JPS5914548B2 - イオンエツチング法 - Google Patents

イオンエツチング法

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Publication number
JPS5914548B2
JPS5914548B2 JP5056977A JP5056977A JPS5914548B2 JP S5914548 B2 JPS5914548 B2 JP S5914548B2 JP 5056977 A JP5056977 A JP 5056977A JP 5056977 A JP5056977 A JP 5056977A JP S5914548 B2 JPS5914548 B2 JP S5914548B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
etching
layer
ion etching
etching method
conductive layer
Prior art date
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Expired
Application number
JP5056977A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS53135842A (en
Inventor
文雄 山岸
勇次 木村
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は導電層のイオンエッチング法に関し、特にエッ
チングの終了の判定を正確に行なえる様にしたイオンエ
ッチング法に関するものである。
通常のイオンエッチング装置では、絶縁層等をエッチン
グするため、発生したイオンを加速した後二エートライ
ザーで電子を供給し、イオンを中性して、試料面に衝撃
を与える様にしていた。この様なイオンエッチングでは
、被エッチング層のエッチングの終了が正確に判定され
ないとエッチングされてはならない下層までエッチング
されてしまうため好ましくない。このため従来は、エッ
チング時に発生するガスの質量を分析して、エッチング
の終点を検知して５ いた。
ところが、この質量分析を行なうための質量分析装置が
非常に高価である欠点がある。
本発明はこの様な欠点を除去することを目的とし、この
様な目的は、基板上の導電層上にマスク７０を形成し、
該マスクを介してイオンによシ該導電層をエッチングす
る様にしたイオンエッチング法において、エッチング中
に該導電層に流れ＄電流を検出し、該電流が所定の値以
下になつた時エッチングを停止する様にしたことを特徴
とするイオ１５ ンエソチング法によつて達成される。
以下本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。第１図
は、本発明の一実施例を示す図で、第２図は検出器で検
出される電流の変化を示す図である。図中１はガラス基
板、２はＴｉ層、３はレジスク０ 卜層、４ぱ検出器、
１５はイオンビームである。作用を説明すると、ガラス
基板１上に蒸着により、Ｔｉ層２を形成し、更にレジス
ト層３によりマスクを形成する。次に図示しないイオン
源からイオンビーム５を２５レジストを介して、Ｔｉ層
２に衝突させて、Ｔｉ層２のエッチングを行なう。
この時ニユートライザーの作用を弱めて、エッチングす
ると、Ｔｉ層２にイオン電流が流れる。
第２図は、Ｔｉ層２に流れる電流を検出器４で３０モニ
ターしたもので、横軸は時間、縦軸は電流値を示す。図
から明らかな様にエッチングが進み、所定時間経過する
と、急に電流値が減少する。これはＴｉ層２がエッチン
グされてしまい、イオンがＴｉ層２に衝突しなくなつた
ためである。３５この方法において、ニユートラィザー
の作用を強めると逆に電子電流が流れ、極性は異なるが
、同様の電流変化を検出することが可能である。
ｉＣり周ニユートライザ一の働きを弱めるとレジストの
エツチングレートが低下する利点がある。
以上述べた様に本発明によれば、導電層に流れる電流の
変化を検出して、エツチングの終了を検知する様にして
いるので高価な質量分析装置を用いる必要がなくなる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例を示す図、第２図は検出器に
流れる電流を示す図である。 図中１はガラス基板、２はＴｉ層、３はレジスト層、４
は検出器である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ 基板上の導電層上にマスクを形成し、該マスクを形
    成し、該マスクを介してイオンにより該導電層をエッチ
    ングする様にしたイオンエッチング法において、エッチ
    ング中に該導電層に流れる電流を検出し、該電流が所定
    の値以下になつた時エッチングを停止する様にしたこと
    を特徴とするイオンエッチング法。
JP5056977A 1977-04-30 1977-04-30 イオンエツチング法 Expired JPS5914548B2 (ja)

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JPS53135842A JPS53135842A (en) 1978-11-27
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JPH0434682Y2 (ja) * 1985-04-30 1992-08-18

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