JPS59161388A - Novel cephem compound and its preparation - Google Patents

Novel cephem compound and its preparation

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Publication number
JPS59161388A
JPS59161388A JP3409184A JP3409184A JPS59161388A JP S59161388 A JPS59161388 A JP S59161388A JP 3409184 A JP3409184 A JP 3409184A JP 3409184 A JP3409184 A JP 3409184A JP S59161388 A JPS59161388 A JP S59161388A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carboxy
compound
amino
alkyl group
Prior art date
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Pending
Application number
JP3409184A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsutomu Terachi
寺地 務
Kazuo Sakane
坂根 和夫
Jiro Goto
後藤 二郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

NEW MATERIAL:The compound of formula I [R<1> is (protected) amino; R<2> is lower alkyl, (protected) carboxy(lower)alkyl or cycloalkyl; R<3> is (protected) carboxy] and its salt. EXAMPLE:7-[2-( 5-Amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl )-2-carboxymethoxyimino-acetamido]- 3-[(4-carboxy-3-hydroxyisothiazol-5-yl)thiomethyl]-3-cephem-4-carboxylic acid sodium salt (syn-isomer). USE:An antibacterial agent. PREPARATION:The compound of formula II or its reactive derivative at the amino group or their salt is made to react with the compound of formula III or its reactive derivative at carboxyl group or their salt.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は新規セフェム化合物およびその塩類に関する
。さらに詳しくは、この発明は抗菌活性を有する新規セ
フェム化合物およびその塩類、およびそれらの製造法に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION This invention relates to novel cephem compounds and salts thereof. More specifically, the present invention relates to novel cephem compounds and salts thereof having antibacterial activity, and methods for producing them.

目的とするセフェム化合物は新規化合物であシ、下記一
般式で示すことができる。
The target cephem compound is a new compound and can be represented by the following general formula.

〔式中、R1はアミン基または保護されたアミン基、 R2は低級アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基
、保護されたカルボキシ(低級)アルキル基またはシク
ロアルキρ基、 R3はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基をそ
れぞれ煎味する〕。
[In the formula, R1 is an amine group or a protected amine group, R2 is a lower alkyl group, a carboxy(lower) alkyl group, a protected carboxy(lower) alkyl group or a cycloalkylρ group, and R3 is a carboxy group or a protected Decoct each carboxy group].

この発明により、新規セフェム化合物(I)は、次の反
応式で示される製造法によって製造することができる。
According to this invention, the novel cephem compound (I) can be produced by the production method shown by the following reaction formula.

製造法1 0OH (n)              (In)−または
そのアミノ基   またはそのカルボキシにおける反応
性誘導   基における反応性誘導体またはその塩類 
   体またはその塩類(I) またはその塩類 製造法2 (Ia) またはその塩類 0OH (Ib) またはその塩類 〔式中、R1、R2およびR3はそれぞれ前と同じ意味
であり、 RKは保護されたカルボキシ(低級)アルキル基、R2
bはカルボキシ(低級)アルキル基をそれぞれ意味する
〕。
Production method 1 0OH (n) (In)- or its amino group or reactive derivative at its carboxy group or its salt
or its salts (I) or its salts production method 2 (Ia) or its salts 0OH (Ib) or its salts [In the formula, R1, R2 and R3 each have the same meaning as before, and RK is a protected carboxy (lower) alkyl group, R2
b means a carboxy (lower) alkyl group].

この発明において、目的化合物(I)および(I”O)
、ならびに原料化合物(1■)および(Ia)について
は、これらの化合物のすべてにシン異性体、アンチ異性
体およびそれらの混合物が含まれるものとする。
In this invention, the target compound (I) and (I”O)
, and starting compounds (1) and (Ia), all of these compounds include syn isomers, anti-isomers, and mixtures thereof.

目的化合物(I)について説明すれば、そのシン異性体
は下記式: C式中、R1およびR2はそれぞれ前と同じ意味〕で示
される基を有する一つの幾何異性体を意味し、アンチ異
性体は、式: (式中、R1およびR2はそれぞれ前と同じ意味)で示
される基を有する別の幾何異姓体を意味する。
To explain the target compound (I), its syn isomer means one geometric isomer having a group represented by the following formula: means another geometrical variant having a group of the formula: in which R1 and R2 each have the same meaning as before.

さらにその他の化合物については、それらのシン異性体
およびアンチ異性体も、それぞれ目的化合物(I)と同
じ幾何学的立体配置で示される。
Furthermore, for other compounds, their syn isomers and anti-isomers are also each shown in the same geometrical configuration as the target compound (I).

目的化合物(I)の好適な塩類は慣用の無毒性塩類であ
り、無機塩、その例として、例えばす) IJウム塩、
カリウム塩等のアルカリ金属塩および例えばカルシウム
塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩のような金
属塩、アンモニウム塩等:有機塩、その例として、例え
ばトリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン
塩、プロカイン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミ
ン塩、N、N−ジベンジルエチレンジアミン塩、N−メ
チルグルカミン塩、ジェタノールアミン塩、トリエタノ
ールアミン塩、トリス(ヒドロキシメチルアミン)メタ
ン塩、フェニルエチルベンジルアミン塩、ジベンジルエ
チレンジアミン塩等の有機アミン塩等; 例えばギ酸塩、酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタ
ンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスル
ホン酸塩等の有機カルボンe 塩”! 7’t−はスル
ホン酸塩; 例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機
酸塩; 例えばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、リ
ジン等の塩基性または酸性アミノ酸との塩等が挙げられ
る。
Suitable salts of the target compound (I) are customary non-toxic salts, including inorganic salts, such as IJum salts,
Alkali metal salts such as potassium salts and metal salts such as alkaline earth metal salts such as calcium salts, magnesium salts, ammonium salts etc.; organic salts such as trimethylamine salts, triethylamine salts, pyridine salts, procaine salts; , picoline salt, dicyclohexylamine salt, N,N-dibenzylethylenediamine salt, N-methylglucamine salt, jetanolamine salt, triethanolamine salt, tris(hydroxymethylamine)methane salt, phenylethylbenzylamine salt, 7't- is a sulfonic acid salt; for example, an inorganic acid salt such as a hydrochloride, a hydrobromide, a sulfate, a phosphate; an example is a salt with a basic or acidic amino acid such as arginine, aspartic acid, glutamic acid, or lysine.

この明細書の以上および以下の記載において、この発明
の範囲内に包含される種々の定義の好適な例および説明
を以下詳細に説明する。
In the foregoing and following description of this specification, preferred examples and explanations of various definitions falling within the scope of this invention are set forth in detail below.

「低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子1〜6個
を有する基を意味するものとする。
"Lower", unless otherwise specified, shall mean groups having 1 to 6 carbon atoms.

好適な保護されたアミン基としては、アシルアミノ基お
よび、例えばベンジル、トリチル等のア/I/(低級)
アルキル基、例えばベンジリデン等の7/L/(低級)
アルキリデン基、例えばJ−エトキシカルボニ/L’−
2−グロビリデン、ジメチルアミノメチレン等の低級ア
ルコキシ力ルボニ)v 1 タilニジ(低級)アルキ
ルアミノで置換された低級アルキリデン基等のようなア
シル基以外の慣用の保護基で置換されたアミン基が挙げ
られる。
Suitable protected amine groups include acylamino groups and a/I/(lower) groups such as benzyl, trityl, etc.
7/L/(lower) of an alkyl group, such as benzylidene, etc.
Alkylidene groups, such as J-ethoxycarboni/L'-
An amine group substituted with a conventional protecting group other than an acyl group such as a lower alkylidene group substituted with 2-glopylidene, dimethylaminomethylene, etc. Can be mentioned.

「アシルアミノ基」の好適なアシル部分としては、カル
バモイル基、脂肪族アシル基および芳香環または複素環
を含むアシル基が挙げられる。これらのアシル基の好適
な例としては、例えばホルミ/し、アセチル、プロピオ
ニル、ブチリル、インブチリル、バレリル、インバレリ
ル、オキサリル、スクシニル、ピバロイル等の低級アル
カノイル基、好ましくは炭素原子1〜4個を有するもの
、さらに好ましくは炭素原子1〜2個を有するもの:例
えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロパ
ンスルホニル、l−シクロプロピルエトキシカルボニル
、インプロポキシカルボニル、クトキシカルホニル、第
三級ブトギシヵルボニル、ペンチルオキシカルボニル、
第三級ベンジルオキシカルボニル、ヘキシルオキシヵル
ホニ/v等の炭素原子2〜7個を有する低級アルコキシ
カルボニル基、好ましくは炭素原子3〜6個を有するも
の;例、t tdメシル、エタンスルホニル、プロパン
スルホニル、イソプロパンスルホニル、ブタンスルホニ
ル等の低級アルカンスルホニ/L/基:例えばベンゼン
スルホニル、トシ/I/等のアレーンスルホニル基; 例工ばベンゾイル、トルオイル フタロイル、インダンカルホニ)v4のアロイル基;例
エバフェニルアセチル、フェニルグロピオニル等のア)
V (低級〕アルカノイル基。
Suitable acyl moieties of the "acylamino group" include carbamoyl groups, aliphatic acyl groups, and acyl groups containing aromatic rings or heterocycles. Suitable examples of these acyl groups include lower alkanoyl groups such as formi, acetyl, propionyl, butyryl, imbutyryl, valeryl, invaleryl, oxalyl, succinyl, and pivaloyl, preferably those having 1 to 4 carbon atoms. , more preferably those having 1 to 2 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propanesulfonyl, l-cyclopropylethoxycarbonyl, impropoxycarbonyl, ctoxycarbonyl, tertiary butoxycarbonyl, pentyl oxycarbonyl,
Lower alkoxycarbonyl groups having 2 to 7 carbon atoms, preferably those having 3 to 6 carbon atoms, such as tertiary benzyloxycarbonyl, hexyloxycarbonyl/v; examples, t td mesyl, ethanesulfonyl, Lower alkanesulfonyl/L/ groups such as propanesulfonyl, isopropanesulfonyl, butanesulfonyl; for example, arenesulfonyl groups such as benzenesulfonyl, tosi/I/; examples, aroyl groups of benzoyl, toluoyl phthaloyl, indancarbonyl) v4 ; e.g. evaphenylacetyl, phenylgropionyl, etc. a)
V (lower) alkanoyl group.

例エバシクロへキシルアセチル、シクロペンチルアセテ
)V等のシクロ(低級)アルキ)v(低級)アルカノイ
ル基; 例えばベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカ
ルボニル等のア)v(低級)アルコキシカルボニル基等
が挙げられる。
Examples include cyclo(lower)alkyl)v(lower)alkanoyl groups such as evacyclohexylacetyl and cyclopentylacete)V; Examples include a)v(lower)alkoxycarbonyl groups such as benzyloxycarbonyl and phenethyloxycarbonyl.

好適な低級アルキル 低級)アルキル基」および「保護されたカルボキシ( 
低級)アルキル基」の好適な低級アルキル部分としては
、メチル、エチル、プロピル、インフロビル、グチル、
インブチル、第二級グチル、第三級ブチル、ペンチル、
第三級ペンチル、ヘキシル等のような炭素原子1〜6個
を有するml@−4.たは分枝鎖アルキル基、好ましく
は炭素原子1〜4個を有するものが挙げられる。
Preferred lower alkyl (lower) alkyl groups and protected carboxy (
Suitable lower alkyl moieties of "lower alkyl group" include methyl, ethyl, propyl, inflovir, gutyl,
Inbutyl, secondary butyl, tertiary butyl, pentyl,
ml@-4. with 1 to 6 carbon atoms such as tertiary pentyl, hexyl, etc. or branched alkyl groups, preferably those having 1 to 4 carbon atoms.

好適なシクロアルキp基としては、炭素原子3〜8個を
有するもの、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、
シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロへ1チル等、
好ましくは炭素原子4〜7個を有するものが挙げられる
Suitable cycloalkyl p groups include those having 3 to 8 carbon atoms, such as cyclopropyl, cyclobutyl,
Cyclopentyl, cyclohexyl, cyclohexyl, etc.
Preferably, those having 4 to 7 carbon atoms are mentioned.

好適な保護されたカルボキシ基、および「保護されたカ
ルボキシ(低級)アルキル基」の好適な保護されたカル
ボ代シ部分としては、エステル化されたカルボモジ基が
挙げられ、エステル化されたカルボキシ基のエステル部
分としては、例えばメチルエステル、エチルエステル、
プロビルエスチル、インブチルエステル、ブチルエステ
ル、インブチルエステル、第三級ブチルエステル、ペン
f /L/エステル、第三級ペンチルエステル、ヘキシ
ルエステル、ユーシク四プロピルエチルエステル等の低
級アルキルエステルで、低級アルキル部分が好ましくは
炭素原子1〜4個を有するもの:例エハビニルエステノ
ペアリルエステル等の低級アルケニルエステル グロピニルエステル等の低級アルキニルエステル;例工
(d: 2 − 沃化エチルエステル、2,2.2 −
 ト1)クロロエチルエステ/I/等のモノ(またはシ
またはトリ)−ハロ(低級〕アルキルエステル;例エハ
アセトギシメテルエステル、プロピオニルオキシエチル
エステル、1−アセトキシエチルエステル、ハl/ I
) /L/オギシメチルエステル、ピバロイルオキシメ
チルエステル テ ロピオニルオキシエチルエステル リルオキシエテルエステル等の低級アルカノイルオキシ
(低級)アルキルエステル;例えばメシルメチルエステ
ル、2−メシルエチルエステル低級アルカンスルホニル ル;ア)V (低級)アルキルエステルて, 例Udペ
ン9 )vニス7’/し、4−メトキシベンジルエステ
ル ネチルエステル チルエステル ルエステ/l’、3.4−ジメトキシベンジルエステル
、4−ヒドロキシ−3,5−ジ第三級ブチルペンシルエ
ステル てモ.よいフェニル(低級〕アルキルエステルえばメト
キシカルボニルオキシメチルエステルエトキシカルボニ
ルオキシメチルエステルギシ力ルポニルオキゾエチルエ
ステル等の、アンドで置換されていてもよい低級アルコ
キシカルボニルオキシ(低級)アルキルエステル;複素
環エステル、好ましくはオキソ基で置換されていてもよ
いペンゾテトンヒド四フリノンエステル、さらに好まし
くはフタリジルエステ/I/:例えばベンゾイルオキシ
メチルエステル エステル の70イルオキシC低Pりアルキルエステルえばフェニ
ルエステル、 トリルエステルブチルフェニルエステル
、キシリルエステル、メチルエステル、クメニルエステ
ル等の、1個以上の置換基を有していてもよいアリール
エステル等のようなものが挙げられる。
Suitable protected carboxy groups and suitable protected carboxyl moieties of "protected carboxy (lower) alkyl groups" include esterified carbomodi groups; Examples of the ester moiety include methyl ester, ethyl ester,
Lower alkyl esters such as probyl ester, imbutyl ester, butyl ester, imbutyl ester, tertiary butyl ester, pen f / L / ester, tertiary pentyl ester, hexyl ester, Eusik tetrapropylethyl ester, Those in which the lower alkyl moiety preferably has 1 to 4 carbon atoms: lower alkenyl esters such as ehabinylestenopearyl ester; lower alkynyl esters such as glopinyl ester; 2,2.2-
1) Mono(or tri)-halo(lower) alkyl esters such as chloroethyl ester/I/; Examples: acetoxymethyl ester, propionyloxyethyl ester, 1-acetoxyethyl ester, hali/I
) /L/Lower alkanoyloxy (lower) alkyl esters such as oxymethyl ester, pivaloyloxymethyl ester teropionyloxyethyl ester lyloxyether ester; for example, mesyl methyl ester, 2-mesylethyl ester lower alkanesulfonyl ester ;a) V (lower) alkyl ester, Example Ud pen 9) v varnish 7'/l', 4-methoxybenzyl ester netyl ester thyl ester l', 3.4-dimethoxybenzyl ester, 4-hydroxy -3,5-ditertiary butyl pencil ester. Good phenyl (lower) alkyl esters, such as methoxycarbonyloxymethyl ester, ethoxycarbonyloxymethyl ester, lower alkoxycarbonyloxy (lower) alkyl esters that may be substituted with and, such as ethoxycarbonyloxymethyl ester; heterocyclic esters , preferably penzotetonhydrotetrafurinone ester which may be substituted with an oxo group, more preferably phthalidyl ester /I/: for example, 70yloxy C low P alkyl ester of benzoyloxymethyl ester ester, e.g. phenyl ester, butyl tolyl ester Examples include aryl esters which may have one or more substituents, such as phenyl ester, xylyl ester, methyl ester, and cumenyl ester.

目的化合物CI)の好ましい実施態様は次のとおりであ
る。
Preferred embodiments of the target compound CI) are as follows.

R1の好ましい実力亀態様はアミノ基:R2の好ましい
実施態様は低級アルキル基、カルボキシ(低級)アルキ
p基、保護されたカルボキシ(低級)アルキル基〔さら
に好ましくはエステル化されたカルボキシ(低級)アル
キル基、最も好ましくは低級アルコキシカルボニ)V 
(低級)アルギル R3の好ましい実施態様はカルボキシ基である。
A preferred embodiment of R1 is an amino group; a preferred embodiment of R2 is a lower alkyl group, a carboxy (lower) alkyl group, a protected carboxy (lower) alkyl group [more preferably an esterified carboxy (lower) alkyl group] group, most preferably lower alkoxycarboni)V
A preferred embodiment of (lower)argyl R3 is a carboxy group.

目的化合物(1)の製造法を以下詳細に説明する。The method for producing the target compound (1) will be explained in detail below.

製造法1 目的化合物(I)またはその塩類は、化合物(n)また
はそのアミン基における反応性誘導体またはその塩類を
、化合物(■)またはそのカルボキシ基における反応性
誘導体またはその塩類と反応させることにより製造する
ことができる。
Production method 1 Target compound (I) or its salts can be obtained by reacting compound (n) or its reactive derivative with an amine group or its salts with compound (■) or its reactive derivative with its carboxyl group or its salts. can be manufactured.

化合物(II)および(Iif)の好適な塩類としては
、化合物CI)について例示したものを挙げることがで
きる。
Suitable salts of compounds (II) and (Iif) include those exemplified for compound CI).

化合物(II)のアミン基における好適な反応性誘導体
としては、アミド化に使用される@用の反応性誘導体、
例えは、化合物(II)とカルボニル物との反応によっ
て生成するシッフの塩基型イミノまたはそのエナミン型
互変異性体;化合物(■)とビス(トリメテルシ・ノル
)アセトアミド、トリメチルシリルアセトアミド 物との反応によって生成するシIJ /し銹導体:化合
物(II)と三塩化燐またはホスゲンとの反応によって
生成する誘導体等が挙げられる。
Suitable reactive derivatives at the amine group of compound (II) include reactive derivatives for @ used in amidation;
For example, Schiff's base type imino or its enamine type tautomer is produced by the reaction of compound (II) with a carbonyl compound; by the reaction of compound (■) with bis(trimetersi-nor)acetamide or trimethylsilylacetamide. Generated IJ/Silicon conductor: Examples include derivatives generated by the reaction of compound (II) with phosphorus trichloride or phosgene.

化合物(IIf)のカルボキシ基における好適な反応性
誘導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化ア
ミド、活性化エステル等が挙げられる。
Suitable reactive derivatives at the carboxy group of compound (IIf) include acid halides, acid anhydrides, activated amides, activated esters, and the like.

それらの好適な例としては、酸塩化物;酸アジド;例)
、Jfジアルキル ニ)v燐酸、ジベンゾ/L/ IF酸、ハロゲン化燐酸
等の置換された炊酸、シアルギル亜勉酸、亜硫酸、例え
ばメタンスルホン酸、エタンスルホン酸等のアルカンス
ルホン酸、チオ硫酸、硫酸、アルキル炭酸、例えばピバ
リン酸、ペンタン酸、インペンタン酸、2−エチ)V酪
酸、酢酸またはトリクロロ酢酸等の脂肪族カルボン酸ま
たは例えは安息香酸等の芳’4にカルボン酸のような酸
との混合酸無水物;別称酸無水物:イミダゾール、ジメ
チルピラゾール、トリアゾールまたはテトラソールとの
;舌゛曲化アミド;または活性化エステル例えはシアン
メチルエステル、メトキシメチルエステル、ジメテ十 ルイミノメチルC (CH3)2N = CH  ”:
Jエステル、ビニルエステル、プロハ/L/ギルエステ
ル、p−ニトロフェニルエステル エステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロ
フェニルエステル、メシルフェニルエステルオエステル
、p−ニトロフェニルチオエステル、p−クレシルチオ
エステル、カルボキシメチルチオエステル、ピラニルエ
ステル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、8−
キノリルチオエステル、またはN,l’J−ジメチルヒ
ドロキシルアミン、ニーヒドロキシ−2−(IH)−ピ
リドン、N−ヒドロキシスクシンイミド、N−ヒドロキ
シフタルイミドまたはニーヒドロキシ−6−クロロ−1
H−ベンツ用ーリアゾールとのエステル等が挙げられる
。これらの反応性誘導体は使用すべき化合物(Hl )
の種類によって、それらの中から任意に選択することが
できる。
Suitable examples thereof include acid chlorides; acid azides; e.g.
, Jf dialkyldi) v phosphoric acid, dibenzo/L/IF acid, substituted sulfuric acids such as halogenated phosphoric acid, sialygyl substomatous acid, sulfurous acid, alkanesulfonic acid such as methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, thiosulfuric acid, sulfuric acid , alkyl carbonates, aliphatic carboxylic acids such as pivalic acid, pentanoic acid, impentanoic acid, 2-ethyl)V-butyric acid, acetic acid or trichloroacetic acid or acids such as aromatic carboxylic acids such as benzoic acid. Mixed acid anhydrides; also known as acid anhydrides: with imidazole, dimethylpyrazole, triazole or tetrazole; curved amides; or activated esters such as cyanogen methyl ester, methoxymethyl ester, dimethetyliminomethyl C (CH3) 2N=CH”:
J ester, vinyl ester, proha/L/gyl ester, p-nitrophenyl ester, trichlorophenyl ester, pentachlorophenyl ester, mesylphenyl ester, p-nitrophenyl thioester, p-cresyl thioester, carboxymethyl thioester, Pyranyl ester, pyridyl ester, piperidyl ester, 8-
Quinolylthioester, or N,l'J-dimethylhydroxylamine, nihydroxy-2-(IH)-pyridone, N-hydroxysuccinimide, N-hydroxyphthalimide or nihydroxy-6-chloro-1
Examples include esters with H-benzyl lyazole. These reactive derivatives are the compounds to be used (Hl)
Depending on the type, you can arbitrarily select one from among them.

反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テト
ラヒドロフラン、酢酸エチル、N。
The reaction is usually carried out using water, acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N.

]リージノテルホルムアミド、ピリジンのような慣用の
溶媒中で行なわれるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒
であれはその他のいかなる溶媒中でも行なうことができ
る。これらの溶媒中、親水性溶媒は水と混合して使用し
てもよい。
] The reaction is carried out in a conventional solvent such as liginoterformamide, pyridine, etc., but it can be carried out in any other solvent as long as it does not adversely affect the reaction. Among these solvents, hydrophilic solvents may be used in combination with water.

化合物<Hi)k遊離酸の形またはその塩の形で反応に
使用する場合、N,N−ジシクロへキシルカルボジイミ
ド:N−7クロヘキシJz − N−モルホリノエテル
カルボジイミド yv − N’ −’ ( 4−ジエチルアミノシクロ
、キシ、し〕カカルボジイミド;N 、 N−ジエチル
カルボシイミド、N,N−ジイソプロビルカルボシイミ
ド−11寸−エチル−N−(3−ジメテルアミノプロヒ
諏し)カルボジイミド;N,N−カルボニルビス(2−
メチルイミダゾール〕,ペンタメチレンケテン−N−シ
クロヘキシルイミン;ジフェニルケテン−N−シクロヘ
キシルイミン;エトキシアセチレン;ポリ燐酸エチル、
ポリ燐酸インプロピ)v:ホスホロクロリシン酸ジエチ
ル:オキシ塩化所;三塩化燐;五塩化燐;塩化チオニル
、塩化オキサリル;トリフェニルホスフィン:N−工f
 )Ly − ’7ーヒトロキシベンズイソオキサゾリ
ウムフルオロホウ酸&4iN−エチ)v−5−フェニル
インオキサシリウム−3′−スルホナートil−CI)
−10ロベンゼンスルホニルオキシ)  6ークロ、o
−IH−ヘンシトリアゾール:例えばジメチルホルムア
ミドと塩化チオニルまたはホスゲンとの反応によって生
成する(クロロメチレン〕ジメチルアンモニウムクロリ
ド、ジメチルホルムアミド 燐との反応によって生成する化合物等のいわゆるビルス
マイヤー試薬等のような慣用の縮合剤の存在下に反応を
行なうのが好ましい。
Compound <Hi)k When used in the reaction in the form of the free acid or in the form of its salts, N,N-dicyclohexylcarbodiimide: N-7 clohexy Jz - N-morpholinoethercarbodiimide yv - N'-' (4- Diethylaminocyclo, xy, di]cacarbodiimide; N,N-diethylcarbosiimide, N,N-diisopropylcarbosiimide-11-ethyl-N-(3-dimetelaminopropylene)carbodiimide; N,N-carbonylbis(2-
methylimidazole], pentamethyleneketene-N-cyclohexylimine; diphenylketene-N-cyclohexylimine; ethoxyacetylene; ethyl polyphosphate,
Polyphosphoric acid inpropylene) v: Diethyl phosphorochloricate: oxychloride; phosphorus trichloride; phosphorus pentachloride; thionyl chloride, oxalyl chloride; triphenylphosphine: N-technical f
) Ly - '7-Hytroxybenzisoxazolium fluoroborate &4iN-ethyl) v-5-phenylinoxacillium-3'-sulfonate il-CI)
-10robenzenesulfonyloxy) 6-chloro, o
-IH-hensitriazole: a compound formed by the reaction of dimethylformamide with thionyl chloride or phosgene (chloromethylene)dimethylammonium chloride, a compound formed by the reaction of dimethylformamide with phosphorus, etc., such as the so-called Vilsmeier reagent, etc. Preferably, the reaction is carried out in the presence of a condensing agent.

この反応はまた、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属
炭酸水素塩、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属酢酸塩
、トリ(低級)アルキルアミン、ピリジン、N − (
低級)アルギルモルホリン、N・N−シ(低M)アルキ
ルベンシルアミン、N,N−シ(低級)アルキルアニリ
ン等のような無機塩基または有機塩基の存在下に行なっ
てもよい。塩基または縮合剤が液体である場合には、こ
れらを溶媒として使用することもできる。反応温度は特
   −に限定されず、通常は冷却下または常温で反応
が行なわれる。
This reaction also applies to alkali metal hydroxides, alkali metal bicarbonates, alkali metal carbonates, alkali metal acetates, tri(lower)alkylamines, pyridine, N-(
The reaction may be carried out in the presence of an inorganic or organic base such as lower) argylmorpholine, N.N-cy(low M)alkylbenzylamine, N,N-cy(lower)alkylaniline, and the like. If the base or condensing agent is liquid, they can also be used as solvents. The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or at room temperature.

製造法2 目的化合物( Ib)またはその塩類は、化合物(:1
.a)tたはその塩類を、R2aにおけるカル号(キシ
1α4j1(基の脱離反応に付すことにより製造するこ
とができる。
Production method 2 The target compound (Ib) or its salts is a compound (:1
.. a) t or its salts can be produced by subjecting it to an elimination reaction of the cal number (xy 1α4j1 (group) in R2a.

化合物(Ia)および(It))の好適な塩類としては
、化合物(I)について例示したものを挙げることがで
きる。
Suitable salts of compounds (Ia) and (It)) include those exemplified for compound (I).

この反応は加水分解、還元等のような慣用の方法によシ
行なうことができる。
This reaction can be carried out by conventional methods such as hydrolysis, reduction, etc.

保護基がエステルである場合には、加水分解によって保
護基を脱離することができる。加水分解は塩基または酸
の存在下に行なうのが好ましい。
When the protecting group is an ester, it can be removed by hydrolysis. Hydrolysis is preferably carried out in the presence of a base or an acid.

好適な塩基としては、例えばナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属、例えばマクネシウム、カルシウム等のア
ルカリ土類金属、それらの金属の水酸化物、炭酸塩また
は炭酸水素塩、例えばトリメチルアミン、トリエチルア
ミン等のトリアルキルアミン 0〕ノン−5−二ン、1.4−ジアザビシクロ〔2。
Suitable bases include, for example, alkali metals such as sodium and potassium, alkaline earth metals such as magnesium and calcium, hydroxides, carbonates or bicarbonates of these metals, trialkylamines such as trimethylamine, triethylamine, etc. 0] Non-5-dyne, 1,4-diazabicyclo[2.

2、2〕オクタン、1,8−ジアザビシクロ( 5, 
4. 0〕ウンデセン−7等のような無機塩基および有
機塩基が挙げられる。好適な酸としては、例えばギit
、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸、
および、例えは塩酸、臭化水垢酸、硫酸等の無機酸が挙
げられる。トリフルオロ酢酸を使用する酸性加水分解は
、通常アニソールの添加により促進される。
2,2] octane, 1,8-diazabicyclo(5,
4. 0] Undecene-7, and other inorganic bases and organic bases. Suitable acids include, for example, git
, organic acids such as acetic acid, propionic acid, trifluoroacetic acid,
Examples include inorganic acids such as hydrochloric acid, bromic acid, and sulfuric acid. Acidic hydrolysis using trifluoroacetic acid is usually accelerated by the addition of anisole.

反応は通常水、塩化メチレン、例えはメタノール、エタ
ノール等のアルコールのような溶媒中、1;たけそれら
の混合物中で行なわれるか、反応に悪影響企及はさない
溶媒であれはその他のいかなる溶媒中でも行なうことが
できる。液状の塩基または酸も溶媒として使用すること
ができる。反応温度は特に限定されず、通常は冷却下な
いし加温下の範囲で反応が行なわれる。
The reaction is usually carried out in a solvent such as water, methylene chloride, an alcohol such as methanol, ethanol, etc., or a mixture thereof, or in any other solvent which does not adversely affect the reaction. can be done. Liquid bases or acids can also be used as solvents. The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out in a range of cooling to heating.

還元B’ーニトロベンンル、2 − 沃化エチル、2、
2.2−)リクロロエチ/l/等のような保坦基の脱離
に適用するのが好ましい。
Reduced B'nitrobennyl, 2-ethyl iodide, 2,
2.2-) It is preferably applied to the removal of holding groups such as lichloroethyl/l/.

還元は化学的還元および接触還元を含めて慣用の方法で
行なわれる。
Reduction is carried out by conventional methods including chemical reduction and catalytic reduction.

化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化クローム、酢酸クロ
ーム等の金属化合物と、例えばギ酸、酢酸、プロピオン
酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸
、臭化水素r駿等の有機酸または無機酸との組合わせで
ある。
Suitable reducing agents used for chemical reduction include, for example, tin,
Metals such as zinc and iron or metal compounds such as chromium chloride and chromium acetate, and organic acids or inorganic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, hydrochloric acid, hydrogen bromide, etc. It is a combination with acid.

接触還元に使用される好適な触媒は、例えば白金板、白
金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の
白金触媒、例えばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化
パラジウム、パラジウム−炭素、コロイドパラジウム、
パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム
等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッケ
ル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば還元コバ
ルト、ラネーコバルト等のコバルト触媒、例えば還元鉄
、ラネー鉄等の鉄触媒、例えは還元銅、ラネー銅、ウル
マン銅等の銅触媒等のような慣用の触媒である。
Suitable catalysts used for catalytic reduction are platinum catalysts such as platinum plates, platinum sponges, platinum black, colloidal platinum, platinum oxide, platinum wires, e.g. palladium sponges, palladium black, palladium oxide, palladium-carbon, colloidal palladium. ,
Palladium catalysts such as palladium-barium sulfate, palladium-barium carbonate, nickel catalysts such as reduced nickel, nickel oxide, Raney nickel, cobalt catalysts such as reduced cobalt, Raney cobalt, iron catalysts such as reduced iron, Raney iron, etc. are conventional catalysts such as copper catalysts such as reduced copper, Raney copper, Ullmann copper, etc.

還元は通常水、例えばメタノール、エタノール等のアル
コ−)v、N 、 N−ジメチルホルムアミド、テトラ
ヒドロフランのような溶媒中、またはそれらの混合物中
で行なわれるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれ
は、その他のいかなる溶媒中でも行なうことができる。
The reduction is usually carried out in water, alcohols such as methanol, ethanol, etc.), v,N,N-dimethylformamide, tetrahydrofuran, or mixtures thereof, but any solvent that does not adversely affect the reaction may be used. , or any other solvent.

さらに、化学的還元に使用する前記酸が液疹である場合
にはそれらを溶媒として使用することもできる。
Furthermore, when the acids used in the chemical reduction are liquids, they can also be used as solvents.

この還元の皮応温度は特に限定されず、通常は冷却下な
いし加温下の範囲で反応が行なわれる。
The skin temperature for this reduction is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating.

この発明の目的化合物(I)およびその塩類は新規化合
物であり、高い杭内活性を発揮してクラム陽性菌および
クラム陰性凶を含む広汎な病原菌の生育を阻止し、抗菌
剤として有用である。治療用として、この発明の化合物
は経口、非経口または外部投与に適した有機もしくは無
機固体状もしくは液状賦形剤のような医薬として許容さ
れる担体と混合して、前記化合物を有効成分として含有
する慣用の医薬製剤の形で使用することができる。
Compound (I) and its salts, which are the objects of this invention, are novel compounds that exhibit high in-pile activity and inhibit the growth of a wide range of pathogenic bacteria, including crumb-positive bacteria and crumb-negative bacteria, and are useful as antibacterial agents. For therapeutic use, the compounds of this invention may be used in admixture with pharmaceutically acceptable carriers such as organic or inorganic solid or liquid excipients suitable for oral, parenteral or external administration, containing said compounds as active ingredients. It can be used in the form of conventional pharmaceutical preparations.

医薬製剤はカプセノベ錠剤、糖衣錠、転臂または受側の
ような固体状であっても、浴液、恩澗液丑たはエマルジ
ョンのような液状であってもよい。
The pharmaceutical formulation may be in solid form, such as capsule tablets, dragees, diluted tablets, or liquid forms, such as bath solutions, liquid tablets, or emulsions.

所望によっては上記製剤中に、助剤、安定剤、湿潤剤も
しくは乳化剤、緩衝液およびその他、乳糖、フマール酸
、クエン酸、酒石酸、ステアリン酸、マレイン酸、コハ
ク酸、リンゴ酸、ステアリン酸マグネシウム、白土、蔗
糖、とうもろこしでん粉、タルク、ゼラチン、寒天、ペ
クチン、落花生油、オリーブ油、カカオ脂、エチレング
リコール等のような通常使用される添加剤が含まれてい
てもよい。
Optionally in the above formulations, auxiliaries, stabilizers, wetting agents or emulsifiers, buffers and others, lactose, fumaric acid, citric acid, tartaric acid, stearic acid, maleic acid, succinic acid, malic acid, magnesium stearate, Commonly used additives such as clay, sucrose, corn starch, talc, gelatin, agar, pectin, peanut oil, olive oil, cocoa butter, ethylene glycol, etc. may be included.

化合物の投与量は患者の年令および条件によって変化す
るが、この発明の化合物は平均1回投与fa 10 r
n;)、50m9.10C11i?、25QT19.5
001119.1000mgで病原菌慇染症治療に有効
なことが分つプ辷。一般的には、1日当りl Tnli
〜釣60001119またはそれ以上の量投与してもよ
い。
Although the dosage of the compound will vary depending on the age and condition of the patient, the compounds of this invention can be administered once on average.
n;), 50m9.10C11i? , 25QT19.5
001119. A drug that has been found to be effective in treating pathogenic bacterial infections at 1000mg. In general, l Tnli per day
~60001119 liters or more may be administered.

N的化合物(I)の有用性を示すために、この発明の代
表的化合物についてその試験管内抗菌試験結果を以下に
示す。
In order to demonstrate the usefulness of N-type compound (I), the results of in vitro antibacterial tests on representative compounds of this invention are shown below.

試験化合物 7−(2−(5−アミノ−1:2,4−チアシアシー)
v−3−イ/V ) −2−カルボキシメトキシイミノ
アセトアミド〕−3−((4−カルボキシ−3−ヒドロ
キシイソテアシー/L’−5−イル)チオメチル〕−3
−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム(シン異性体) 試験法 下記の寒天板倍数希釈法によって試験管内抗菌活性を測
定した。
Test compound 7-(2-(5-amino-1:2,4-thiasiacy)
v-3-i/V) -2-carboxymethoxyiminoacetamide]-3-((4-carboxy-3-hydroxyisotheacy/L'-5-yl)thiomethyl]-3
- Sodium cephem-4-carboxylate (syn isomer) Test method In vitro antibacterial activity was measured by the agar plate multiple dilution method described below.

各試験菌株ヲトリプトケース ソイプロス中、−夜培養
してその1白金耳(生菌数108個/ml)を各濃度段
階の試験化合物を含むハート インフュージョン寒天(
H工寒天〕に接種し1,37℃で20時間培養した後、
最小発育阻止a度(1v1工C)をμ7/解で表わした
Each test strain was cultured in Otryptocase Soypros overnight and one platinum loop (108 viable bacteria/ml) was added to heart infusion agar containing the test compound at each concentration level (
After inoculating onto H-technical agar] and culturing at 1.37°C for 20 hours,
The minimum degree of inhibition (1v1C) was expressed as μ7/solution.

試験結果 MIC(μfl /rnl) 以下この発明を製造例および実施例により説明する。Test results MIC (μfl /rnl) This invention will be explained below with reference to production examples and examples.

製造例1 2−(5−ホルムアミドーユ、2,4−テアジアゾ/L
’−3−イル〕−2−ヒドロキシイミノ酢酸(シン異性
体)(9,60f)およびカリウム第三級プ1−キシド
(14,!l)のジメチルスルホキシド(100ηt(
3)中温合物に、2−ブロモ−2−メチル酪酸第三級ブ
チル(14,1)のジメチルスルホキシド(10ml)
溶液を攪拌下25℃以下で加え、室温で31E1間撹拌
する。反応混合物を濃塩酸(7,4罰〕、冷水(5oo
ml) オヨびシェチルエーテ)v(2o07nl)の
混合物中に攪拌下に注ぎ、混合物を炭酸水素ナトリウム
水溶液でpH6,5に調整する。水層を分取し、これに
ジエチルエーテルを加え、混合物を6N塩酸でpH20
に調整する。有機層を分取し、水層からジエチルエーテ
ルで抽出する。有機層と抽出液とを合わせ、食塩水で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して蒸発乾固する。残m
kジエチルエーテルで再結晶し、許取、乾燥して、2−
(5−ホルムアミド−1,2,4−チアジアゾール−3
Hル) −2−(ユ’−第三級プトキシ力ルポニル−1
−メチルプロポキシイミノ)酢酸(シン異性体) (2
,’?6?)を得る。同じ化合物を7p液からも得る。
Production Example 1 2-(5-formamidoyu, 2,4-theadiazo/L
'-3-yl]-2-hydroxyiminoacetic acid (syn isomer) (9,60f) and potassium tertiary poly-1-oxide (14,!l) in dimethyl sulfoxide (100ηt(
3) Add dimethyl sulfoxide (10 ml) of tert-butyl 2-bromo-2-methylbutyrate (14,1) to the medium temperature mixture.
The solution is added under stirring below 25° C. and stirred at room temperature for 31E1. The reaction mixture was mixed with concentrated hydrochloric acid (7,4 ml) and cold water (5 ml).
ml) (2007 nl) and the mixture is adjusted to pH 6.5 with aqueous sodium bicarbonate solution. Separate the aqueous layer, add diethyl ether to it, and adjust the mixture to pH 20 with 6N hydrochloric acid.
Adjust to. The organic layer is separated and the aqueous layer is extracted with diethyl ether. The organic layer and extract are combined, washed with brine, dried over magnesium sulfate and evaporated to dryness. Remaining m
Recrystallize from K-diethyl ether, dry and give 2-
(5-formamide-1,2,4-thiadiazole-3
-2-(U'-tertiary poxyl-1)
-methylpropoxyimino)acetic acid (syn isomer) (2
,'? 6? ). The same compound is also obtained from the 7p solution.

融点 128〜131℃(分解〕 工R(ヌジョ−/L’) : 3550. 3150.
 3020. 1730゜16’70. 1540. 
1250. 1140. 11ユOcmNMLR(DM
S○−cl、+D20 、δ): 0.88(3H,t
、J=7Hz)。
Melting point 128-131°C (decomposition) R (nujo/L'): 3550. 3150.
3020. 1730°16'70. 1540.
1250. 1140. 11UOcmNMLR(DM
S○-cl, +D20, δ): 0.88 (3H, t
, J=7Hz).

138(3H,S)、1.43(9H,S)、1.86
(2H。
138 (3H, S), 1.43 (9H, S), 1.86
(2H.

q、J=7Hz)、8.a2(IH,s)製造例2 2−(5−ホルムアミド−1,2,4−テアシアシー/
L’−3−イ/V ) −2−(ニー第三級ブトキシカ
ルボニル− シン異性体)(3.5i)の1N水酸化ナトリウム水溶
液(22.4iJ)・を室温で24時間攪拌し、これに
酢酸エテル(30ml)を加える。混合物を1工q塩酸
でpH 2.0に調整して有機層を分取し、水層から酢
酸エチルで抽出する。有機層と抽出液とを合わせ、水^
して硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して得る仝+= 
g+ f;f< tジイソプロピルエーテル2−(5−
アミノーユ,2,4−チアジアゾ−)v−3−イ/L’
 ) − 2 =− ( 1−第三級ブトキシ力ルボニ
ル−1−メチルグロボキシイミノ)酢酸(シン異性体)
(2.21)を得る。
q, J=7Hz), 8. a2(IH,s) Production Example 2 2-(5-formamide-1,2,4-theasis/
A 1N aqueous solution of sodium hydroxide (22.4 iJ) of -2-(ni-tert-butoxycarbonyl-syn isomer) (3.5i) was stirred at room temperature for 24 hours. Add ethyl acetate (30 ml) to the solution. The mixture was adjusted to pH 2.0 with 1 q hydrochloric acid, the organic layer was separated, and the aqueous layer was extracted with ethyl acetate. Combine the organic layer and extract and add water
Then, dry with magnesium sulfate and concentrate to obtain
g+f; f<tdiisopropyl ether 2-(5-
Aminoyu, 2,4-thiadiazole)v-3-i/L'
) − 2 = − (1-tert-butoxycarbonyl-1-methylgloboximino)acetic acid (syn isomer)
We obtain (2.21).

融点 工8′7〜189℃(分解9 丁R ( ヌ ジ ョ   )し)  :  3420
+   3320.   3220+   1750。
Melting point: 8'7~189℃ (decomposition: 9°C): 3420
+3320. 3220+1750.

1720、  1635,  1535,  1420
,  1240,  1ユ40。
1720, 1635, 1535, 1420
, 1240, 1 Yu 40.

1020 cm NMIR (DMS○−d6,δ): 0.85(3H
,t,J=7Hz)。
1020 cm NMIR (DMS○-d6, δ): 0.85 (3H
, t, J=7Hz).

■.4o(ah,S)、1.43(9H,S)、1.8
6(2H。
■. 4o(ah,S), 1.43(9H,S), 1.8
6 (2H.

q,J=7Hz)、s、21(2H,  ブロードS)
実7強例] 7−アミノ−3−((4−カルボキシ−3−ヒドロキシ
インチアゾール−5−イル)チオノチルシー3−セフェ
ム−4−カルボン酸( 1.0 ′?)および炭酸水素
ナトリウム( 648 m9 )、 e 50%アセト
ン水溶液(26ml)に溶解し、この溶液に2−(5−
アミン−1. 2. 4−チアジアゾ−ノン−3−イル
)−2−カノンボキシメトキシイミノ酢酸とメタンスル
ホン酸との混合酸無水物(シン異性体)(832mg 
)を攪拌下、10℃で加え、10〜15℃で炭酸水素ナ
トリウム水溶液によりpH 7に調整しながら30分間
投攪拌る。
q, J=7Hz), s, 21 (2H, broad S)
Example 7] 7-amino-3-((4-carboxy-3-hydroxyinthiazol-5-yl)thionothyl-3-cephem-4-carboxylic acid (1.0'?) and sodium hydrogen carbonate (648 m9 ), e Dissolve in 50% acetone aqueous solution (26 ml), and add 2-(5-
Amine-1. 2. Mixed acid anhydride (syn isomer) of 4-thiadiazonon-3-yl)-2-canonboxymethoxyiminoacetic acid and methanesulfonic acid (832 mg
) was added at 10°C with stirring, and stirred for 30 minutes while adjusting the pH to 7 with an aqueous sodium bicarbonate solution at 10-15°C.

反応混合物に酢酸エチル(2oml)を加え、混合物を
6N塩酸でpH 1.5に調整する。不溶物を戸去後、
有機層を分取して蒸発乾固する。残渣を7セトニトリル
中で粉砕して粉末( 650 mg ) 2得る。
Ethyl acetate (2 oml) is added to the reaction mixture and the mixture is adjusted to pH 1.5 with 6N hydrochloric acid. After removing the insoluble matter,
The organic layer is separated and evaporated to dryness. The residue is triturated in 7setonitrile to obtain a powder (650 mg).

粉末をメタノール(20m.)に溶解し、これに酢酸ナ
トリウム(82m9)のメタノール(2ml)溶液を加
える。生成する沈殿を戸去し、r液を濃縮して5mlと
する。沈殿を戸数し、エタノールで洗浄後乾燥して、7
−(2−(5−アミノ−1, 2. 4−チアシアシー
)v−3−イル)−2−カルボキシメトキシイミノアセ
トアミド)−3−((4−カルボキシ−3−ヒドロキシ
イソチアゾール−テア)チオメチル〕−3−セフェム−
4−カルボン酸ナトリウム(シン異性体) ( 23o
m9)を得る。
The powder is dissolved in methanol (20 ml) and to this is added a solution of sodium acetate (82 ml) in methanol (2 ml). The formed precipitate is removed, and the r solution is concentrated to 5 ml. Separate the precipitate, wash with ethanol and dry,
-(2-(5-amino-1, 2.4-thiasiacy)v-3-yl)-2-carboxymethoxyiminoacetamide)-3-((4-carboxy-3-hydroxyisothiazole-thea)thiomethyl] -3-Cephem-
Sodium 4-carboxylate (syn isomer) (23o
m9) is obtained.

融点 205〜210℃(分解〕 工R(ヌジョー/V)  :  3300,  176
0,  1680,  1600。
Melting point 205-210℃ (decomposition) Engineering R (Nugeot/V): 3300, 176
0, 1680, 1600.

1520、  1240, 1050.  1020 
cm”NMR ( D,、0 、δ):  3.53 
および3.7 7 ( 2H, ABcl 。
1520, 1240, 1050. 1020
cm”NMR (D,,0,δ): 3.53
and 3.77 (2H, ABcl.

J=1 8Hz ) 、 4.0 2 および4、43
.(2H,ABq。
J=18Hz), 4.02 and 4,43
.. (2H, ABq.

、J’=ユa−Hz)、4.’78 (2H,S )、
5.23 ( IH,cl。
, J'=Ya-Hz), 4. '78 (2H,S),
5.23 (IH, cl.

J=4Hz)、5.90( 工H,d,J=4Hz)実
施例2 実、流体1と同様にして、7−アミノ−3−〔(4−カ
ルボキシ−3−ヒドロキシインチアゾール−5−イア1
z )チオメチル〕−3−セフェム−4−カルボン酸を
、2−(5−アミノ−1, 2. 4−テアシアシー/
L’−3−イ/v)−2−エトキシイミノアセチルクロ
リド・塩酸塩(シン異性体つと反応させて下記化合物を
得る。
Example 2 In fact, in the same manner as fluid 1, 7-amino-3-[(4-carboxy-3-hydroxythiazole-5- ia 1
z) Thiomethyl]-3-cephem-4-carboxylic acid, 2-(5-amino-1, 2.4-theasiacy/
L'-3-i/v)-2-ethoxyiminoacetyl chloride hydrochloride (reacted with the syn isomer to obtain the following compound.

7−(z−(5−アミノ−1, 2. 4−チアジアゾ
ール−3−イル)−2−エトキシイミノアセトアミド)
−3−1:(4−カルボキシ−3−ヒドロギシイソテア
ゾール−5−イル〕チオノチル〕−3−セフェム−4−
カルボン酸(シンJ.性体)。
7-(z-(5-amino-1,2.4-thiadiazol-3-yl)-2-ethoxyiminoacetamide)
-3-1: (4-carboxy-3-hydroxyisotheazol-5-yl]thionotyl]-3-cephem-4-
Carboxylic acid (Syn J. substance).

融点 180〜185℃(分解) 工R  ( ヌジョ−/V)  :  3400,  
 3250,   3200,   エフ’70。
Melting point 180-185℃ (decomposition) Engineering R (nujo-/V): 3400,
3250, 3200, F'70.

1’700,  1670,  1620.  154
0 (Hn 1NMR (D20 +NaHCO3,δ
): 5.88(工H,d,J=4Hz)。
1'700, 1670, 1620. 154
0 (Hn 1NMR (D20 +NaHCO3, δ
): 5.88 (H, d, J = 4Hz).

5、25(IH,d,J=4Hz)、4.40(2H,
(1,J=7Hz)、4.36 および3.93(2H
,ABq,J=14Hz)。
5, 25 (IH, d, J = 4Hz), 4.40 (2H,
(1, J=7Hz), 4.36 and 3.93 (2H
, ABq, J=14Hz).

3、80および3.53 ( 2H, ABO.、 J
−、、l 8Hz )、 1.3 7(3H,t+ J
=7Hz.) 実施例3 実施例1と同様にして、7−アミノ−3−〔(4−カル
ボキシ−3−ヒドロキシインチアゾール−5−イル〕チ
オメチル〕−3−セフェム−4−カルレボン酸乙 2−
(s−アミン−122,4−テアシアシー/V−3〜イ
ル)−2−シクロベンチルオキシイミノアセテルクロリ
ド・塩酸塩(シン異性体〕と反応させて下記化合物を得
る。
3, 80 and 3.53 (2H, ABO., J
-,,l 8Hz), 1.3 7(3H,t+J
=7Hz. ) Example 3 In the same manner as in Example 1, 7-amino-3-[(4-carboxy-3-hydroxyinthiazol-5-yl]thiomethyl]-3-cephem-4-carleboxylic acid 2-
The following compound is obtained by reacting with (s-amine-122,4-theasiacy/V-3-yl)-2-cyclobentyloxyiminoacetel chloride hydrochloride (syn isomer).

7−(z−(5〜アミン−1、2、4−チアジアゾール
−3−イル〕ー2ーシクロペンチルオキシイミノアセト
アミド)−3−((4−カルボキシ−3−ヒドロキシイ
ソチアゾール−5−イル)チオメチル〕−3−セフェム
−4−カルボン酸(シン異性体)。
7-(z-(5-amine-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-cyclopentyloxyiminoacetamide)-3-((4-carboxy-3-hydroxyisothiazol-5-yl)thiomethyl ]-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer).

融点 182〜187℃(分解) 工R(ヌジョール) : 3300. 3200. 1
7’70.  noo。
Melting point 182-187℃ (decomposition) Engineering R (Nujol): 3300. 3200. 1
7'70. Nooo.

1680、  ユ6ユ0. ユ520. 1400. 
1240゜1000  cm NMR(DMS、0−cl6.  δ): 9.4’?
(LH,cl、J=sHz)。
1680, Yu 6 Yu 0. Yu520. 1400.
1240°1000 cm NMR (DMS, 0-cl6. δ): 9.4'?
(LH, cl, J=sHz).

8.10 (2I(、ブロー1’ S)、5.80(L
H,dd。
8.10 (2I (, blow 1' S), 5.80 (L
H, dd.

J=8Hz、 4f(Z ) 、 5.1’? (工H
,(1,J=4Hz ) 。
J=8Hz, 4f(Z), 5.1'? (Engineering H
, (1, J=4Hz).

4.8−4.6 (LH) 4.27 および4、O’
7 (2H,ABa−。
4.8-4.6 (LH) 4.27 and 4, O'
7 (2H, ABa-.

J=14上(Z)、 3.6’?(2H,7−1111
1−1’ S)、 2.0−1.3(8H) 実施例4 実施例1と同様にして下記化合物を得る。
J=14 top (Z), 3.6'? (2H, 7-1111
1-1'S), 2.0-1.3 (8H) Example 4 The following compound was obtained in the same manner as in Example 1.

7−(z−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イ ル)−2−(ユ − カルボキシ−1−メチ
ルプロポキシイミノ)アセトアミド〕−3−((4−カ
ルボキシシー3−ヒドロキシインチアゾール−5−イル
)チオメチル〕−3−セフェム−4−カルボ?酸(シン
A性体)。
7-(z-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(u-carboxy-1-methylpropoxyimino)acetamide]-3-((4-carboxy-3- Hydroxythiazol-5-yl)thiomethyl]-3-cephem-4-carboxylic acid (syn-A form).

融点 20′7〜2工O℃(分解〕 工R(ヌジョール)  :  3300.  3200
.  工’i”70.   l’i’30−16’70
.  工620. 1520. 1240..116C
1,1140゜1 1000  鑵 実施例5 五塩化燐(1,33? )の塩化メチレン(21d)溶
液に2−(5−アミノーユ、2,4−チアジアゾール−
3−イル)−2−(1−第三級ブトキシカルボニルーエ
ーメチルプロポキシイミノ)!酸(シン異性体)(2,
lof?)を攪拌下、−15℃で加え、−20〜−12
°C″′c40分間攪拌する。反応混合物を7−アミノ
−3−((4−カルボキシ−3−ヒト′ロギシインチア
ゾール−5−イル)チオメチル]−3−セフェム−4−
カルホン酸(2,61F )およびトリノチルシリルア
セトアミト頁13.59)の塩化メチレン(26ml)
溶液に攪拌下−20℃で加え、−20〜−10℃で40
分間攪拌する。反応混合物全炭酸水素ナトリウム(3,
87)の水(80yd)溶液中に注ぎ、水層全分取して
酢酸エチルで洗浄する。
Melting point 20'7~2°C (decomposition) R (nujol): 3300. 3200
..工'i"70. l'i'30-16'70
.. Engineering 620. 1520. 1240. .. 116C
1,1140゜1 1000 Example 5 2-(5-aminoyl, 2,4-thiadiazole-
3-yl)-2-(1-tert-butoxycarbonyl-methylpropoxyimino)! Acid (syn isomer) (2,
lof? ) was added at -15°C with stirring, and -20 to -12
Stir for 40 min at °C'''C. The reaction mixture is
methylene chloride (26 ml) of carbonic acid (2,61F) and trinotylsilylacetamite (page 13.59)
Add to the solution at -20°C with stirring, and add to the solution at -20 to -10°C for 40 min.
Stir for a minute. Reaction mixture total sodium bicarbonate (3,
Pour into a solution of 87) in water (80 yd), separate the entire aqueous layer, and wash with ethyl acetate.

水溶液に酢酸エテ/I/を加え、混合物i6N塩酸でp
EI 1.5に調整する。有機層を分取し、さらに水層
から酢酸エチルで抽出する。有機層と抽出液とを合わせ
、水洗して硫酸マグネシウムで乾燥し、ノコノー 示尋量になるまで濃縮する。生成する沈殿を渥取、乾燥
して、7−(2−(5−アミン−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(1−第三級グトキシカルボ
ニ/L/−1−メチルプロポキシイミノ)アセトアミド
)−3−(4−カルホキシー3−ヒドロキシイソテアシ
ー1V−5−イ)V )ナオメチル”)−s−センエム
−4−カルボン酸(シン異1り三体)(1,9’7グ)
を得る。
Add ethyl acetate/I/ to the aqueous solution and pipize the mixture i with 6N hydrochloric acid.
Adjust to EI 1.5. The organic layer is separated, and the aqueous layer is further extracted with ethyl acetate. The organic layer and extract are combined, washed with water, dried over magnesium sulfate, and concentrated to a specific weight. The resulting precipitate was collected and dried to give 7-(2-(5-amine-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(1-tertiary gutoxycarbony/L/-1-methyl). propoxyimino)acetamide)-3-(4-carboxy-3-hydroxyisotheacy1V-5-i)V)naomethyl")-s-senem-4-carboxylic acid (synthelic triad) (1,9' 7g)
get.

融点 203〜2工O℃(分解) より (ヌショール):  3300. 3200. 
 l’780. 1’720゜1680、 1615.
 1515.  工250.  L140CmNi註(
DMSO−d6 +D20.δ’): 0.88(3H
,t、J=’7H’Z)、1.40(12H,S)、1
.95(2H,q、J−、,7Hz)、3.50 およ
び3.8’7 (2I(、ABq、 J=18E(Z)
、 3.9−4.5 (2E(、m)、 5.18 (
IH。
Melting point from 203 to 20°C (decomposition) (Nushor): 3300. 3200.
l'780. 1'720°1680, 1615.
1515. Engineering 250. L140CmNi Note (
DMSO-d6 +D20. δ'): 0.88 (3H
, t, J='7H'Z), 1.40(12H,S), 1
.. 95(2H,q,J-,,7Hz), 3.50 and 3.8'7 (2I(,ABq, J=18E(Z)
, 3.9-4.5 (2E(,m), 5.18 (
IH.

σ、 J=5Hz ) 、 5.85 (LH,d、 
J=5Hz )実施例6 ’7−(2−(5−アミノ〜l、 2.4−テアシアシ
ー/l/−3−イル)−2−(1−第三級プトキシカル
ボニノv−1−メチルプロポキシイミノ)アセトアミド
)−3−C(4−カルボキシ−3−ヒドロキシインチア
ゾール−5−イルつチオメチル〕−3−セフェム−4−
カルボン酸(シン異性体)(1,90g〕およびアニソ
ール(2d)のトリフルオロ酢酸(10M)中温合物を
水浴中冷却下に1時間攪拌する。反応混合物を冷シイソ
プロピルエーテ)v(6oml)中に注ぎ、生成する沈
殿を泥取する。
σ, J=5Hz), 5.85 (LH,d,
J=5Hz) Example 6 '7-(2-(5-amino-l, 2.4-theacyacy/l/-3-yl)-2-(1-tertiary poxycarbonino v-1- methylpropoxyimino)acetamido)-3-C(4-carboxy-3-hydroxyinthiazol-5-ylthiomethyl]-3-cephem-4-
A warm mixture of carboxylic acid (syn isomer) (1,90 g) and anisole (2d) in trifluoroacetic acid (10 M) is stirred under cooling in a water bath for 1 hour. The reaction mixture is diluted with cold diisopropyl ether (6 oml). Pour into the tank and remove the precipitate that forms.

沈殿を炭酸水素すI−リウム(892m9)の水(4o
ml〕溶液に溶解し、酢酸エチルで洗浄してこれに酢酸
エチル(25mg)とテトラヒドロフラン(25mg)
との混合物を加える。混合物全6N塩酸でpH4,5に
調整し、水層を分取する。水層を6N塩酸でpH3に調
整して酢酸エチルとテトラヒドロフランとの混合溶媒(
1:l)で抽出する。抽出液を食塩水で洸渉し、硫酸マ
グネシウムで乾燥して小容量になるまで濃縮する。生成
する沈殿をp取し、ジエチルエーテル 5−アミノ−1, 2. 4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2−(1−カルボキシ−1−メチルプロポキシイ
ミノ〕アセトアミド)−3−1c(4−カルホギシー3
−ヒドロキシイソテアシー/l/=5−イル〕チオメチ
/V ) −3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性
体)(1,031)を得る。
The precipitate was dissolved in bicarbonate of I-lium (892 m9) of water (4 o
ml] solution, washed with ethyl acetate, and added ethyl acetate (25 mg) and tetrahydrofuran (25 mg) to this solution.
Add the mixture. The pH of the mixture was adjusted to 4.5 with 6N hydrochloric acid, and the aqueous layer was separated. The aqueous layer was adjusted to pH 3 with 6N hydrochloric acid, and a mixed solvent of ethyl acetate and tetrahydrofuran (
Extract with 1:l). The extract is washed with brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated to a small volume. The resulting precipitate was collected and diluted with diethyl ether 5-amino-1,2. 4-thiadiazol-3-yl)-2-(1-carboxy-1-methylpropoxyimino]acetamide)-3-1c(4-carphogycin
-Hydroxyisotheacy/l/=5-yl]thiomethy/V) -3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (1,031) is obtained.

融点 20’i’〜2JO℃(分解〕 工R(ヌショール)  :  3300. 3200.
  l’70.  ニア30−1+570. 1620
. 1520. 1240. 1160゜1140、 
1000  cyn NMR(D20 +NaHC○3.δ): 0.92(
3H,t、J=7Hz)。
Melting point 20'i'~2JO℃ (decomposition) Engineering R (Nushor): 3300. 3200.
l'70. Near 30-1+570. 1620
.. 1520. 1240. 1160°1140,
1000 cyn NMR (D20+NaHC○3.δ): 0.92(
3H, t, J=7Hz).

1.53(3H,S)、1.95(2H,C1,J二叫
陀)。
1.53 (3H, S), 1.95 (2H, C1, J two shouts).

3.45および3.90 (2H,、A−E(1、J=
18Hz ) 。
3.45 and 3.90 (2H,, A-E(1, J=
18Hz).

3.90および 4.40(2王(、ABq、J=14
E(Z)。
3.90 and 4.40 (2 kings (, ABq, J=14
E(Z).

5.24(IH,Ij、 J=5Hz)、 5.8’?
 (IH,d、 J=5Hz) 実施例7 実施例6と同様にして下記化合物を得る。
5.24 (IH, Ij, J=5Hz), 5.8'?
(IH, d, J=5Hz) Example 7 The following compound was obtained in the same manner as in Example 6.

’7−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イルクー2−カルボキシメトキシイミノアセト
アミド、l]−34(4−カルボキシ−3−ヒドロキシ
イソチアゾール−5−イル)チオメチノv〕−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ナトリウム(シン異性体)。
'7-(2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-ylk-2-carboxymethoxyiminoacetamide, l]-34(4-carboxy-3-hydroxyisothiazol-5-yl)thiomethino v ]-3-cephem-4-carboxylic acid sodium (syn isomer).

融点 205〜210 C(分解)Melting point: 205-210C (decomposition)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)一般式: 〔式中、R1はアミノ基または保護されたアミン基、R
2は低級アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基、
保護されたカルボキシ(低級)アルキ/L′基またはシ
クロアルキル基、 R3はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基をそ
れぞれ意味する〕で示される新規セフェム化合物および
その塩類。 2)R1がアミノ基またはアシルアミノ基であり、R2
が低級アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基、エ
ステル化されたカルボキシ(低級)アルキル基またはシ
クロアルキル基でアリ、R3カカルボキシ基またはエス
テル化されたカルボキシ基である特許請求の範囲第1項
記載の化合物。 3)特許請求の範囲第2項記載の化合物のシン異性体。 4)R1がアミン基であり、R2が低級アルキル基、カ
ルボキシ(低級〕アルギル基、低級アルコキシカルボニ
/L/(低級)アルキル基またはシクロアルキルであり
、R3がカルボキシ基である特許請求の範囲第3項記載
の化合物。 5)  ’7 − C 2−( 5−アミノ−1, 2
. 4−チアジアゾール−3−イル)−2−カルボギシ
メトキシイミノアセトアミド)−3−((4−カルボキ
シ−3−ヒドロキシインテアシー)v−5−イ/I/)
チオノf)し〕−〕3ーセフェムー4ーカルボン酸ナト
リウムシン異性体)、 7−C2−(5−アミノ−1, 2. 4−チアジアゾ
− )V − 3−イ)v ) − 2−エトキシイミ
ノアセトアミド)−3−C(4−カルボキシ−3−ヒド
ロキジインチアゾ−/l/−5−イ/1./)チオメチ
ルクー3−セフェム−4−カルボンe(シン異性体)、
’2−(2−(5−アミノーユ、2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2−シクロペンチルオキシイミノアセ
トアミド〕−3〜〔(4−カルボキシ−3−ヒドロキシ
イソチアゾール−5−イル〕チオメチ)v ) −3−
セフェム−4−カルボン酸(シン異性体〕、 ’i’−(2−(!15−アミノー1.2.4−チアジ
アゾール−3−イル)−2−(1−第三級グトギシ力ル
ポニル−l−メテルプロボキシイミ7つアセトアミド)
−3−(a、−カルボキシ−3〜ヒドロキシインチアゾ
ー)V−5−イ)v )チオメチル〕−3−セフェム−
4−カルボン酸(シン11 性体) 、および 7−(z−(δ−アミン−1,2,4−チアジアゾール
−3−イ ル )−2−(1−カルボキシ−1=メチル
プロポキシイミノ)アセトアミド)−3−〔(4−カル
ボキシ−3−ヒドロキシインチアゾ−/v−5−イル〕
チオメチル〕−3−セフェム−4−カルボン酸(シンM
性体) よシなる群から選ばれた特許請求の範囲第4項記載の化
合物。 6)  (1)一般式: (式中、R3はカルボキシ基または保護されたカルボキ
シ基全意味するうで示される化合物またはそのアミン基
における反応性誘導体重たばその塩類を、一般式: 〔式中、R1はアミノ基または保護されたアミン基、R
2は低級アルキル基、カルボキシ(低級〕アルキル基、
保護されたカルボキシ(低級)アルキル基またはシクロ
アルキル 示される化合物またはそのカルボキシ基における反応性
誘導体またはその塩類と反応させて、一般式: (式中、R1、R2およびR3はそれぞれ前と同じ篤味
)で示される化合物またはその塩類を得るか、または (2〕一般式: 〔式中、R1およびR3ばそれぞれ前と同じ意味であり
、 R−は保護されたカルボキシ(低級)アルキル基を意味
する〕で示される化合物またはその塩類を、咄7におけ
るカルボキシ保護基の脱離反応に付して、一般式: 〔式中、R1およびR3はそれぞれ前と同じ急、味であ
り、 R′bはカルボキシ基ィ で示される化合物またはその塩類を得ることを特徴とす
る一般式: (式中、R1、R2およびR3ばそれぞれ前と同じ意味
)で示される化合物またはその塩類の製造法。
[Claims] 1) General formula: [In the formula, R1 is an amino group or a protected amine group, R
2 is a lower alkyl group, a carboxy (lower) alkyl group,
A novel cephem compound represented by a protected carboxy (lower) alkyl/L' group or a cycloalkyl group, R3 means a carboxy group or a protected carboxy group, respectively, and salts thereof. 2) R1 is an amino group or an acylamino group, and R2
is a lower alkyl group, a carboxy (lower) alkyl group, an esterified carboxy (lower) alkyl group, or a cycloalkyl group, and is an R3 carboxy group or an esterified carboxy group. compound. 3) Syn isomer of the compound according to claim 2. 4) Claims in which R1 is an amine group, R2 is a lower alkyl group, carboxy (lower) argyl group, lower alkoxycarboni/L/(lower) alkyl group, or cycloalkyl group, and R3 is a carboxy group Compound according to item 3. 5) '7-C2-(5-amino-1,2
.. 4-thiadiazol-3-yl)-2-carbogysimethoxyiminoacetamide)-3-((4-carboxy-3-hydroxyinteacy)v-5-i/I/)
thionof) -] 3-cephemu 4-carboxylic acid sodium isomer), 7-C2-(5-amino-1,2.4-thiadiazole)V-3-i)v)-2-ethoxyiminoacetamide )-3-C(4-carboxy-3-hydroxydithiazoa-/l/-5-i/1./)thiomethylcou-3-cephem-4-carvone e (syn isomer),
'2-(2-(5-aminoyl, 2,4-thiadiazol-3-yl)-2-cyclopentyloxyiminoacetamide]-3~[(4-carboxy-3-hydroxyisothiazol-5-yl]thiomethy) v) -3-
Cephem-4-carboxylic acid (syn isomer), 'i'-(2-(!15-amino-1.2.4-thiadiazol-3-yl)-2-(1-tertiary gluponyl-l) - 7 metherproboximine acetamide)
-3-(a,-carboxy-3-hydroxyinthiazo)V-5-i)v)thiomethyl]-3-cephem-
4-carboxylic acid (syn-11-mer), and 7-(z-(δ-amine-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(1-carboxy-1=methylpropoxyimino)acetamide )-3-[(4-carboxy-3-hydroxyinthiazo-/v-5-yl]
[Thiomethyl]-3-cephem-4-carboxylic acid (Syn M
4. The compound according to claim 4, which is selected from the group consisting of: 6) (1) General formula: (wherein, R3 means all carboxy groups or protected carboxy groups) or the reactive derivative heavy tobacco salts in its amine group, the general formula: [Formula where R1 is an amino group or a protected amine group; R1 is an amino group or a protected amine group;
2 is a lower alkyl group, a carboxy (lower) alkyl group,
By reacting with a protected carboxy(lower)alkyl group or cycloalkyl compound or a reactive derivative at its carboxy group or a salt thereof, the compound has the general formula: ) or a salt thereof, or (2) general formula: [wherein R1 and R3 have the same meanings as above, and R- means a protected carboxy(lower) alkyl group ] or a salt thereof is subjected to the elimination reaction of the carboxy protecting group in step 7 to form the general formula: [wherein R1 and R3 are the same radicals as before, and R'b is A process for producing a compound represented by the general formula: (wherein R1, R2 and R3 each have the same meanings as before) or a salt thereof, which is characterized by obtaining a compound represented by a carboxy group or a salt thereof.
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