JPS59155384A - Methylene group-containing spiro ortho-carbonate compound - Google Patents

Methylene group-containing spiro ortho-carbonate compound

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JPS59155384A
JPS59155384A JP58026304A JP2630483A JPS59155384A JP S59155384 A JPS59155384 A JP S59155384A JP 58026304 A JP58026304 A JP 58026304A JP 2630483 A JP2630483 A JP 2630483A JP S59155384 A JPS59155384 A JP S59155384A
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tetraoxaspiro
polymer
nonane
methylene
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水谷 清和
Hitoshi Kato
仁 加藤
Yoshihisa Ogasawara
小笠原 誉久
Takeshi Endo
剛 遠藤
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Toagosei Co Ltd
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

NEW MATERIAL:A compound shown by the formula I . EXAMPLE:2-Methylene-1,4,6,9-tetraoxaspiro[4,4]nonane and a 2-alkyl-7-methylene- 1,4,6,9-tetraoxaspiro[4,4]nonane. USE:A polymerizable monomer. Useful as a raw material for a molding material, adhesive, coating compound, etc. Easily obtainable by using an inexpensive raw material. PREPARATION:A compound shown by the formula II is reacted with 1.1-5 times the molar quantity of an alkali(e.g., sodium alcoholate, etc.) in a solvent such as N,N-dimethylformamide, pyridine, etc. at 0-60 deg.C, and dehydrohalogenated to give a compound shown by the formula I .

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規化合物である2−メチレン−1、4,6
,9−テトラオキサスピロ〔4,4)ノナンおよび2−
アルキル−7−メチレン−1,4,6,9−テトラオキ
サスピロ[4,41ノナン(以下これらを化合物〔1〕
と総称する)を提供するもので、化合物〔1〕は下式〔
1〕によって示され、例えば重合性単量体として機能す
る有用なものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides a novel compound of 2-methylene-1,4,6
, 9-tetraoxaspiro[4,4)nonane and 2-
Alkyl-7-methylene-1,4,6,9-tetraoxaspiro[4,41 nonane (hereinafter referred to as compound [1])
Compound [1] has the following formula [
1] and is useful as a polymerizable monomer, for example.

(ここでRは水素原子またはアルキル基を表わす。) 化合物〔1〕は下式〔2〕で示される2−ノ・ロゲン化
メチル−1,4,6,9−テトラオキサスピロ(4,4
〕ノナンおよび2−アルキル−7−ノ・ロゲン化メチル
−1,4,6,9−テトラオキサスピロ(4,4)ノナ
ン(以下これらを化合物〔2〕と総称する)の脱ノ・ロ
ゲン化水素反応によって製造される。
(Here, R represents a hydrogen atom or an alkyl group.) Compound [1] is 2-no-rogenated methyl-1,4,6,9-tetraoxaspiro(4,4
] Deno-logenation of nonane and 2-alkyl-7-no-logenated methyl-1,4,6,9-tetraoxaspiro(4,4) nonane (hereinafter collectively referred to as compound [2]) Produced by hydrogen reaction.

(ここでRは水素原子またはアルキル基を示し、XはC
I、 Br、 I  等のハロゲン原子を示す。以下同
様とする。) この反応を示すと以下のごとくになる。
(Here, R represents a hydrogen atom or an alkyl group, and X represents C
Indicates a halogen atom such as I, Br, I. The same shall apply hereinafter. ) This reaction is shown below.

〔2〕 〔1〕 化合物〔2〕は1,6−シオキソランー2−オン、4−
メチル−1,3−ジオキソラン−2−オン、4−エチル
−1,3−ジオキソラン−2−オン等のごとき置換およ
び非置換のエチーレンカーボネート類(環状カーボネー
ト)とエビ710ヒドリンとの付加反応によって製造す
ることができる。この反応式°を示すと以下のとと(に
なるつ 化合物〔2〕の製造に際しては、エピノ・ロヒドリンと
環状カーボネート類を、例えば塩化メチレンやテトラヒ
ドロフラン等のごとき溶剤中で、酸例えばBF30Et
2.5nC14、TiC1,、FeCl3、P−ト/l
z!−ンスルフオン酸または硫酸などのごとき酸を触媒
として反応させる。反応温度は特に制限はないが、一般
に0℃〜60℃で行う。また、エビハロヒドリン/環状
カーボネートのモル比、触媒濃度、及び溶媒使用量に関
しても特に制限はないが、一般にはエピハロヒドリン/
環状カーボネートのモル比=0.6〜1.5、触媒濃度
0.1〜3wt%(対仕込環状カーボネート重量比)、
溶媒使用量0.5〜20(対仕込環状カーボネート重量
比)で行う。
[2] [1] Compound [2] is 1,6-thioxolane-2-one, 4-
By addition reaction between substituted and unsubstituted ethylene carbonates (cyclic carbonates) such as methyl-1,3-dioxolan-2-one, 4-ethyl-1,3-dioxolan-2-one, etc. and shrimp 710 hydrin. can be manufactured. This reaction formula is shown below: In the production of compound [2], epino-rohydrin and cyclic carbonates are mixed with an acid such as BF30Et in a solvent such as methylene chloride or tetrahydrofuran.
2.5nC14, TiC1,, FeCl3, P-t/l
Z! - The reaction is carried out using an acid such as sulfonic acid or sulfuric acid as a catalyst. The reaction temperature is not particularly limited, but is generally carried out at 0°C to 60°C. In addition, there are no particular restrictions on the molar ratio of epihalohydrin/cyclic carbonate, the catalyst concentration, and the amount of solvent used, but in general, epihalohydrin/cyclic carbonate
Molar ratio of cyclic carbonate = 0.6 to 1.5, catalyst concentration 0.1 to 3 wt% (weight ratio of charged cyclic carbonate),
The amount of solvent used is 0.5 to 20 (weight ratio to cyclic carbonate charged).

反応の退行程度は反応液を例えばガスクロマトグラフ(
GCと略記する)または液体クロマトグラフ(HLCと
略記する)で分析することによって容易に知ることがで
きる。
The degree of regression of the reaction can be determined by measuring the reaction solution using, for example, a gas chromatograph (
It can be easily determined by analysis using GC (abbreviated as GC) or liquid chromatography (abbreviated as HLC).

反応液からの化合物〔2〕の分離取得はつぎのように行
なわれる。例えば反応液を氷水により冷却しながら、こ
れにアルカリ水溶液例えば水酸化ナトリウム水溶液を添
加し、攪拌混合抜水層と有機層に分別する。
Compound [2] is separated and obtained from the reaction solution as follows. For example, an alkaline aqueous solution such as a sodium hydroxide aqueous solution is added to the reaction solution while cooling it with ice water, and the mixture is stirred and separated into an aqueous layer and an organic layer.

次に有機層を10%NaC1水溶液で洗浄する。次に硫
酸マグネシウムにより有機層を脱水した後、まず常圧蒸
留により低沸点物を除去し、残渣を減圧蒸留することに
より、化合物〔2〕が取得される。
The organic layer is then washed with 10% NaCl aqueous solution. Next, after dehydrating the organic layer with magnesium sulfate, low-boiling substances are first removed by atmospheric distillation, and the residue is distilled under reduced pressure to obtain compound [2].

化合物〔1〕の合成は、化合物〔2〕を適当な溶媒例え
ば、N、N−ジメチルホルムアミド、ピリジン等の溶媒
中で、理論量ないしそれより過剰の量好ましくは1.1
〜5倍モル量のアルカリ例えばナトリウムアルコラード
等と反応させ脱ハロゲン化水素することにより、行なわ
れる。
Compound [1] is synthesized by mixing compound [2] in a suitable solvent such as N,N-dimethylformamide, pyridine, etc. in a theoretical amount or an excess amount, preferably 1.1
This is carried out by dehydrohalogenation by reaction with an alkali such as sodium alcolade in a molar amount of ~5 times.

□ 反応温度に格別の制限はないが一般に0°C〜60
℃で行なわれる。
□ There is no particular restriction on the reaction temperature, but it is generally between 0°C and 60°C.
It is carried out at ℃.

また反応の進行程度は、反応液を例えばガスクロマトグ
ラフ又は液体クロマトグラフ(HLCと略記する)で分
析することによって、容易に知ることが出来る。
Further, the degree of progress of the reaction can be easily determined by analyzing the reaction solution using, for example, a gas chromatograph or a liquid chromatograph (abbreviated as HLC).

反応液からの化合物〔1〕の分離取得は、例えば反応液
を水に注ぎ、有機層と水層を分取し、その後エーテル、
クロロホルム、トルエン等の有5!媒で水層に対する抽
出操作を行ない、抽出層と前記有機層を合わせて脱水乾
燥後溶媒を留去し、残渣を減圧蒸留すること゛によって
行ない得る。
Compound [1] can be separated from the reaction solution by, for example, pouring the reaction solution into water, separating the organic layer and the aqueous layer, and then adding ether,
Contains chloroform, toluene, etc.5! This can be carried out by performing an extraction operation on the aqueous layer with a medium, combining the extracted layer and the organic layer, dehydrating and drying, distilling off the solvent, and distilling the residue under reduced pressure.

ラジカル重合性のスピロオルソカーボネート類について
は、Endo T、、 and Ba1ley W、J
、、 J。
Regarding radically polymerizable spiroorthocarbonates, see Endo T., and Balley W. J.
,,J.

Polym、 Sci、、 Polym、 Chem、
 Ed、、 13 、2525(1975)等に記載さ
れている。しかしながらそれらの化合物は、ラジカル重
合においてスピロオルソカーボネート環の開環が起きる
性質有している。しかもこれらのスピロオルソカーボネ
ート類の合成方法は、複雑であり、しかも沸点が低くて
有害なC8lや高価な原料を使用する必要があるま ため、製造が容易でなく、また目的物が高価となる欠点
を有する。
Polym, Sci, Polym, Chem,
Ed., 13, 2525 (1975), etc. However, these compounds have the property that the spiroorthocarbonate ring opens during radical polymerization. Moreover, the synthesis method for these spiroorthocarbonates is complicated and requires the use of C8l, which has a low boiling point and is harmful, and expensive raw materials, making it difficult to manufacture and making the desired product expensive. It has its drawbacks.

これに対して本発明者らは鋭意研究の結果、カチオン開
環重合するのみならず、スピロオルソカーボネート環の
開環を起さずにラジカル重合するという、上記公知の化
合物とは異質の特性を具備する化合物〔1〕を見出した
のである。
On the other hand, as a result of intensive research, the present inventors have found that the compound not only undergoes cationic ring-opening polymerization, but also undergoes radical polymerization without ring-opening of the spiro-orthocarbonate ring, which is a property different from that of the above-mentioned known compounds. They have discovered a compound [1] that has the following properties.

しかも、本発明の化合物〔1〕は、一般に市販されてい
る安価なエピハロヒドリンと環状カーボネートから合成
される化合物〔2〕を原料として、脱ハロゲン化水素と
いう簡単な反応によって容易に合成できる利点を有する
Moreover, the compound [1] of the present invention has the advantage that it can be easily synthesized by a simple reaction of dehydrohalogenation using the compound [2] synthesized from inexpensive epihalohydrin and a cyclic carbonate, which are generally commercially available, as raw materials. .

化合物〔1〕のラジカル重合は次のようである。The radical polymerization of compound [1] is as follows.

ラジカル重合によりスピロオルソカーボネート環をもっ
た重合物が得られる。
A polymer having a spiroorthocarbonate ring is obtained by radical polymerization.

また化合物〔1,〕は、カチオン重合開始剤によりカチ
オン重合し、その際スピロオルソカーボネート環の開環
が起こりカーボネート結合が生成し、また一部環状カー
ボネート化合物の脱離反応かおこり、粘稠な重合物を与
える。
In addition, compound [1,] undergoes cationic polymerization using a cationic polymerization initiator, and at this time, the spiroorthocarbonate ring opens to form a carbonate bond, and a part of the cyclic carbonate compound also undergoes an elimination reaction, resulting in a viscous structure. Gives a polymer.

上述のように本発明の化合物〔1〕は容易かつ安価に製
造することができ、しかもラジカル重合およびカチオン
重合のいずれの方法によっても重合させることが可能で
あり、重合物はその主鎖中にカーボネート基、または側
鎖にスピロオルソカーボネート環を有している。従って
本発明の化合物〔1〕は、成形材料、接着剤、塗料など
の原料として極めて有用な化合物である。
As mentioned above, the compound [1] of the present invention can be easily and inexpensively produced, and can be polymerized by either radical polymerization or cationic polymerization, and the polymer has a number of molecules in its main chain. It has a carbonate group or a spiroorthocarbonate ring in its side chain. Therefore, the compound [1] of the present invention is an extremely useful compound as a raw material for molding materials, adhesives, paints, etc.

化合物〔1〕のラジカル重合は、通常のラジカル重合手
段、例えば紫外線、赤外線、熱、電′子線又はマイクロ
波により行なうことができる。
Radical polymerization of compound [1] can be carried out by conventional radical polymerization means, such as ultraviolet rays, infrared rays, heat, electron beams, or microwaves.

紫外線ラジカル重合では、通常光開始剤が用いられる。In ultraviolet radical polymerization, a photoinitiator is usually used.

好適に利用できる光開始剤としては、アセトフェノン、
2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2
,2−ジ土トキシアセトフエノン、4’−イソプロピル
−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、2−
ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、4.4’−
ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンゾフェノ
ン、メチル−(0−ベンゾイル)−ベンゾエート、1−
フエニ#−1,2−プロパンジオン−2−(0−エトキ
シカルボニル)−オキシム、1−フェニル−1,2−プ
ロパンジオン−2−(0−ベンゾイル)−オキシム、ベ
ンゾイン、ベンゾインメチルニー□チル、ベンツインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベン
ゾインイソブチルエーテル、ベンゾインオクチルエーテ
ル、ベンジル又はジアセチル等のカルボニル化合物;メ
チルアントラキノン、クロロアントラキノン、クロロチ
オキサントン、2−メチルチオキサントン又は2−i−
プロピルチオキサントン等のアントラキノン又はキサン
トン誘導体;ジフェニルスルフィド、ジフェニルジスル
フィド又はジチオカーバメート等の硫黄゛化合物;α−
クロロメチルナフタレン、アント2セン等がある。
Photoinitiators that can be suitably used include acetophenone,
2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2
, 2-di-earthoxyacetophenone, 4'-isopropyl-2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 2-
Hydroxy-2-methylpropiophenone, 4.4'-
Bis(diethylamino)benzophenone, benzophenone, methyl-(0-benzoyl)-benzoate, 1-
Phenyl #-1,2-propanedione-2-(0-ethoxycarbonyl)-oxime, 1-phenyl-1,2-propanedione-2-(0-benzoyl)-oxime, benzoin, benzoinmethylni□thyl, Carbonyl compounds such as benzine ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin octyl ether, benzyl or diacetyl; methylanthraquinone, chloroanthraquinone, chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone or 2-i-
Anthraquinone or xanthone derivatives such as propylthioxanthone; sulfur compounds such as diphenyl sulfide, diphenyl disulfide or dithiocarbamates; α-
Examples include chloromethylnaphthalene and antho2cene.

赤外線、熱、マイクロ波による重合に際しては、分解に
よってラジカルを生成し得るものであれば−いずれのラ
ジカル開始剤の使用も可能である。例えば、ジーter
 t−ブチルバーオキシド、2,5−ジメチル−2,5
−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、  t
ert−ブチルノ・イドロノく一オキシド、tert−
ブチルパーオキジペンゾエート等の有機過酸化物;2,
2’−アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物;過
硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等の過酸塩が使用で
きる。
In the polymerization using infrared rays, heat, or microwaves, any radical initiator can be used as long as it can generate radicals by decomposition. For example, Jeter
t-Butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5
-di(tert-butylperoxy)hexane, t
ert-butylhydrono-oxide, tert-
Organic peroxides such as butyl peroxydipenzoate; 2,
Azo compounds such as 2'-azobisisobutyronitrile; persalts such as ammonium persulfate and potassium persulfate can be used.

又、電子線などの電離性放射線による重合は通常無触媒
系で行なわれる。
Further, polymerization using ionizing radiation such as an electron beam is usually carried out without a catalyst.

触媒を用いる場合その使用量は、一般に単量体の合計量
に基づき0.01〜10wt%、好ましくは0.1〜5
wt%の範囲である。
When a catalyst is used, the amount used is generally 0.01 to 10 wt%, preferably 0.1 to 5 wt% based on the total amount of monomers.
The range is wt%.

ラジカル重合は、紫外線あるいは電離性放射線の照射に
よる場合は常温でも進むが、その他の場合は、加温ない
し加熱状態で円滑に進行する。重合時に溶媒を使用する
場合、好ましく用いられる溶媒としては例えばトルエン
、キシレン、酢酸エチル、N、N−ジメチルホルムアミ
ド、クロロホルム、ジオキサン等があげられる。また化
合物〔1〕のカチオン重合は一般によく知られている方
法、すなわちカチオン重合開始剤の存在下例えば紫外線
、赤外線、熱またはマイクロ波などによって行なう。
Radical polymerization proceeds even at room temperature when irradiated with ultraviolet rays or ionizing radiation, but in other cases it proceeds smoothly under heating or heating conditions. When a solvent is used during polymerization, examples of preferably used solvents include toluene, xylene, ethyl acetate, N,N-dimethylformamide, chloroform, and dioxane. Further, the cationic polymerization of compound [1] is carried out by a generally well-known method, that is, by using, for example, ultraviolet rays, infrared rays, heat, or microwaves in the presence of a cationic polymerization initiator.

紫外線照射の場合のカチオン重合触媒として、例えば φ−M二N −PF6.φ−N三食・B玖、などの芳香
族ジアゾニウム塩;φ−■−φ・PF7等の芳香族・・
ロニウム塩;1 CH。
As a cationic polymerization catalyst in the case of ultraviolet irradiation, for example, φ-M2N-PF6. Aromatic diazonium salts such as φ-N Sanshoku, Bku, etc.Aromatic diazonium salts such as φ-■-φ・PF7 etc.
Ronium salt; 1 CH.

等の周期律表第Va族元素の芳香族オニウム塩;族元素
の芳香族オニウム塩; l[a−Va族元素のジカルボニル錯化合物が使用され
うる。
Aromatic onium salts of group Va elements of the periodic table, such as; aromatic onium salts of group elements; dicarbonyl complex compounds of group Va elements;

また、その他のカチオン重合触媒としては、例えばBF
s 、 FeC13,5nC1,、SbF3. Ti1
l、などのルイス酸; BF30Et2. BF3−ア
ニリンコンプレックス等のごときルイス酸と0.S 、
Nなどを有する化合物との配位化合物;ルイス酸のオキ
ソニウム塩、ジアゾニウム塩、カルボニウム塩;)−ロ
ゲン化合物、混合ハロゲン化合物または過ハロゲン酸誘
導体などがあげられる。
In addition, other cationic polymerization catalysts include, for example, BF
s, FeC13,5nC1,, SbF3. Ti1
Lewis acids such as BF30Et2. Lewis acids such as BF3-aniline complex and 0. S,
Coordination compounds with compounds having N, etc.; oxonium salts, diazonium salts, carbonium salts of Lewis acids;)-halogen compounds, mixed halogen compounds, perhalogen acid derivatives, and the like.

触媒の使用量は一般に重合しようとする単量体に対し、
0.001〜10wt%好ましくは0.1から5wt%
の範囲が好適である。重合温度に関する制限は特にない
が、通常常温〜200℃で行なわれる。
The amount of catalyst used is generally based on the monomer to be polymerized.
0.001-10wt% preferably 0.1-5wt%
A range of is suitable. Although there are no particular restrictions regarding the polymerization temperature, it is usually carried out at room temperature to 200°C.

重合時に溶媒を使用する場合は、生長カチオンと反応し
てその活性を低下させない化合物を選ぶことが望ましい
。使用に適した溶媒としては、ヘキサン、オクタン等の
脂肪族炭化水素;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素;塩化メチレン、1.1−ジクロルエタン等のハロゲ
ン化炭化水素その他がある。
When using a solvent during polymerization, it is desirable to choose a compound that does not react with the growing cation and reduce its activity. Suitable solvents for use include aliphatic hydrocarbons such as hexane and octane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, 1,1-dichloroethane, and others.

実施例1 攪拌機、コンデンサー、温度計および滴下ロートを備え
た4つ目500dフラスコに、ナトリウムメチラート2
1.6.9 (0,4モル)およびN 、 N−ジメチ
ルホルムアミド150wLtを入れ、攪拌しながら7−
クロルメチル−2−メチル−1,4,6,9−テトラオ
キサスピロ(4,4)ノナン3B、911(0,2モル
)を1時間かけて滴下した。この間反応液は約15℃に
保った。その後50℃で6時間反応させ一夜放置した。
Example 1 In a fourth 500 d flask equipped with a stirrer, condenser, thermometer and addition funnel, sodium methylate 2
1.6.9 (0.4 mol) and 150 wLt of N,N-dimethylformamide were added, and 7-
Chloromethyl-2-methyl-1,4,6,9-tetraoxaspiro(4,4)nonane 3B, 911 (0.2 mol) was added dropwise over 1 hour. During this time, the reaction solution was kept at about 15°C. Thereafter, the mixture was reacted at 50° C. for 6 hours and left overnight.

次に反応液を300mの水に注ぎ、水層と有機層を分離
した。次に水層に塩化メチレン100dを加えて抽出す
る操作を6・回繰り返し、各塩化メチレン層を前記有機
層と合わせて水100mで洗浄した。これを硫酸マグネ
シウムで脱水し、ロータリーエバポレーターで脱溶剤後
減圧蒸留して、沸点79℃/ 4.8 m Htzにお
いて2−メチル−7−メチレン−1,4,6,9−テト
ラオキサスピロ(4,411ノナ722.9g(収率7
2%)を得た。
Next, the reaction solution was poured into 300 m of water, and the aqueous layer and organic layer were separated. Next, the operation of adding 100 ml of methylene chloride to the aqueous layer for extraction was repeated 6 times, and each methylene chloride layer was combined with the organic layer and washed with 100 ml of water. This was dehydrated with magnesium sulfate, solvent removed using a rotary evaporator, and then distilled under reduced pressure to obtain 2-methyl-7-methylene-1,4,6,9-tetraoxaspiro (4 , 411 nona 722.9 g (yield 7
2%).

その物性値は下記のとおりである。Its physical property values are as follows.

O比重; 1.170 (25℃) 0沸点;79℃/4,8朋H11 0赤外吸収スペクトル(以下■Rと略記する);(第1
図参照) 1 703cIIL(CH2二C) 1222cx  、  1030clL(C−0−C)
0核磁気共鳴スペクトル(以下NMRと略記する)(C
DCl、中); (第2図参照) δ(ppm) 4.4〜4.8 (4H,CH,=C,CH2−0)3
.5〜4.4 (3H,0−CH−CH2−0)1.2
〜1.5 (3H,−CH,) OGC−MS ; 親ピ〜りP(m/e);158 なお上記で使用した−7−クロルメチル−2−メチル−
1,4,6,9−テトラオキサスピロ[4,4)ノナン
は以下の方法で製造したものである。
O specific gravity; 1.170 (25°C) 0 boiling point; 79°C/4,8 H11 0 infrared absorption spectrum (hereinafter abbreviated as ■R); (1st
(See figure) 1 703cIIL (CH2C) 1222cx, 1030clL (C-0-C)
0 nuclear magnetic resonance spectrum (hereinafter abbreviated as NMR) (C
DCl, medium); (see Figure 2) δ (ppm) 4.4-4.8 (4H,CH,=C,CH2-0)3
.. 5-4.4 (3H,0-CH-CH2-0)1.2
~1.5 (3H, -CH,) OGC-MS; Parent P (m/e); 158 -7-chloromethyl-2-methyl- used above
1,4,6,9-tetraoxaspiro[4,4)nonane was produced by the following method.

すなわち攪拌機、コンデンサー、温度計および滴下ロー
トを備えた4つ口II!フラスコに塩化メチレン20’
ON!、4−メチル−1,5−ジオキソラン−2−オン
40.8.9 (0,4モル)をとり、水浴により約2
5℃に冷却し、BF30E t2o、4 dを添加後攪
拌しながら、エピクロルヒドリン44.4.9(0,4
8モル)を塩化メチレン200−に溶解した溶液を約1
時間かけて滴下した。さらに約25℃で4時間反応させ
た。次にトリエチルアミン0、8 mを加え触媒を失活
させた。
i.e. 4-neck II with stirrer, condenser, thermometer and dropping funnel! 20' methylene chloride in flask
ON! , 4-methyl-1,5-dioxolan-2-one 40.8.9 (0.4 mol) was taken, and about 2
After cooling to 5°C and adding BF30E t2o,4 d, add epichlorohydrin 44.4.9 (0,4
8 mol) dissolved in 200 methylene chloride, about 1
It dripped over time. The mixture was further reacted at about 25° C. for 4 hours. Next, 0.8 m of triethylamine was added to deactivate the catalyst.

反応液を8%NaOH水溶液200mで1回洗浄し、有
機層を蒸留水SO=で2回洗浄後Mg S O,で脱水
を行なった。
The reaction solution was washed once with 200 ml of 8% NaOH aqueous solution, and the organic layer was washed twice with distilled water SO= and then dehydrated with Mg SO.

次KO−1リーエバポレーターで脱溶刺抜減圧蒸留した
。沸点96〜95℃/ 1.5 mmHllにおいて7
−クロルメチル−2−メチル−1,4,6,9−テトラ
オキサスピロ[4,43ノナン2 t 69 (収率2
8%)を得た。
Next, the solution was removed and distilled under reduced pressure using a KO-1 evaporator. Boiling point 96-95℃ / 7 at 1.5 mmHll
-Chloromethyl-2-methyl-1,4,6,9-tetraoxaspiro[4,43nonane 2t 69 (yield 2
8%).

その物性値は下記の通りである。Its physical property values are as follows.

0沸 点;96〜b oIR; (第6図参照) 1243cm 、1055cm  (C−0−C)ON
MR; (CDCI、中)(第4図参照)δ(ppm) 6.8〜4.6 (5)L2CH−0,CH2−0の3
H) 6.4〜5.8(5…CH,−CI、CルーOの1H) 1.2〜1.5(3I上 d、OCH3’)CxC−M
S  ; 親ピーク; P −1= 193 (m/e)参考例1 実施例1で得た2−メチル−7−メチレン−1、4,6
,9−テトラオキサスピロC4,4”Jノナンに重合触
媒としてジーtert−プチルノく一オキサイド6モル
%を添加し、封管中で130℃にお(・て40時間重合
反応させた。
0 boiling point; 96~boIR; (see Figure 6) 1243cm, 1055cm (C-0-C)ON
MR; (CDCI, middle) (see Figure 4) δ (ppm) 6.8 to 4.6 (5) 3 of L2CH-0, CH2-0
H) 6.4-5.8 (5...CH, -CI, 1H of C-O) 1.2-1.5 (3I upper d, OCH3') CxC-M
S; Parent peak; P -1 = 193 (m/e) Reference example 1 2-methyl-7-methylene-1,4,6 obtained in Example 1
, 9-tetraoxaspiro C4,4''J nonane was added with 6 mol % of di-tert-butyl-butyl oxide as a polymerization catalyst, and a polymerization reaction was carried out at 130° C. for 40 hours in a sealed tube.

この重合物の分取を以下の分離条件で行なり・、高分子
成分を重合物として分取した。
This polymer was fractionated under the following separation conditions, and the polymer component was fractionated as a polymer.

分離条件; 装置;東洋曹達工業■製 HLC−807カラム;TS
K−ゲ# G−30,0OH(3+G2000HG溶離
液;クロロホルム 流速;4d/分 取得した重合物は淡黄色粉末状物質であり、その収率は
約80%であった。
Separation conditions: Equipment: HLC-807 column manufactured by Toyo Soda Kogyo ■; TS
K-GE# G-30,0OH (3+G2000HG eluent; chloroform flow rate; 4 d/min) The obtained polymer was a light yellow powdery substance, and the yield was about 80%.

HLC分析より、重合物のポリスチレン換算重量平均分
子量は6800であった。
According to HLC analysis, the weight average molecular weight of the polymer was 6,800 in terms of polystyrene.

また重合物のIR分析により、1703clIL の(
C=CH2)のピークが消失し、1240c11V1.
1210cm  、 1045cm  ノ(C−0−c
)ノピークが認められた(第5図参照)。
In addition, IR analysis of the polymer revealed that 1703clIL (
The peak of C=CH2) disappeared, and the peak of 1240c11V1.
1210cm, 1045cm ノ(C-0-c
) peaks were observed (see Figure 5).

上記のラジカル重合において、2−メチレン−7−メf
ルー1,4.べ9−テトラオキサスピロ[4,4)ノナ
ンは、メチレン基が重合し、そのスピロオルツカ−ボネ
ート基は開環しなかったので、この重合物はスピロオル
ソカーボネート基を含有するも、のとなった。この重合
物の比重は1290(25℃)であり、この値より算出
される重合の際の体積収縮率は96%である。
In the above radical polymerization, 2-methylene-7-mef
Roux 1, 4. The methylene group of be9-tetraoxaspiro[4,4)nonane was polymerized and its spiro-orthocarbonate group was not ring-opened, so this polymer contained a spiro-orthocarbonate group. . The specific gravity of this polymer is 1290 (25° C.), and the volume shrinkage rate during polymerization calculated from this value is 96%.

参考例2 実施例1で得た2−メチル−7−メチレン−1、4,6
,9−テトラオキサスピロC4,4〕ノナンをガラス試
験管にとり、氷水で約10℃に冷却した後、BP、OE
t、を6モル%添加し重合させた。
Reference example 2 2-methyl-7-methylene-1,4,6 obtained in Example 1
,9-TetraoxaspiroC4,4]nonane was placed in a glass test tube, cooled to about 10°C with ice water, and then BP, OE
t, was added in an amount of 6 mol % and polymerized.

その結果、濃かつ色の粘稠な重合物が生成した。As a result, a dark and viscous polymer was produced.

この重合物成分中には4−メチル−1,3−ジオキソラ
ン−2−オンが認められた。
4-methyl-1,3-dioxolan-2-one was found in this polymer component.

また参考例1と同様に高分子成分の分取な行ない収率的
4°0%で濃かっ色固体状重合物を得た。
Further, the polymer component was fractionated in the same manner as in Reference Example 1, and a dark brown solid polymer was obtained with a yield of 4°0%.

HLC分析より、重合物のポリスチレン換算重量平均分
子量は2200であった。
According to HLC analysis, the weight average molecular weight of the polymer was 2,200 in terms of polystyrene.

またIR分析より1730cIrL の(C=O)のピ
ークが認められた。
In addition, a (C=O) peak at 1730cIrL was observed by IR analysis.

上記のカチオン重合に“より、2−メチル−7−メチン
y −1,4,6,9−テトラオキサスピロ[4,4]
ノナンは、そのスピロオルソカーボネート基が開環し、
重合物中にはカーボネート基が生成した。
By the above cationic polymerization, 2-methyl-7-methiney-1,4,6,9-tetraoxaspiro[4,4]
Nonane has its spiroorthocarbonate group ring-opened,
Carbonate groups were generated in the polymer.

参考例6 実施例1で得た化合物にベンゾインエチルエーテルを5
wt%加え、マイラーフィルムの間にはさんで、厚さ約
80μにおいて、ウシオ電機■製80W/am高圧水銀
灯により、高さ20cmで8分間紫外線を照射し、紫外
線ラジカル1合させた。
Reference Example 6 Adding benzoin ethyl ether to the compound obtained in Example 1 for 5
wt%, and sandwiched between Mylar films to a thickness of about 80 μm, irradiated with ultraviolet rays at a height of 20 cm for 8 minutes using an 80 W/am high-pressure mercury lamp manufactured by Ushio Inc., to combine one ultraviolet radical.

被照射物のHLC分析により、重合物の生成が認められ
た。
HLC analysis of the irradiated material confirmed the formation of a polymer.

参考例4 参考例1で得た重合物を約20重量倍量の1,1−ジク
ロルエタンに溶解し、BF30Et、を重合物に対して
3wt%添加したところ架橋して重合物が析出した。
Reference Example 4 The polymer obtained in Reference Example 1 was dissolved in about 20 times the weight of 1,1-dichloroethane, and 3 wt% of BF30Et was added to the polymer, resulting in crosslinking and precipitation of the polymer.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は実施例1で得た2−メチル−7−メチレン−1
,4,6,9−テトラオキサスピロ[4,4:)ノナン
のIRスペクトル図であり、第2図は同化合物のNMR
スペクトル図であり、また第3図は中間原料である7−
クロルメチル−2−メチル−1、4,6,9−テトラオ
キサスピロ[4,4)ノナンのIRスペクトル図であり
、第4図は同化合物のNMRスペクトル回であり、第5
図は参考例1で得た2−メチル−7−メチレン−1,4
,6,9−テトラオキサスピロ[4,4]ノナンのラジ
カル重合物のIRスペクトル図である。 特許出願人の名称 東亜合成化学工業株式会社 手続補正書 昭和58年 メ月−?ぷ日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 1、事件の表示 昭和58年特許願第26304号 2、発明の名称 メチレン基含有スピロオルソカーボネート化合物 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 住所  東京都港区西新橋1丁目14番1号4、補正の
対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 (1)明細書第5頁12〜14行64「ガスクロ寸トゲ
ラフ又は液体クロマトグラフ(HLCと略記する)」と
あるをrGC又はHLCJと補正する。 (2)明細書第6頁4行にr13.Jとあるを「上3.
Jと補正する。 (4)明細書第16頁2行にr O−CH,Jとあるを
r C−、CH,Jと補正する。 以上
Figure 1 shows 2-methyl-7-methylene-1 obtained in Example 1.
, 4,6,9-tetraoxaspiro[4,4:)nonane, and Figure 2 shows the NMR spectrum of the same compound.
Fig. 3 is a spectrum diagram of 7- which is an intermediate raw material.
FIG. 4 is an IR spectrum diagram of chloromethyl-2-methyl-1,4,6,9-tetraoxaspiro[4,4)nonane; FIG. 4 is an NMR spectrum of the same compound;
The figure shows 2-methyl-7-methylene-1,4 obtained in Reference Example 1.
, 6,9-tetraoxaspiro[4,4]nonane radical polymer. Name of patent applicant Toagosei Kagaku Kogyo Co., Ltd. Procedural Amendment 1982 Mezuki-? Kazuo Wakasugi, Commissioner of the Japan Patent Office1, Indication of the case, Patent Application No. 26304 of 1982, Name of the invention, Methylene group-containing spiro-orthocarbonate compound3, Relationship with the person making the amendment, Patent applicant's address, Tokyo 1-14-1-4 Nishi-Shinbashi, Miyakominato-ku, Column 5 of the detailed description of the invention in the specification to be amended, Contents of the amendment (1) Page 5 of the specification, lines 12-14, 64 “Gas black thorn rough or liquid Chromatograph (abbreviated as HLC)" is corrected to rGC or HLCJ. (2) r13 on page 6, line 4 of the specification. It says “J” “Top 3.
Correct with J. (4) On page 16, line 2 of the specification, r O-CH, J is corrected to r C-, CH, J. that's all

Claims (1)

【特許請求の範囲】 16  下式〔1〕で示されるスピロオルツカ−ボネー
ト化合物。 (ここでRは水素原子またはアルキル基を表わす。)
[Claims] 16. A spiro-ortcarbonate compound represented by the following formula [1]. (R represents a hydrogen atom or an alkyl group here.)
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0493517U (en) * 1990-12-28 1992-08-13
US5362889A (en) * 1992-03-06 1994-11-08 The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce Monomers for double ring-opening polymerization with expansion
KR100554161B1 (en) * 2002-11-29 2006-02-22 한국전자통신연구원 Encapsulation thin film materials obtained from tetraoxaspiro or dioxane monomer and encapsulation methods using the same

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