JPS59157850A - Production of original disk for optical disk - Google Patents

Production of original disk for optical disk

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Publication number
JPS59157850A
JPS59157850A JP3244783A JP3244783A JPS59157850A JP S59157850 A JPS59157850 A JP S59157850A JP 3244783 A JP3244783 A JP 3244783A JP 3244783 A JP3244783 A JP 3244783A JP S59157850 A JPS59157850 A JP S59157850A
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JP
Japan
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energy beam
irradiation
manufacturing
master
energy
Prior art date
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Pending
Application number
JP3244783A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Noburo Yasuda
安田 修朗
Yoshikatsu Takeoka
竹岡 美勝
Norio Ozawa
小沢 則雄
Akio Hori
堀 明男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP3244783A priority Critical patent/JPS59157850A/en
Publication of JPS59157850A publication Critical patent/JPS59157850A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To form a projected part of the uniform height by irradiating a detecting energy beam and an energy beam forming the projected part to a material film on a substrate and controlling the beam so as to obtain the fixed height of the projected part in response to the intensity of beam reflection. CONSTITUTION:A substrate 1 containing a material film 2 is fixed on a turntable 3 and revolved toward an arrow 5. The laser light outputted from a laser oscillator 6 is condensed on the material film 2 via a mirror 7 and a lens 8 which move in a body in the radius direction of the substrate 1. Thus a continuous spiral projected part 25 is formed on the film 2. While the laser light sent from a laser oscillator 10 is irradiated on the part 25 via a half mirror 11 and a lens 12, and the reflected light is reflected by the mirror 11 and made incident to a photodetector 14. The output of the detector 14 is supplied to a control circuit 15, and the forming state of the part 25 is decided from the reflecting intensity. Then the oscillator 6 is controlled to secure a fixed height of the part 25.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、光ディスクを製造するための原盤の製造方
法に係シ、特にレーザービームのようなエネルギービー
ムの照射により凸部を形成する物質j換を有する原盤の
製造方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a method for manufacturing a master disc for manufacturing an optical disc, and in particular to a method for converting a material to form convex portions by irradiation with an energy beam such as a laser beam. The present invention relates to a method of manufacturing a master disc having the following.

〔発明の技術的背景とその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

書込み可能な光ディスク、すなわちレーザービームの照
射により情報信号の誓込みおよび読取シが行なわれるデ
ィスク状の光学的情報記録媒体においては、安定なトラ
ッキングのためと、記録密度(トラック密度)を高める
必−ヅから、媒体の基板(ディスク裁板)上に、記録層
上で光学的に識別可能な連続スパイラル状の凸hGxた
は凹部を形成したものが多く用いられている。
For writable optical discs, that is, disc-shaped optical information recording media in which information signals are inserted and read by laser beam irradiation, it is necessary to increase recording density (track density) for stable tracking. Therefore, media in which continuous spiral convex hGx or concave portions that can be optically discerned on the recording layer are formed on the substrate (disc cutting board) of the medium are often used.

このような連続スパイラル状の凸部または四部が形成さ
れたディスク基板は従来、連続スパイラル状の凸部また
は凹部が形成されたjは盤から電鋳などの方法で凸部ま
たは凹部が転写さ−れたスタンバを製作し、このスタン
パを用いて射出成型、圧縮成県、注型などの方法でディ
スク基板上にその凸部まだは凹部を転写することによっ
て製造されている。
Conventionally, a disk substrate on which continuous spiral-shaped protrusions or recesses are formed is produced by transferring the protrusions or recesses from a disk by a method such as electroforming. This stamper is used to transfer the convex portions and concave portions onto the disk substrate by injection molding, compression molding, casting, or other methods.

一方、凹部または凸部が形成された原盤は、一般的に次
の如き方法で製作される。即ちガラスな゛どの平坦な基
板上にcr膜を蒸着し、その上にスピンナでフォトレジ
ストを塗布する。次にこの基板を回転させながら、1μ
mφ程度に絞ったレーザビームをフォトレジスト上に所
定の送り速度で基板半径方向に移動させつつ照射するこ
とによって、連続スパイラル状に蕗光を行なう。そして
さらに現像、ベーキングを行なって原盤を得る。
On the other hand, a master disc having concave portions or convex portions is generally manufactured by the following method. That is, a Cr film is deposited on a flat substrate such as glass, and a photoresist is applied thereon using a spinner. Next, while rotating this board,
By irradiating the photoresist with a laser beam focused to about mφ while moving the photoresist in the radial direction of the substrate at a predetermined feed rate, a continuous spiral pattern is formed. Then, further development and baking are performed to obtain a master disc.

しかしながら、この原盤の製造方法では基板全面に亘シ
均一な形状の凸部または四部を形成することが困難であ
った。基板上に形成すべき凸部または凹部の形状は、凸
部を例にとると、安定なトラッキングを可能にするため
高さが通常用いられる半導体レーザの波長約800OA
の1/8の100OA程度、幅が1μm稈度であること
が要d青される。また、底板のサイズは2鎌容量の点か
ら300Inφ程度以上のものが必要゛  となる。と
ころがスピンナ塗布法は、通常1〜2μm以上のj膜厚
の塗膜に用いられる技術であシ、この方法で306φと
いうような大面積の基板全面に1oooXの均一な塗膜
を形成することは極めて困碓であって、部分的な剥離は
避けられない。しかも大気中の埃が基板表面にわずかに
付%9 しても、重大な塗布むらの原因となる。また、
このような薄いフォトレジストを全域に亘って一低に現
像することも極めて困帷である。従ってスピンナ塗布に
よるフォトレジスト法で、トラッキングのだめの連続ス
パイラル状の凸部または四部が良好に形成された原察を
製作することは、l!1とんど不可能な目標といえた。
However, with this master manufacturing method, it is difficult to form convex portions or four portions with a uniform shape over the entire surface of the substrate. The shape of the convex part or concave part to be formed on the substrate, taking the convex part as an example, has a height of about 800 OA, which is the wavelength of the semiconductor laser normally used, in order to enable stable tracking.
It is necessary to have a width of about 100 OA, which is 1/8 of the diameter, and a culm of 1 μm. In addition, the size of the bottom plate needs to be about 300 Inφ or more in view of the capacity of 2 sickles. However, the spinner coating method is a technique that is normally used for coating films with a thickness of 1 to 2 μm or more, and it is difficult to form a uniform coating film of 100X on the entire surface of a large-area substrate such as 306φ using this method. It is extremely difficult and partial peeling is unavoidable. Furthermore, even a small amount of dust in the atmosphere on the substrate surface causes serious coating unevenness. Also,
It is also extremely difficult to uniformly develop such thin photoresist over the entire area. Therefore, it is very difficult to fabricate an original structure in which the continuous spiral protrusions or four parts of the tracking stop are well formed using the photoresist method using spinner coating. 1 It was an impossible goal.

発明者らは、このようなフォトレジスト法による原盤製
造方法の欠点を解決するため、基板上にレーザビームの
ようなエネルギービームの照射により工坏ルギーを吸収
し凸部を形I7yする物貿;回をフォトレジストに代え
て形成した原盤素材を提某している。この場合、上記物
質膜はスピンナによシ塗布されるフォトレジストと異な
シ、スパツタリング、蒸着などの膜形成技術によシ形成
可能であるため、不純物の混入や剥離の発生を伴なうこ
となく、比較的均一な膜厚に形成できる。従って、この
ような原盤素材を。
In order to solve the drawbacks of the master disk manufacturing method using the photoresist method, the inventors proposed a method of absorbing engineering energy and forming convex portions by irradiating the substrate with an energy beam such as a laser beam; We are proposing a master material made by replacing the photoresist with a photoresist. In this case, the material film can be formed using a film forming technique such as photoresist coating, sputtering, or vapor deposition, which is different from that of photoresist applied by a spinner, so there is no contamination with impurities or peeling. , it is possible to form a film with a relatively uniform thickness. Therefore, such master material.

用いればレーザビームの照射により均一な形状の凸部を
形成することが容易である。
If used, it is easy to form convex portions of uniform shape by laser beam irradiation.

ところで、この原盤素材は上記物質膜の膜厚が均一化さ
れるとはいっても、例えば基板中央部と周辺部とでは若
干膜厚が異なる。この様な若干の膜厚の不均一があると
、レーザビームの照射によって形成される凸部の高さも
不均一となることが判明した。
By the way, although the film thickness of the material film in this master material is made uniform, for example, the film thickness is slightly different between the central part and the peripheral part of the substrate. It has been found that when there is such slight non-uniformity in the film thickness, the height of the convex portions formed by laser beam irradiation also becomes non-uniform.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明の目的は、エネルギービームの照射によシ均一
な高さの凸部を形成できる光デイスク用原盤の製造方法
を提供することである。
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an optical disc master in which convex portions of uniform height can be formed by irradiation with an energy beam.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

この発明は、基板上に形成された千ネルギービームの照
射により凸部を形成する物質膜に、凸部を形成するため
の第1のエネルギービームを照射するとともに、この凸
部に第2のエネルギービームを照射してその反射強度に
より凸部形成状態を判定し、その判定結果を第1のエネ
ルギービームにフィードバックして、凸部の篩さが一定
となるようにそのエネルギーを制御するようにしたこと
を特徴としている。
In this invention, a first energy beam for forming a convex portion is irradiated onto a material film formed on a substrate to form a convex portion by irradiation with a thousand energy beam, and a second energy beam is applied to the convex portion. The beam is irradiated and the state of convex formation is determined based on the reflected intensity, and the determination result is fed back to the first energy beam to control the energy so that the sieve of the convex portion is constant. It is characterized by

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

この発明によれば、エネルギービームの照射により凸部
を形成する物質膜の膜厚に若干の不均一があっても、凸
部の高さを一定に保つことができる。
According to this invention, even if the thickness of the material film forming the convex portion is slightly uneven due to energy beam irradiation, the height of the convex portion can be kept constant.

ま°た、この発明における凸部高さ一定化のたメツフィ
ードバック制御は、レーザピームラ用いた場合、大気中
の明るい場所のような、特別の制限のない場所で行なえ
ることも大きなメリットである。例えば従来のフォトレ
ジスト法による原盤製造プロセスでは、レジスト形成後
供厚を測定し、膜厚不適ならすべて剥離してレジスト塗
布からやり直すことになシ、紫外線をしや断した場所で
、の有機溶剤処理、洗浄等のウェットプロセスの連続で
ある。この発明では、これら煩雑なプロセスを一切必要
としない。
Another great advantage is that the feedback control for constant height of the convex portion in the present invention can be performed in places without special restrictions, such as bright places in the atmosphere, when laser beam mura is used. For example, in the conventional master manufacturing process using the photoresist method, it is necessary to measure the thickness of the resist after it is formed, and if the film thickness is inappropriate, it must be peeled off and the resist is coated again. It is a series of wet processes such as treatment and cleaning. The present invention does not require any of these complicated processes.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

第1図はこの発明を適用した原盤製造装置の構成図であ
る。図において、1は原盤の基板であり、例えば300
朋φのガラス板が用いられる。この基板1は片面が平滑
に仕上げられたものであシ、その平滑面上にエネルギー
ビーム、例えばレーザビームの照射により凸部を形成す
る物質膜2が形成されている。
FIG. 1 is a block diagram of a master manufacturing apparatus to which the present invention is applied. In the figure, 1 is the master board, for example 300
A glass plate of φ is used. This substrate 1 has one side finished smooth, and a material film 2 forming convex portions is formed on the smooth surface by irradiation with an energy beam, for example, a laser beam.

物質?l1J2は例えば第2図(a)に示すように基板
1との密着性がよい金属薄膜又は酸化物薄膜の倒れかか
らなる着層としての第11蓄21と、工□ネルギー吸収
性とガス遊離性の良好な金属薄膜からなる第3razs
および樹脂に対する離型性のよい金属薄膜からなる第4
層24を順に形成した41台構造のものである。
material? 11J2 is, for example, as shown in FIG. 2(a), the 11th accumulation 21 as an adhesion layer consisting of a fallen metal thin film or oxide thin film with good adhesion to the substrate 1, and the energy absorption and gas release properties. The third razs is made of a thin metal film with good properties.
and a fourth layer made of a metal thin film with good mold releasability from resin.
It has a 41-unit structure in which layers 24 are formed in sequence.

第1 層2 Jの金属薄膜としてはT、i 、Cr e
 k、l 。
The metal thin film of the first layer 2J is T, i, Cre
k, l.

Mf r W + ”Or COr Ni r Fe 
I ’ra f v 、’z r + ” fの少なく
とも一種を含む膜が適当であり、これはスパッタリング
、真空蒸着など通常の薄膜形成法で基板1に被着させる
ことができる。酸化物薄膜としては例えばSiO2,T
eO2等を用いることができる。エネルギー吸収性と同
時にガス遊離性を有する第21! 22の薄膜は、例え
ばTe。
Mfr W + ”Or COr Ni r Fe
A film containing at least one of I'ra f v and 'z r + "f is suitable, and can be deposited on the substrate 1 by a conventional thin film forming method such as sputtering or vacuum evaporation. As an oxide thin film, For example, SiO2,T
eO2 etc. can be used. The 21st product that has energy absorption and gas release properties at the same time! The thin film 22 is made of, for example, Te.

B1  のような600℃以下に融点をもつ低融点金属
のターゲットをCH4+ NHs r H2r Coな
どのガスのプラズマでスパッタリングすることにより被
着させて形成する。−例としてTeターゲットをCH,
ガスプラズマでスパッタリンクシて形成した厚さ400
0AのTe50 C110H20なる成分比の薄膜は、
8300Xの波長に対して4゜1/2の吸収率をもち、
空気中150℃以上に卵熱すれば30チの重魔減を伴な
うガス放出を行なう。
A target of a low melting point metal such as B1 having a melting point below 600° C. is deposited by sputtering with plasma of a gas such as CH4+ NHs r H2r Co. - For example, Te target is CH,
Thickness 400mm formed by sputtering with gas plasma
A thin film with a component ratio of 0A Te50 C110H20 is
It has an absorption rate of 4゜1/2 for the wavelength of 8300X,
If an egg is heated to 150 degrees Celsius or higher in the air, it will release gas with a heavy weight loss of 30 degrees.

第31帝23の金属薄膜には、Cr 、 T 1+ M
’□ t l’f’ +Fe、Co、Niの少なくとも
一種を用いることができる。また第4 !@ 、? 4
の金属薄膜には、A、u。
The metal thin film of 31st Emperor 23 contains Cr, T 1+ M
'□ t l'f' +At least one of Fe, Co, and Ni can be used. 4th again! @,? 4
The metal thin film contains A, u.

Af r Pd HN 1の少なくとも一種を用いるこ
とができる。
At least one type of Af r Pd HN 1 can be used.

第1121を形成する目的は、光デイスク用基板成形時
及び成形後にこの基板を原盤(スタンパ)から分離する
際、第2層22が基板1から剥離して原盤を破壊するこ
とを防止するためである。第1層2Iに望ましい金属薄
膜は、ガラスなど基板Iへの密着性がよいことであり、
Tl 、Cr tAI!+ ”t r W rMo *
 cOr Ni r Fer Ta rV、 Zr、 
Hfが適している。
The purpose of forming No. 1121 is to prevent the second layer 22 from peeling off from the substrate 1 and destroying the master when molding the optical disk substrate and when separating this substrate from the master (stamper) after molding. be. A desirable metal thin film for the first layer 2I is one that has good adhesion to the substrate I such as glass.
Tl,Cr tAI! +”t r W rMo *
cOr Ni r Fer Ta rV, Zr,
Hf is suitable.

第3層23を形成する目的は、第一に形状の秀れた連続
もしくは不連続スパイラル状の凸部を形成するためであ
り、第二にディスク基板形成時に第2 +曽22が損傷
することを防止するためである。このような第3423
に望ましい金属薄膜は、第2422への密着性が良く、
硬度カ高イコトテあシ、Cr t 、T i HuOI
 W r COr ’ l rFeが適している。
The purpose of forming the third layer 23 is, firstly, to form continuous or discontinuous spiral convex portions with an excellent shape, and secondly, to avoid damage to the second layer 22 when forming the disk substrate. This is to prevent No. 3423 like this
A desirable metal thin film has good adhesion to No. 2422,
High hardness, Cr t, T i HuOI
W r COr ' l rFe is suitable.

第4ff124はポリメチルアクリムード、ポリカーボ
ネイトなど有機樹脂との脣着性が小さいものであれば用
いることができる。特に望ましいものは、Au r A
? HPdである。
The fourth ff124 can be made of polymethylacrylmide, polycarbonate, or other materials that have low adhesion to organic resins. Particularly desirable is Au r A
? It is HPd.

このような物′に膜2に例えばレーザビームを連続的も
しくは不連続的に照射すると、物質膜2はレーザビーム
により局部加熱され、第2層22からガス放出が起こり
、このガス圧力が第3+mz :t、g4r砦24に作
用してこれらを隆起させることで凸部が形成される。
When the film 2 of such a material is continuously or discontinuously irradiated with a laser beam, for example, the material film 2 is locally heated by the laser beam, gas is released from the second layer 22, and this gas pressure increases to the third + mz :t, g4r A convex portion is formed by acting on the fort 24 and making it bulge.

第1図において、載板1はターンテーブル3上に載置固
定され、モータ4の、駆動力によシ矢印5のように回転
される。そしてこの状態で、第1のレーザ発振器(例え
ばArレーザが用いられる)よりミラー7を経てレンズ
8で例えば1μmφ以下に佼シ込んだ第1のレーザビー
ム9を物vt膜z上に照射する。ミラー7°およびレン
ズ8は、レーザビーム9の照射位置が基板10半径方向
に一定速度で移動するように駆動制御される。このとき
レーザビーム9のパワーをある閾値以上に選んでおけば
、物質+1142上には第2図(L、)に拡大して示す
ように、7喫絖スパイラル状の凸部25が形成される。
In FIG. 1, a mounting plate 1 is mounted and fixed on a turntable 3, and is rotated as shown by an arrow 5 by the driving force of a motor 4. As shown in FIG. In this state, a first laser beam 9 is irradiated from a first laser oscillator (for example, an Ar laser is used) onto the object Vt film z via a mirror 7 and a lens 8 with a diameter of, for example, 1 μm or less. The mirror 7° and the lens 8 are driven and controlled so that the irradiation position of the laser beam 9 moves in the radial direction of the substrate 10 at a constant speed. At this time, if the power of the laser beam 9 is selected to be above a certain threshold, a seven-fold spiral convex portion 25 will be formed on the material +1142, as shown in an enlarged view in FIG. 2 (L,). .

一方、第2のレーザ発振器10(例えばArレーザが用
いられる)をさらに用意し、このレーザ発振器10よシ
ハーフミラー11を介しさらにレンズ12で2μmφ梶
度に絞り込んだ第2のレーザビーム13を物質膜2の凸
部25上に應射する。ここで第2のレーザビーム13の
照射位置は、第1のレーザビーム9の照射位tハに対し
、できるだけ接近するように、例えばトラック長さ方向
(凸部25の方向)に10μm以下の距離に設定する。
On the other hand, a second laser oscillator 10 (for example, an Ar laser is used) is further prepared, and a second laser beam 13, which is narrowed down to a diameter of 2 μm by a lens 12, is transmitted through the laser oscillator 10 through a half mirror 11 to a material. It is irradiated onto the convex portion 25 of the membrane 2. Here, the irradiation position of the second laser beam 13 is set as close as possible to the irradiation position t of the first laser beam 9, for example, at a distance of 10 μm or less in the track length direction (direction of the convex portion 25). Set to .

また第2のレーザビーム13のパワー(照射エネルギー
密度)は、凸部を形成しない程度の値、例えば第1のレ
ーザビーム9のそれの1/2以下にするととが望ましい
Further, the power (irradiation energy density) of the second laser beam 13 is desirably set to a value that does not form a convex portion, for example, 1/2 or less of that of the first laser beam 9.

第2のレーザビーム13は凸部25に当ると反射される
が、その反射強度(反射干渉光量)は凸部25の形成状
態、特にその高さに応じて変化する。そこで、この反射
光をレンズI2およびハーフミラ−11を経て光検出器
14に導き、その反射強朋を検出する。そしてこの光検
出器I4の出力を制御回路15に導いて、反射強度から
凸部25の形成状態を判定し、その判定結果に基づいて
弗lのレーザ発振器θを制御して、第1のレーザビーム
9のパワー(エネルギー)を凸部25の高さが一定にな
るように制御する。
When the second laser beam 13 hits the convex portion 25, it is reflected, and its reflection intensity (amount of reflected interference light) changes depending on the formation state of the convex portion 25, especially its height. Therefore, this reflected light is guided to the photodetector 14 through the lens I2 and the half mirror 11, and the intensity of the reflection is detected. The output of the photodetector I4 is then guided to the control circuit 15, which determines the formation state of the convex portion 25 from the reflection intensity, and controls the laser oscillator θ based on the determination result to control the first laser oscillator θ. The power (energy) of the beam 9 is controlled so that the height of the convex portion 25 is constant.

すなわち、前記の如き物質rm 2iは照射される第1
のレーザビーム9のパワ゛−が第3図に示すようにある
閾値21以上になると凸部25を形成し始め、その凸部
259酩さけレーザビーム9のパワー増大とともに増加
する。そしてレーザビーム9のパワーがある限界値22
以上になると凸部は破裂する。例えば物″質J膜2がm
 2 m21を膜厚300 rbrrLのTe−Cで形
成したものの場合、P、 = 2.6 mW、 P2 
== 3.8 mW(いずれも膜面上)であり、凸部2
5の最大の高さHOは260μmであった。
That is, the above-mentioned substance rm 2i is the first irradiated material.
When the power of the laser beam 9 exceeds a certain threshold value 21 as shown in FIG. 3, a convex portion 25 begins to form, and the convex portion 259 increases as the power of the laser beam 9 increases. And the power of the laser beam 9 has a certain limit value 22
If it becomes more than that, the convex part will burst. For example, if the material J film 2 is m
2 m21 is formed of Te-C with a film thickness of 300 rbrrL, P, = 2.6 mW, P2
== 3.8 mW (both on the film surface), and the convex portion 2
The maximum height HO of 5 was 260 μm.

このレーザビーム9のパワーに対する凸部25の高さの
変化(は、第3図のように直線とはならないが、物質膜
2によ・る再現性は!舐めて優れている。従って第1の
レーザビーム9のパワーを制御することで、凸部25の
高さを任慧に制御できる。
Although the change in the height of the convex portion 25 with respect to the power of the laser beam 9 is not a straight line as shown in FIG. 3, the reproducibility of the material film 2 is excellent. By controlling the power of the laser beam 9, the height of the convex portion 25 can be controlled at will.

一方、凸部25の高さは物質膜2の厚さによっても変化
する。第4図はその4)%子を示したもので、レーザビ
ーム9のパワーは一定としている。この膜厚がd1以下
では凸部25は破裂するが、dl よシ厚くしてゆくと
ある膜厚d2から凸部25の高さは飽和する。62以上
の膜厚ではレーザビーム9のエネルギーが膜内に吸収さ
れ、横方向に逃げてしまうからである。第242zがT
e−Cの場合、レーザビーム9のパワーを3mW一定と
したとさ、d、=15QrLm。
On the other hand, the height of the convex portion 25 also changes depending on the thickness of the material film 2. FIG. 4 shows the 4)% factor, assuming that the power of the laser beam 9 is constant. If the film thickness is less than d1, the protrusions 25 will burst, but if the thickness is increased by dl, the height of the protrusions 25 will become saturated from a certain film thickness d2. This is because if the film thickness is 62 mm or more, the energy of the laser beam 9 will be absorbed within the film and will escape laterally. 242nd z is T
In the case of e-C, assuming that the power of the laser beam 9 is constant at 3 mW, d = 15QrLm.

d 2 : 400 nmであった。d2: 400 nm.

以上の結果より、物質膜2の膜厚が変ってもレーザビー
ム9のパワーを第1図に示すような構成で制御すること
によって、凸部25の高さを均一にすることができる。
From the above results, even if the thickness of the material film 2 changes, the height of the convex portions 25 can be made uniform by controlling the power of the laser beam 9 using the configuration shown in FIG.

実除、300關φの基板1上に厚さが中央部で300I
へ周辺部で260 rLmと不均一に形成された物質j
摸z (’r’e −c系)上に上述のようにレーザビ
ーム9をパワーを制御しながら照射した。ところ、凸部
25を80rLrrL の均一な高さで1.6μmピッ
チで形成することができた。因、みにレーザビーム9の
パワーは中央部で3mtL。
The actual thickness is 300I at the center on the substrate 1 with a diameter of 300mm.
260 rLm at the periphery of the substance j formed unevenly
The laser beam 9 was irradiated onto the sample ('r'e-c system) while controlling the power as described above. However, the convex portions 25 could be formed with a uniform height of 80 rLrrL at a pitch of 1.6 μm. Incidentally, the power of laser beam 9 is 3 mtL at the center.

周辺部で2.1mWと変化していた。It changed to 2.1mW in the peripheral area.

こうして凸部25が形成された原盤から直接、あるいは
スタンバを、経て光ディスクを多数枚製造したところ、
連続スパイラル状の均一な深さの四部を案内溝として有
するディスクが得られた。
When a large number of optical disks were manufactured directly from the master disc on which the convex portions 25 were formed or through a standber,
A disk was obtained having four continuous spiral sections of uniform depth as guide grooves.

なお、光ディスクのなかでもランダムアクセス機能を持
ったものでは、案内、薄の中にアクセスタイムの短縮、
記録密肋の効率活用のためにプリフォーマットと称され
る一種の制御信号が、溝の輸の変化あるいは膚を切った
形で形成される。この発明はこのような光デイスク用原
盤の製造にも適用が可能であり、その場合は例えば第1
のレーザビーム9で凸部25を形成する際、プリフォー
マット信号領域でレーザビーム9のパワーを弱めて凸部
の高さを部分的に低くずればよい。
Furthermore, among optical discs that have a random access function, there are many ways to reduce access time,
In order to make efficient use of the recording rib, a kind of control signal called preformat is formed in the form of a change or cut in the width of the groove. The present invention can also be applied to the production of such optical disk masters, and in that case, for example, the first
When forming the convex portion 25 with the laser beam 9, the power of the laser beam 9 may be weakened in the preformat signal area to partially lower the height of the convex portion.

また、この発明は系内溝付光ディスク用原盤のみならず
、ビデオディスクやディジタルオーディオディスク等の
再生専用光ディスクを複Hするだめの原盤の製造にも勿
論応用できる。その場合は、第1のレーザビーム9をビ
デオ信号あるいはディジタルオーディオ信号等の情報信
号に応じて変調することによって、凸部を連続スパイラ
ル状でなく、情報信号に応じた不連続スパイラル状に形
成すればよい。
Furthermore, the present invention can of course be applied not only to the production of master discs for internally grooved optical discs, but also to the production of master discs for reproduction-only optical discs such as video discs and digital audio discs. In that case, by modulating the first laser beam 9 according to an information signal such as a video signal or a digital audio signal, the convex portion can be formed not in a continuous spiral shape but in a discontinuous spiral shape according to the information signal. Bye.

さらに、この発明はディスク状以外のテープ、カード状
の元メモリのための原盤の製造にも適用可能であるし、
また凸部をアナログ的な高さ変化をもたせて形成する場
合にも有効である。
Furthermore, the present invention is applicable to the production of master discs for original memories in the form of tapes and cards other than disks,
It is also effective when forming convex portions with analog height changes.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の一実施例を説明するための光デイス
ク用原盤製造装置の構成図、第2図(a) (b)は原
盤の荷造と凸部形成プロセスを示す図、第3図は物質膜
の膜厚を一定としたときの照射レーザビームのパワーに
対する凸部高さの変化を示す図、第4図は照射レーザビ
ームのパワーを一定としたときの物・K膜の厚さに対す
る凸部高さの変化を示す図である。 1・・・基板、2・・・エネルギービームの照射によシ
凸部を形成する物質j摸、3・・・ターンテーブル、6
.10・・・レーザ発振器、9・・・第1のレーザビー
ム、13・・・第2のレーザビーム、14・・・光検出
器、I5・・・制御回路。 出願人代理人  弁理士 鈴 江 武 彦第1図 第2図 (b) 第3図 pi               P2日召角ル−寸
゛パフ− 第4図 ↑ A勿嵯月菓のバ1ゴ           −昭和5÷
 、3 n /’) ;、日 特許庁長官 若杉和夫  殿 1、事件の表示 特願昭卵−32447号 2 発明の名称 光デイスク用原盤の製造方法 3、補IEをする名 事件との関係 特許出願人 (307)  東京芝浦電気株式会社 4、代理人
FIG. 1 is a block diagram of an optical disc master manufacturing apparatus for explaining an embodiment of the present invention, FIGS. 2(a) and 2(b) are diagrams showing the master disc packing and protrusion forming process, and FIG. 3 Figure 4 shows the change in the height of the convex portion with respect to the power of the irradiated laser beam when the thickness of the material film is constant, and Figure 4 shows the thickness of the K film when the power of the irradiated laser beam is constant. It is a figure which shows the change of the convex part height with respect to FIG. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Substrate, 2...Simulation of material that forms convex portions by irradiation with energy beam, 3...Turntable, 6
.. DESCRIPTION OF SYMBOLS 10... Laser oscillator, 9... First laser beam, 13... Second laser beam, 14... Photodetector, I5... Control circuit. Applicant's representative Patent attorney Takehiko Suze
, 3 n/') ;, Kazuo Wakasugi, Commissioner of the Japanese Patent Office1, Indication of the case Patent Application Shota-32447 No.2 Name of the invention Method for manufacturing optical disc masters3, Relationship to famous cases for supplementary IE Patent Applicant (307) Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. 4, Agent

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)光ビームの照射により情報信号が読取られる光デ
ィスクを製造するだめの原盤の製造に際し、基板上にエ
ネルギービームの照射によシ凸部を形成する物質力弥を
形成し、この物質膜に第1のエネルギービームを照射し
て凸部を形成するとともに、この凸部に第2’Oエネル
ギービームを照射してその反射強度により凸部形成状態
を判足し、その判定結果を第1のエネルギービームにフ
ィードバックして、凸部の高さが一定となるように第1
のエネルギービームのエネルギーをil+lI 御する
ことを特徴とする光ディスク川原Jj、’、jの製造方
法。
(1) When manufacturing a master disc for manufacturing an optical disk from which information signals are read by irradiation with a light beam, a material layer is formed on the substrate to form convex portions by irradiation with an energy beam, and a layer of material is formed on this material film. The first energy beam is irradiated to form a convex part, and the second 'O energy beam is irradiated to this convex part, and the state of the convex part formation is determined based on the reflection intensity, and the determination result is used as the first energy beam. Feedback is given to the first
A method for manufacturing an optical disc Kawahara Jj,',j, characterized in that the energy of an energy beam of il+lI is controlled.
(2)第2のエネルギービームの照射工坏ルギー密問は
第1のエネルギービームのそれの1/2以下であること
を特徴とする特許C1j求の司囲第1項記載の光デイス
ク用原盤の製造方法。
(2) An optical disc master according to paragraph 1 of the patent C1j request, characterized in that the irradiation energy of the second energy beam is less than 1/2 of that of the first energy beam. manufacturing method.
(3)第1のエネルギービームの照射位置と第2のエネ
ルギービームの照射(iktとのトラック長さ方向にお
ける距離は10μm以下であることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記戦の光デイスク用原盤の製造方法。
(3) The light of claim 1, characterized in that the distance between the irradiation position of the first energy beam and the irradiation (ikt) of the second energy beam in the track length direction is 10 μm or less. A method of manufacturing a disc master.
(4)第1および第2のエネルギービームはレーザビー
ムで8シ、その照射は明所で行なわれることを特徴とす
る特許MTi氷の範囲第1頃記戦の光デイスク用原盤の
製造方法。 (51第1のエイ・ルギービームの照射により形成され
る凸部は連続スパイラル状であることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記・戎の光デイスク用原盤の製造方法
。 +6)第1のエネルギービームの照射により形成される
凸部は制御信号または情報信号に応じた不連続スパイラ
ル状であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の元ディスク用原盤の製造方法。
(4) The first and second energy beams are laser beams, and the irradiation is performed in a bright place. (51) A method for manufacturing an optical disk master according to claim 1, characterized in that the convex portion formed by irradiation with the first A-Lugi beam has a continuous spiral shape. +6) No. 2. The method of manufacturing a master disk for a source disk according to claim 1, wherein the convex portion formed by irradiation with one energy beam has a discontinuous spiral shape according to a control signal or an information signal.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5665340A (en) * 1979-10-17 1981-06-03 Rca Corp Recordinggmedium for optical recording and regeneration

Patent Citations (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5665340A (en) * 1979-10-17 1981-06-03 Rca Corp Recordinggmedium for optical recording and regeneration

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