ
が設定値Ｑ。
へなるべく短時間で、かつ大きな振動を伴わすに到達す
るようにする。しかし、プラントの運転状態や経年変化
、ちるいは流体温度の大幅な変化があると、後に詳述す
るように制御系の開ループゲインが大幅に変化し、この
時は流量Ｑの変動に対してハンチング等の好ましくない
現象を生じ、機器の損傷や信頼性の低下、ひいてはプラ
ント稼動率の低下を招くという問題があった。例えば、
適切な開ループゲインの時には第２Ｂ図のように流量Ｑ
が一定値になるように制御されているのが、開ループゲ
インが増大すると第２Ａ図のような流ｉＱのハンチング
を生じる。
るようにする。しかし、プラントの運転状態や経年変化
、ちるいは流体温度の大幅な変化があると、後に詳述す
るように制御系の開ループゲインが大幅に変化し、この
時は流量Ｑの変動に対してハンチング等の好ましくない
現象を生じ、機器の損傷や信頼性の低下、ひいてはプラ
ント稼動率の低下を招くという問題があった。例えば、
適切な開ループゲインの時には第２Ｂ図のように流量Ｑ
が一定値になるように制御されているのが、開ループゲ
インが増大すると第２Ａ図のような流ｉＱのハンチング
を生じる。
本発明の目的は、上言己した従来技術の欠点をなくシ、
プラントの運転状態寺の変化による影響を受けず、信頼
性、制御性を向上させた流量制御装置を提供するにある
。
プラントの運転状態寺の変化による影響を受けず、信頼
性、制御性を向上させた流量制御装置を提供するにある
。
本発明は、電磁ポンプ出口付近の流体圧力及び温度によ
ってプラント特性及び電磁ポンプ特性が定まることに着
目し、実際に検出された温度及び圧力からループゲイン
の変化を推定する手段を設け、この推定したゲインの変
化を自動的に補正するようにしたことを特徴とするもの
である。
ってプラント特性及び電磁ポンプ特性が定まることに着
目し、実際に検出された温度及び圧力からループゲイン
の変化を推定する手段を設け、この推定したゲインの変
化を自動的に補正するようにしたことを特徴とするもの
である。
μ下、本発明の詳細な説明′する。第３図及び第４図は
プラント特性とポンプ特眺を示したものである。第３図
の曲線Ａ、、Ｂ、Ｃはプラント特注であって、どの特性
も流量Ｑの増大にともなって圧力Ｈも増大することを示
している。これはプラントの配管や機器の圧力損失（以
下、圧損という）が流−１ｔＱの増大とともに増大する
から、ポンプ４出口の圧力もそれに伴って増大すること
を意味している。そして配管や機器の圧損はプラントの
運転状態や経年変化で変わるので、圧損の大きい方から
順に特性曲線Ａ、Ｂ、ＣのようＪ／（なる。一方向線Ｖ
、 、 Ｖ、 、・・・・・・等は電磁ポンプ４の特性
を示しており、これらは電磁ポンプ４への印加電圧Ｖ＝
Ｖ、、ｖ、’、・・・−・・に対応した曲線である。例
えば、Ｖ＝Ｖ、に固定すると、ポンプ４の出力、即ち揚
程は一定となるが、その時、プラントの圧損Ｈが小さい
ほどより大きい流量Ｑが得られることを示している。そ
して電圧Ｖの値が大きいほどポンプの揚程も大きいので
、圧力Ｈは大きくなる。
プラント特性とポンプ特眺を示したものである。第３図
の曲線Ａ、、Ｂ、Ｃはプラント特注であって、どの特性
も流量Ｑの増大にともなって圧力Ｈも増大することを示
している。これはプラントの配管や機器の圧力損失（以
下、圧損という）が流−１ｔＱの増大とともに増大する
から、ポンプ４出口の圧力もそれに伴って増大すること
を意味している。そして配管や機器の圧損はプラントの
運転状態や経年変化で変わるので、圧損の大きい方から
順に特性曲線Ａ、Ｂ、ＣのようＪ／（なる。一方向線Ｖ
、 、 Ｖ、 、・・・・・・等は電磁ポンプ４の特性
を示しており、これらは電磁ポンプ４への印加電圧Ｖ＝
Ｖ、、ｖ、’、・・・−・・に対応した曲線である。例
えば、Ｖ＝Ｖ、に固定すると、ポンプ４の出力、即ち揚
程は一定となるが、その時、プラントの圧損Ｈが小さい
ほどより大きい流量Ｑが得られることを示している。そ
して電圧Ｖの値が大きいほどポンプの揚程も大きいので
、圧力Ｈは大きくなる。
実際の動作点は、プラント特性とポンプ特性の交点で与
えられる。
えられる。
以上に述べた第３図は、流体の温度Ｔを一定とした場合
であるが、この温度が変化すると流体の粘性が変化する
から、特性も変る。第４図はポンプ４への印加電圧Ｖを
一定とし、温度Ｔを種々変化させた時のポンプ特性ＴＩ
Ｔ ＴＲ、・・・・・・ヲ、プラント特性り、Ｅ、Ｆ
とともに示している。
であるが、この温度が変化すると流体の粘性が変化する
から、特性も変る。第４図はポンプ４への印加電圧Ｖを
一定とし、温度Ｔを種々変化させた時のポンプ特性ＴＩ
Ｔ ＴＲ、・・・・・・ヲ、プラント特性り、Ｅ、Ｆ
とともに示している。
そこで今、例えば流体温度Ｔ一定の第３図で、プラント
特性Ｂ、ポンプ特性ＶＲが定格運転時の状態であるとす
ると、点Ｘ （Ｑｎ ’＋ Ｉ−ＩＲ）が動作点となっ
ている。この時、運転状態等の変化によりプラント特性
が曲線ＢからＣへ変ったとすると、制御系が動作する前
のポンプ印加電圧ＶＲは変化しないので動作点は特性Ｃ
と特性ＶＲの交点Ｗへ移り、流ｔＱが増加する。そこで
制御系が動作して流量ＱをＱ、へもどす制御が行われ、
その結果曲線Ｃに沿って動作点けＹ （ＱＲ、Ｈｅ ）
へ移って安定する。同様にプラント特性が曲線ＢからＡ
へ変ったとすると動作点はＸから２へ移る。このように
動作点が移ると、ポンプ４の揚程変動３丁（に対する流
量の変動ΔＱの割合、即ちその時のグランド特性の煩労
Ｈ力墳化し、これは流体系の応動の感度変化を意味す
る。例えば第３図の場合には、各動作点に於ては、 となる。これは第４図のように流体の温度Ｔが変化した
時でも同様である。この応動特性の変化は制御系の開ル
ープゲインを同じ割合で変化させる。
特性Ｂ、ポンプ特性ＶＲが定格運転時の状態であるとす
ると、点Ｘ （Ｑｎ ’＋ Ｉ−ＩＲ）が動作点となっ
ている。この時、運転状態等の変化によりプラント特性
が曲線ＢからＣへ変ったとすると、制御系が動作する前
のポンプ印加電圧ＶＲは変化しないので動作点は特性Ｃ
と特性ＶＲの交点Ｗへ移り、流ｔＱが増加する。そこで
制御系が動作して流量ＱをＱ、へもどす制御が行われ、
その結果曲線Ｃに沿って動作点けＹ （ＱＲ、Ｈｅ ）
へ移って安定する。同様にプラント特性が曲線ＢからＡ
へ変ったとすると動作点はＸから２へ移る。このように
動作点が移ると、ポンプ４の揚程変動３丁（に対する流
量の変動ΔＱの割合、即ちその時のグランド特性の煩労
Ｈ力墳化し、これは流体系の応動の感度変化を意味す
る。例えば第３図の場合には、各動作点に於ては、 となる。これは第４図のように流体の温度Ｔが変化した
時でも同様である。この応動特性の変化は制御系の開ル
ープゲインを同じ割合で変化させる。
このため、従来例で述べたような問題が生じる。
本発明は、このような開ループゲインの変化を予測して
、それを補正するようにしたもので、このだめの予測方
法は次のようである。第３図及び第４図の特性から、ポ
ンプ４への印加電圧Ｖ１及び流体温度Ｔを与えた時、流
ｆｔＱ＝ＱＲを一定とすると、各プラント特性に対しΔ
Ｑ／ΔＨが定まり、それは第５図に示したようになる。
、それを補正するようにしたもので、このだめの予測方
法は次のようである。第３図及び第４図の特性から、ポ
ンプ４への印加電圧Ｖ１及び流体温度Ｔを与えた時、流
ｆｔＱ＝ＱＲを一定とすると、各プラント特性に対しΔ
Ｑ／ΔＨが定まり、それは第５図に示したようになる。
即ち、印加電圧Ｖが低い程、また、流体温度Ｔが低い程
ΔＱ／Δｌ（が大きくなる。従って、この第５図の特性
を対象プラントに対して、実、倹約に予め求めておき、
近似式もしくは各電圧Ｖ、温度Ｔに対するテーブルとし
て格納しておけばよい。
ΔＱ／Δｌ（が大きくなる。従って、この第５図の特性
を対象プラントに対して、実、倹約に予め求めておき、
近似式もしくは各電圧Ｖ、温度Ｔに対するテーブルとし
て格納しておけばよい。
第６図は本発明の一実施例を示すブロック図で、第１図
の従来例と異なるのは、流体の圧力Ｈ（これは前述した
ように電圧Ｖと対応する）を検出する圧力変換器１７及
び温度Ｔを検出する温度検出器１Ｇと、これらの出力を
入力としだ制」御定数設定器１８を付加したことである
。そ１〜てこの制御定数設定器１８は、前述した第５図
のΔＱ／Δ【■の特性をその内部に記憶している。そし
て入力された温度Ｔ、正圧力１に対応して次のようにし
て定数Ｋを出力する。今、ΔＱ／Δｆ−Ｉ−αと２いて
、第５図で定格運転時のポンプ電圧をＶｎ、流体温度を
Ｔ１１．その時のα−α８とする。そしてこの定格運転
状態は例えば第３図の動作点Ｘに対応する。この動作点
Ｘが前述のように動作点Ｙへ運転状態の変化等により移
動し、・輻度Ｔ ＝ Ｔ ｎが不変だったとすると、Δ
Ｑ／ΔＦ−■＝αの値は、第５図の点Ｎに対応するα−
αＮ〉αＲになり、この値αＮは記憶した特性の検出さ
れた温度Ｔ、５圧Ｖに対する値として知ることができる
。そこでα二αＲの時に、＝１とし、Ｋけαに逆比例す
るように定める。即ち一般には、 Ｋ＝αＲ／α・・・・・・・・（３） とする。上述のα＝αＮの時はＩ（Ｎ−αＲ／αＮとな
る。又温度Ｔ ＝ Ｔ ＲがＴ＝＝＝Ｔｚ （＞’ｒ
ｎ ）に変化して、第５図のように点Ｍへ動作状態が移
った時にけα＝αＭ〈αＲとなり、この時はに−ＫＮ−
αＲ／αＭに設定される。
の従来例と異なるのは、流体の圧力Ｈ（これは前述した
ように電圧Ｖと対応する）を検出する圧力変換器１７及
び温度Ｔを検出する温度検出器１Ｇと、これらの出力を
入力としだ制」御定数設定器１８を付加したことである
。そ１〜てこの制御定数設定器１８は、前述した第５図
のΔＱ／Δ【■の特性をその内部に記憶している。そし
て入力された温度Ｔ、正圧力１に対応して次のようにし
て定数Ｋを出力する。今、ΔＱ／Δｆ−Ｉ−αと２いて
、第５図で定格運転時のポンプ電圧をＶｎ、流体温度を
Ｔ１１．その時のα−α８とする。そしてこの定格運転
状態は例えば第３図の動作点Ｘに対応する。この動作点
Ｘが前述のように動作点Ｙへ運転状態の変化等により移
動し、・輻度Ｔ ＝ Ｔ ｎが不変だったとすると、Δ
Ｑ／ΔＦ−■＝αの値は、第５図の点Ｎに対応するα−
αＮ〉αＲになり、この値αＮは記憶した特性の検出さ
れた温度Ｔ、５圧Ｖに対する値として知ることができる
。そこでα二αＲの時に、＝１とし、Ｋけαに逆比例す
るように定める。即ち一般には、 Ｋ＝αＲ／α・・・・・・・・（３） とする。上述のα＝αＮの時はＩ（Ｎ−αＲ／αＮとな
る。又温度Ｔ ＝ Ｔ ＲがＴ＝＝＝Ｔｚ （＞’ｒ
ｎ ）に変化して、第５図のように点Ｍへ動作状態が移
った時にけα＝αＭ〈αＲとなり、この時はに−ＫＮ−
αＲ／αＭに設定される。
第６図の流月二制御演算器１４は、Ｐ−［Ｉ）制餌とす
ると一般に ＫＣ＋Ｉ（Ｄ ｓ 十ＫＩ ／ ｓ
−−−（３）の形の伝達関数を有している。但しＳ
はラプラス演算子であり、Ｋ ｃ 、、 Ｉ（ｏ及びに
！は夫々比例、微分及び積分定数であり、これらの定数
はプラント定格運転状態時に適切な値となるよう定めら
れていＺ）。そこで本実施例では、制御定数設定器１８
の出力値Ｋをこれらの制御定数に乗じることによって補
正を行う。その結果、プラント状態や流体温度の変化に
よりΔＱ／Δｔ−ｒ ＝αとなった時、流体系の応動特
性の感度がα／αＲ倍になるが、演算器１４の各制御定
数は、式（２）からに−αＲ／α倍されるので、これら
の積に比例する制御系の開ループゲインは変化せず、常
に定格運転時と同じ制ｆＫＩ特性を得ることができる。
ると一般に ＫＣ＋Ｉ（Ｄ ｓ 十ＫＩ ／ ｓ
−−−（３）の形の伝達関数を有している。但しＳ
はラプラス演算子であり、Ｋ ｃ 、、 Ｉ（ｏ及びに
！は夫々比例、微分及び積分定数であり、これらの定数
はプラント定格運転状態時に適切な値となるよう定めら
れていＺ）。そこで本実施例では、制御定数設定器１８
の出力値Ｋをこれらの制御定数に乗じることによって補
正を行う。その結果、プラント状態や流体温度の変化に
よりΔＱ／Δｔ−ｒ ＝αとなった時、流体系の応動特
性の感度がα／αＲ倍になるが、演算器１４の各制御定
数は、式（２）からに−αＲ／α倍されるので、これら
の積に比例する制御系の開ループゲインは変化せず、常
に定格運転時と同じ制ｆＫＩ特性を得ることができる。
以上詳述したように、本発明によれば、流体の温度変化
、配管２機器の圧損変化によるプラント特性の変化が生
じても、良好な流量一定判＠を行うことができ、特に、
高速増殖炉に使用される液体金属ナトリウムの流量制御
のように、その温度がプラントの起動から定常運転まで
２００Ｃ〜５００Ｃと広範囲に変化するような場合や、
不純物を除去する純化系のように、配管２機器の圧損の
変動が大きい場合には、本装置は極めて有効である。
、配管２機器の圧損変化によるプラント特性の変化が生
じても、良好な流量一定判＠を行うことができ、特に、
高速増殖炉に使用される液体金属ナトリウムの流量制御
のように、その温度がプラントの起動から定常運転まで
２００Ｃ〜５００Ｃと広範囲に変化するような場合や、
不純物を除去する純化系のように、配管２機器の圧損の
変動が大きい場合には、本装置は極めて有効である。
第１図は従来の流量制御装置の構成を示す図、第２図は
流量制御特性の例を示す図、第３図は流体温度一定の場
合のＱ−［４特性を示す図、第４図はポンプ印加電圧一
定の場合のＱ−Ｈ特性を示す図、第５図は圧力に対応す
る流液変化率特性を示す図、第６図は本発明の一実施例
を示すブロック図である。 ４・・・電磁ポンプ、１１・・・′直磁流量計、１４・
・・流量制御演算器、１５ａ、１５ｂ・・・比較器、１
６・・・温度検出器、１７・・・圧力変換器、１８・・
・制御定数設定。 代理人 弁理士 秋本正実 茅 ２ 区 （Ａン （Ｅ３） 茅３ 目 ＄４ 囚
流量制御特性の例を示す図、第３図は流体温度一定の場
合のＱ−［４特性を示す図、第４図はポンプ印加電圧一
定の場合のＱ−Ｈ特性を示す図、第５図は圧力に対応す
る流液変化率特性を示す図、第６図は本発明の一実施例
を示すブロック図である。 ４・・・電磁ポンプ、１１・・・′直磁流量計、１４・
・・流量制御演算器、１５ａ、１５ｂ・・・比較器、１
６・・・温度検出器、１７・・・圧力変換器、１８・・
・制御定数設定。 代理人 弁理士 秋本正実 茅 ２ 区 （Ａン （Ｅ３） 茅３ 目 ＄４ 囚
Claims (1)
- １、 電磁ポンプの揚程により流れる導電性流体の流敬
検出値とその設定値との偏差を制御演算器を通して制御
信号とし、該制御信号により上記偏差が零となるように
上記電磁ポンプの揚程を制御するように構成した、フィ
ードバックループ型の流量制御装置に於て、導電性流体
の圧力を検出するだめの圧力変換器と、導電性流体の温
度を検出するだめの温度検出器と、上記制御演算器の制
御定数を設定するための制御定数設定器とを備えるとと
もに、該制御定数設定器は、導電性流体の圧力変化に対
する流１１゛変化率を上記圧力変換器及び温度検出器に
より検出された圧力及び温度から予測する機能と、該予
測した流量変化率に逆比例した制量定数を上記制御演算
器に設定する機能とを有したことを特徴とする流量制御
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4314483A JPS59170912A (ja) | 1983-03-17 | 1983-03-17 | 流量制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4314483A JPS59170912A (ja) | 1983-03-17 | 1983-03-17 | 流量制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59170912A true JPS59170912A (ja) | 1984-09-27 |
Family
ID=12655637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4314483A Pending JPS59170912A (ja) | 1983-03-17 | 1983-03-17 | 流量制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59170912A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS633831A (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-08 | 株式会社東芝 | 食器洗浄機等の給水装置 |
| WO2008070213A1 (en) * | 2006-12-07 | 2008-06-12 | Mks Instruments, Inc. | Controller gain scheduling for mass flow controllers |
| CN103529864A (zh) * | 2013-09-29 | 2014-01-22 | 中国科学院电子学研究所 | 一种被控对象自动恒流调节装置及方法 |
| JP2015141210A (ja) * | 2014-01-27 | 2015-08-03 | セイコーエプソン株式会社 | アクチュエーター制御装置、光学モジュール、電子機器、及びアクチュエーター制御方法 |
| US10782653B2 (en) | 2014-05-01 | 2020-09-22 | Seiko Epson Corporation | Actuator apparatus, electronic device, and control method |
-
1983
- 1983-03-17 JP JP4314483A patent/JPS59170912A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS633831A (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-08 | 株式会社東芝 | 食器洗浄機等の給水装置 |
| WO2008070213A1 (en) * | 2006-12-07 | 2008-06-12 | Mks Instruments, Inc. | Controller gain scheduling for mass flow controllers |
| US8079383B2 (en) | 2006-12-07 | 2011-12-20 | Mks Instruments, Inc. | Controller gain scheduling for mass flow controllers |
| CN103529864A (zh) * | 2013-09-29 | 2014-01-22 | 中国科学院电子学研究所 | 一种被控对象自动恒流调节装置及方法 |
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| US9910262B2 (en) | 2014-01-27 | 2018-03-06 | Seiko Epson Corporation | Actuator control device, optical module, electronic apparatus, and actuator control method |
| CN109100861A (zh) * | 2014-01-27 | 2018-12-28 | 精工爱普生株式会社 | 致动器控制装置、光学模块、电子设备及致动器控制方法 |
| US10782653B2 (en) | 2014-05-01 | 2020-09-22 | Seiko Epson Corporation | Actuator apparatus, electronic device, and control method |
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