JPS59158523A - プラズマ励起装置 - Google Patents
プラズマ励起装置Info
- Publication number
- JPS59158523A JPS59158523A JP3174683A JP3174683A JPS59158523A JP S59158523 A JPS59158523 A JP S59158523A JP 3174683 A JP3174683 A JP 3174683A JP 3174683 A JP3174683 A JP 3174683A JP S59158523 A JPS59158523 A JP S59158523A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- discharge
- electrode
- discharge chamber
- generated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32357—Generation remote from the workpiece, e.g. down-stream
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプラスマ全用いたエツチング装置やＣＶＤ装置
等のプラズマ励起装置に関するものである。
等のプラズマ励起装置に関するものである。
従来のプラズマ励起装置は第１図に示すように、マダネ
トロン／で発生ざぜだマイクロ波をアンチナノを介して
導波１１−３に導入し、導波管３内全伝播させて石英管
グで被われた真空容器Ｘ内の放電室乙に吸収きせるよう
になっている。
トロン／で発生ざぜだマイクロ波をアンチナノを介して
導波１１−３に導入し、導波管３内全伝播させて石英管
グで被われた真空容器Ｘ内の放電室乙に吸収きせるよう
になっている。
放電室乙に吸収されたマイクロ波はコイルタの磁界によ
る相互作用によってサイクロトロン共鳴を生じ、放電室
乙にプラズマを発生させるが、放′岨室乙内にはガス導
入管７を介して所定のエッチ／ダ用ガス或いはＣｖＤ用
ガス等の放′亀ガスが導入されているので、放電室６内
に設置された試料台ｇ上の試料りは、エツチング作用或
はＣＶＤ作用を受けることになる。但し放電室６内は真
空容器Ｘに接続された図示せざる真空ホンダにより真空
に保持されるようになっている０ ところが上記従来のプラズマ励起装置においては、マイ
クロ波と磁界との相互作用によるサイクロトロン共鳴の
みによってプラズマを発生させるようにし２ているだけ
であるため、放電室乙にマイクロ波が吸収訟れても、す
ぐにはプラズマが発生しないという欠点があった。
る相互作用によってサイクロトロン共鳴を生じ、放電室
乙にプラズマを発生させるが、放′岨室乙内にはガス導
入管７を介して所定のエッチ／ダ用ガス或いはＣｖＤ用
ガス等の放′亀ガスが導入されているので、放電室６内
に設置された試料台ｇ上の試料りは、エツチング作用或
はＣＶＤ作用を受けることになる。但し放電室６内は真
空容器Ｘに接続された図示せざる真空ホンダにより真空
に保持されるようになっている０ ところが上記従来のプラズマ励起装置においては、マイ
クロ波と磁界との相互作用によるサイクロトロン共鳴の
みによってプラズマを発生させるようにし２ているだけ
であるため、放電室乙にマイクロ波が吸収訟れても、す
ぐにはプラズマが発生しないという欠点があった。
第一図は上記従来のプラズマ励起装置におけるマイクロ
波吸収後放亀開始迄の時間Ｔと真空度■との関係を示す
特性図であるが１図中に示す概略値は装置のマツチング
条件等により多少変動することは言う−までもない。
波吸収後放亀開始迄の時間Ｔと真空度■との関係を示す
特性図であるが１図中に示す概略値は装置のマツチング
条件等により多少変動することは言う−までもない。
本発明は上記従来の欠点に鑑みて提案されたもので、試
料台が設置される放′亀室を形成する真空容器に、゛そ
の放′慮室内に放電ガスを導入する手段とマイクロ波を
導入する手段と磁界を発生きせる手段を設けると共に、
上記放ぼ室内に高亀圧乏印７Ｊ［Ｉする′［ｌｊ極を設
けたことを特徴とするプラズマ励起装置を要旨とするも
のである。
料台が設置される放′亀室を形成する真空容器に、゛そ
の放′慮室内に放電ガスを導入する手段とマイクロ波を
導入する手段と磁界を発生きせる手段を設けると共に、
上記放ぼ室内に高亀圧乏印７Ｊ［Ｉする′［ｌｊ極を設
けたことを特徴とするプラズマ励起装置を要旨とするも
のである。
本発明のプラズマ励起装置は上記のように構成されてい
るので、放′亀室にマイクロ波を導入すると同時に放電
室に設けだ′電極に高電圧を印加すると、 ’ＥＩ４極
と真空容器との間で放１シシてプラズマが発生ずるので
、これがトリガーとなって放′亀室内に導入されだ放′
亀ガスを直ちに安定してプラズマ化することができ、操
作も容易でプラズマエツチングやプラズマＣＶＤの処４
！ヲ短縮する上で実用上きわめて便利なプラズマ励起装
置を提供し得るものである。
るので、放′亀室にマイクロ波を導入すると同時に放電
室に設けだ′電極に高電圧を印加すると、 ’ＥＩ４極
と真空容器との間で放１シシてプラズマが発生ずるので
、これがトリガーとなって放′亀室内に導入されだ放′
亀ガスを直ちに安定してプラズマ化することができ、操
作も容易でプラズマエツチングやプラズマＣＶＤの処４
！ヲ短縮する上で実用上きわめて便利なプラズマ励起装
置を提供し得るものである。
以下本発明を図面に示す実施例に基づいて具体的に説明
する。
する。
第３図は本発明の７実施例を示すプラズマ励起装置の原
理図で、図中第１図に示す部材と同一部材には同一符号
が付きれている。
理図で、図中第１図に示す部材と同一部材には同一符号
が付きれている。
本発明のプラズマ励起装置が従来のものと異なるのは、
真空容器Ｘに放電室ｚ内に高電圧を印加する電極〆０を
新たに付設しまた点だけで′あり、他の眉ｊ・成は従来
のものと同じであるため説明を省略する。世し電極１０
は絶縁拐を介し７てＡ空容器Ｘとは電気的に完全に絶縁
されており高′耽匝の外部′電源／／と接にされている
。
真空容器Ｘに放電室ｚ内に高電圧を印加する電極〆０を
新たに付設しまた点だけで′あり、他の眉ｊ・成は従来
のものと同じであるため説明を省略する。世し電極１０
は絶縁拐を介し７てＡ空容器Ｘとは電気的に完全に絶縁
されており高′耽匝の外部′電源／／と接にされている
。
上記構成よりなる本発明のプラズマ励起装置においては
、マクネトロン／で発生させたマイクロ波を放電室６内
に導入すると同時に外部電源／／のスイッチをＯＮにし
て放゛亀室乙に設けた電極１０に置′畦圧を印加すると
、′電極１０と真空容器Ｘとの間で放電してプラズマが
発生する。このプラズマはトリカーの役目を果し、外部
電源／／をＯＦＦにしても放′亀室乙に吸収されたマイ
クロ波はコイル汐の磁界による相互作用によってサイク
ロトロン共鳴により放電が持続され、放′ｔ、ｍｌ内に
導入された放電ガスは直ちに安定してプラズマ化きれる
ことになる。
、マクネトロン／で発生させたマイクロ波を放電室６内
に導入すると同時に外部電源／／のスイッチをＯＮにし
て放゛亀室乙に設けた電極１０に置′畦圧を印加すると
、′電極１０と真空容器Ｘとの間で放電してプラズマが
発生する。このプラズマはトリカーの役目を果し、外部
電源／／をＯＦＦにしても放′亀室乙に吸収されたマイ
クロ波はコイル汐の磁界による相互作用によってサイク
ロトロン共鳴により放電が持続され、放′ｔ、ｍｌ内に
導入された放電ガスは直ちに安定してプラズマ化きれる
ことになる。
第９図は上記構成よりなる本発明のプラズマ励起装置に
おける高′亀圧の印加時間Ｔ′と真空度■との関係を示
す特性図で、第２図に示す特性図と比較して明らかなよ
うに、放電ガスのプラズマ化に要する時間が大幅に改善
されていることが解る。
おける高′亀圧の印加時間Ｔ′と真空度■との関係を示
す特性図で、第２図に示す特性図と比較して明らかなよ
うに、放電ガスのプラズマ化に要する時間が大幅に改善
されていることが解る。
但し、１Ｌ極１０に印加される高′亀圧は直流、交流又
はパルス或はそれらを組合せた正負いずれの電圧でも良
いが、装置に応じて電極１０と真空容器Ｘとの間で放′
也し得る最適の電圧を選定しておくことが望せしい。な
お−゛−電極１０棒状、板状等いずれでも良いが、その
放′屯室乙内への突出長袋は調節し得るようにしておく
ことが望ましい。第５図（・１１口）け′電極１０の位
置関係を示す部分断面図で、（イ）は外部″屯源／／が
０）１のとき、又（ロ）は外部鳴源／／がＯＦＦのとき
の電極１０の位置を各々示す。このように電極１０の突
出長ざを可変にしておけば、外部電源／／をＯＦＦにし
たとき電極１０を真空容器Ｘの側壁まで後退烙せて、電
極１０がマイクロ波と磁界の相反作用によるサイクロト
ロン共鳴によって生じるプラズマ放電によって汚染され
るのを防止することができるのできわめて好都合である
。
はパルス或はそれらを組合せた正負いずれの電圧でも良
いが、装置に応じて電極１０と真空容器Ｘとの間で放′
也し得る最適の電圧を選定しておくことが望せしい。な
お−゛−電極１０棒状、板状等いずれでも良いが、その
放′屯室乙内への突出長袋は調節し得るようにしておく
ことが望ましい。第５図（・１１口）け′電極１０の位
置関係を示す部分断面図で、（イ）は外部″屯源／／が
０）１のとき、又（ロ）は外部鳴源／／がＯＦＦのとき
の電極１０の位置を各々示す。このように電極１０の突
出長ざを可変にしておけば、外部電源／／をＯＦＦにし
たとき電極１０を真空容器Ｘの側壁まで後退烙せて、電
極１０がマイクロ波と磁界の相反作用によるサイクロト
ロン共鳴によって生じるプラズマ放電によって汚染され
るのを防止することができるのできわめて好都合である
。
但し、餉、極１０が貫通される真空容器Ｘの摺勧部／２
は、絶縁性及び気密性が完全に保たれるよう設計的に十
分配慮しておく必要がある。
は、絶縁性及び気密性が完全に保たれるよう設計的に十
分配慮しておく必要がある。
々お、放′帆室乙内に放電ガスを導入する手段やマイク
ロ波を導入する手段、磁界を発生σせる手段等は図示の
美施例に限定されるものではなく、必要に応じて権々設
計変更し得るものである。
ロ波を導入する手段、磁界を発生σせる手段等は図示の
美施例に限定されるものではなく、必要に応じて権々設
計変更し得るものである。
以上具体的に説明したように、本発明のプラズマ励起装
置においては放′醸室内に導入されだ放゛屯カスｔｔｉ
ちに安定してプラズマ化することができ、操作も容易で
既設のものに対しても′電極を何役するだけで安価に実
施することかできる等、多くの利点を有するものである
。
置においては放′醸室内に導入されだ放゛屯カスｔｔｉ
ちに安定してプラズマ化することができ、操作も容易で
既設のものに対しても′電極を何役するだけで安価に実
施することかできる等、多くの利点を有するものである
。
第１図は従来のプラズマ励起装置の原理図で、第２図は
その装置におけるマイクロ波吸収後放′亀開始迄の時間
と真空度との関係を示す特性図、第３図は本発明の／実
施例を示すプラズマ励起装置の原理図で、第９図はその
装置における高電圧の印加時間と真空度との関係を示す
特性図、第５図（１１口）は電極の位置関係を示す部分
断面図である。 尚図中／はマグネ［・ロン、２はアンテナ、３は等波管
、グは石英管１．ダはコイル、乙は放・屯室、７はガス
導入管、どけ試料台、ゾは試料、１０は電極、／／は外
部電源、／）は摺動部、又は真空容器を夫々示す。 特許出願人 島田理化工業株式会社 第 １ 図； 第２図 （真立皮Ｔｏｒｒ） Ｖ 第 ３ 図 ？ 第４図 秒 （真ダ魔Ｔｏｒｒ）Ｖ
その装置におけるマイクロ波吸収後放′亀開始迄の時間
と真空度との関係を示す特性図、第３図は本発明の／実
施例を示すプラズマ励起装置の原理図で、第９図はその
装置における高電圧の印加時間と真空度との関係を示す
特性図、第５図（１１口）は電極の位置関係を示す部分
断面図である。 尚図中／はマグネ［・ロン、２はアンテナ、３は等波管
、グは石英管１．ダはコイル、乙は放・屯室、７はガス
導入管、どけ試料台、ゾは試料、１０は電極、／／は外
部電源、／）は摺動部、又は真空容器を夫々示す。 特許出願人 島田理化工業株式会社 第 １ 図； 第２図 （真立皮Ｔｏｒｒ） Ｖ 第 ３ 図 ？ 第４図 秒 （真ダ魔Ｔｏｒｒ）Ｖ
Claims (1)
- 試料台が設置される放電室を形成する真空容器に、その
放電室内に放′龜ガスを導入する手段とマイクロ波を導
入する手段と磁界を発生させる手段を設けると共に、上
記放電室内に高電圧を印加する電極を設けたことを特徴
とするプラズマ励起装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3174683A JPS59158523A (ja) | 1983-03-01 | 1983-03-01 | プラズマ励起装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3174683A JPS59158523A (ja) | 1983-03-01 | 1983-03-01 | プラズマ励起装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59158523A true JPS59158523A (ja) | 1984-09-08 |
Family
ID=12339585
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3174683A Pending JPS59158523A (ja) | 1983-03-01 | 1983-03-01 | プラズマ励起装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59158523A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63136628A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-08 | Tokuda Seisakusho Ltd | エツチング装置 |
| JPS63137182A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-09 | Tokuda Seisakusho Ltd | グロ−スタ−タ |
-
1983
- 1983-03-01 JP JP3174683A patent/JPS59158523A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63136628A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-08 | Tokuda Seisakusho Ltd | エツチング装置 |
| JPS63137182A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-09 | Tokuda Seisakusho Ltd | グロ−スタ−タ |
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