JPS5914132A - 磁気テ−プ転写装置 - Google Patents
磁気テ−プ転写装置Info
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- JPS5914132A JPS5914132A JP12353282A JP12353282A JPS5914132A JP S5914132 A JPS5914132 A JP S5914132A JP 12353282 A JP12353282 A JP 12353282A JP 12353282 A JP12353282 A JP 12353282A JP S5914132 A JPS5914132 A JP S5914132A
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- magnetic
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- tapes
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/86—Re-recording, i.e. transcribing information from one magnetisable record carrier on to one or more similar or dissimilar record carriers
- G11B5/865—Re-recording, i.e. transcribing information from one magnetisable record carrier on to one or more similar or dissimilar record carriers by contact "printing"
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は強磁性薄膜を非磁性基体に設けて構成した磁気
テープをマスクテープとして用い、かつ転写バイアス磁
界をテープ面に傾斜してマスクテープの磁化困難軸方向
に印加することにより、同じ抗磁力を有するテープへの
転写、あるいは従来に比して低い抗磁力を有するマスク
テープからの転写を可能にした磁気接触転写装置に関す
るものである。
テープをマスクテープとして用い、かつ転写バイアス磁
界をテープ面に傾斜してマスクテープの磁化困難軸方向
に印加することにより、同じ抗磁力を有するテープへの
転写、あるいは従来に比して低い抗磁力を有するマスク
テープからの転写を可能にした磁気接触転写装置に関す
るものである。
捷ず、第1図以下を用いて従来の代表的な転写方式につ
いて説明する。第1図は一括巻取り転写方式の概略の構
成図を示すものである。記録済マスタテープの供給リー
ル2およびスレーブテープの供給リール4よりそれぞれ
記録済マスタテープ1および未記録のスレーブテープ3
が導出され、互の磁性層を向い合せた状態で走行する。
いて説明する。第1図は一括巻取り転写方式の概略の構
成図を示すものである。記録済マスタテープの供給リー
ル2およびスレーブテープの供給リール4よりそれぞれ
記録済マスタテープ1および未記録のスレーブテープ3
が導出され、互の磁性層を向い合せた状態で走行する。
次に両テープは固定ガイドボスト9の摺動面に一定角度
巻付けられ、続いてその状態でギヤプスタン已に一定角
巻刊けられた後、巻取りリール10上に共に巻取られる
。巻取リール10は支点11を中心に回転可能なアーム
12上に設けられ、ばね8の付勢力によって常に巻取り
−ル10上に巻かれた両テープ6の最外周がキャプスタ
ン5に圧接し、巻かれた両テープ6は巻かれるにしたが
って転写バイアス発生器7の中に入るように構成されて
いる。巻取られた後、巻取リールは低スピードで回転し
その間に転写バイアス発生器7から転写バイアス全テー
プの長手方向に印加して、マスクテープ−Lの信号がス
レーブテープ上に転写されることになる。続いて両テー
プは高速でそれぞれの供給リール2および4上に巻戻さ
れる。
巻付けられ、続いてその状態でギヤプスタン已に一定角
巻刊けられた後、巻取りリール10上に共に巻取られる
。巻取リール10は支点11を中心に回転可能なアーム
12上に設けられ、ばね8の付勢力によって常に巻取り
−ル10上に巻かれた両テープ6の最外周がキャプスタ
ン5に圧接し、巻かれた両テープ6は巻かれるにしたが
って転写バイアス発生器7の中に入るように構成されて
いる。巻取られた後、巻取リールは低スピードで回転し
その間に転写バイアス発生器7から転写バイアス全テー
プの長手方向に印加して、マスクテープ−Lの信号がス
レーブテープ上に転写されることになる。続いて両テー
プは高速でそれぞれの供給リール2および4上に巻戻さ
れる。
第2図は転写バイアス発生器の概略の構成図を示すもの
である0励磁コイル13に電流を流して珪素鋼板を積層
した磁心14およびこれと対向する磁心16との間に磁
界16を発生せしめ、巻取られた両チーゾロの長手方向
に磁界を印加する。
である0励磁コイル13に電流を流して珪素鋼板を積層
した磁心14およびこれと対向する磁心16との間に磁
界16を発生せしめ、巻取られた両チーゾロの長手方向
に磁界を印加する。
つまり第3図において、x9y9zはそれぞれテープの
長手方向、巾方向、厚み方向を示すものであるが転写・
・イアス磁界16は矢印の示すように、主としてテープ
長手方向に加えられる。
長手方向、巾方向、厚み方向を示すものであるが転写・
・イアス磁界16は矢印の示すように、主としてテープ
長手方向に加えられる。
このようにして、マスクテープ1の磁性層17の磁化2
0から発生する信号磁界19によってスレーブテープ3
の磁性層18が磁化され、マスタチーブ上の信号がスレ
ーブテープへ運転される。
0から発生する信号磁界19によってスレーブテープ3
の磁性層18が磁化され、マスタチーブ上の信号がスレ
ーブテープへ運転される。
上述の方式で転写した代表的な転写特性を示すと第4図
の様になる。
の様になる。
ごこでスレーブテープは抗磁力Hcが670oe。
Brは1470gaussのco系酸酸化鉄テープ用い
たO 一般にマスタテープからスレーブテープ上に信号を転写
する場合、マスクテープの抗磁力は、スレーブテープの
抗磁力の約2.5〜3倍必要とされる。第4図は上述の
スレーブテープに対して、1500 o6および200
00eの抗磁力を有するマスタテープを用い転写特性を
測定したものである。
たO 一般にマスタテープからスレーブテープ上に信号を転写
する場合、マスクテープの抗磁力は、スレーブテープの
抗磁力の約2.5〜3倍必要とされる。第4図は上述の
スレーブテープに対して、1500 o6および200
00eの抗磁力を有するマスタテープを用い転写特性を
測定したものである。
この時のへラドチーブの相対スピードIri 5.8
m /i:ecであり、記録波長は約1μmの信号を使
用した。
m /i:ecであり、記録波長は約1μmの信号を使
用した。
1500oeの抗磁力のマスクテープの場合、転写バイ
アス磁界強度を増加するにつれ、転写出力レベル21は
次第に増大し、マスタチーブ上の磁化が転写バイアス磁
界によって消去され、マスクテープ出力レベル23が低
下し始める近傍で最大となり、その後、マスクテープ出
力の減少とともに減衰する。
アス磁界強度を増加するにつれ、転写出力レベル21は
次第に増大し、マスタチーブ上の磁化が転写バイアス磁
界によって消去され、マスクテープ出力レベル23が低
下し始める近傍で最大となり、その後、マスクテープ出
力の減少とともに減衰する。
これに対して、2000oeの抗磁力のマスクテープの
場合には、特性24のごとく転写バイアス磁界にて消去
されにくいため、転写バイアスに41して22の特性の
様に、大巾な転写出力を得ることができる〇 以上の様に良質な信号を得るためには、スレーブテープ
の抗磁力に対してマスクテープのHcは極めて大きなも
のとなる。
場合には、特性24のごとく転写バイアス磁界にて消去
されにくいため、転写バイアスに41して22の特性の
様に、大巾な転写出力を得ることができる〇 以上の様に良質な信号を得るためには、スレーブテープ
の抗磁力に対してマスクテープのHcは極めて大きなも
のとなる。
上記の例で(d 2000 o eの場合、スレーブテ
ープの約3倍となっている。
ープの約3倍となっている。
丑だ今後HCが10.000e前後の合金粉末テープあ
るいは強磁性薄膜形テープなどをビデオ用テープとして
試作されており、これら全スレーブテープとした場合の
マスクテープは約30QOOe以上の抗磁力が心安とさ
れることになる。前述の1500oeと2000oeの
マスタテープはFe−C0系合金粉末の微粒子を塗布し
たものであるが、塗布形テープで300000の抗磁力
を達成することは極めて困難であり、現時点では開発の
見通しが立たない状態にある。また、強磁性薄膜形テー
プでも従来の転写方式を用いれば同様なことが言える。
るいは強磁性薄膜形テープなどをビデオ用テープとして
試作されており、これら全スレーブテープとした場合の
マスクテープは約30QOOe以上の抗磁力が心安とさ
れることになる。前述の1500oeと2000oeの
マスタテープはFe−C0系合金粉末の微粒子を塗布し
たものであるが、塗布形テープで300000の抗磁力
を達成することは極めて困難であり、現時点では開発の
見通しが立たない状態にある。また、強磁性薄膜形テー
プでも従来の転写方式を用いれば同様なことが言える。
本発明はこの点に鑑み、強磁性金属薄膜テープの膜厚方
向の磁気特性の変化および膜厚方向に転写バイアスを印
加することによる反磁界を利用し同一抗磁力を有するテ
ープ間の転写および比較的小さな抗磁力を有するマスタ
テープから、スレーブテープへ信号を転写できるように
したものである0 本発明に用いるマスクテープは、蒸着、スパッタ、メッ
キなどの手段により、ポリエチレンテレフタレートポリ
イミド、ポリアミド系の有機物質などのフィルムあるい
は他の非磁性基板上にGO+Go−Gr、 Go−Ni
等の強磁性薄膜を形成し、テープ状にスリットしたもの
である。以下はテープ状のものについて説明するがシー
ト状の媒体の転写に関しても同様である。
向の磁気特性の変化および膜厚方向に転写バイアスを印
加することによる反磁界を利用し同一抗磁力を有するテ
ープ間の転写および比較的小さな抗磁力を有するマスタ
テープから、スレーブテープへ信号を転写できるように
したものである0 本発明に用いるマスクテープは、蒸着、スパッタ、メッ
キなどの手段により、ポリエチレンテレフタレートポリ
イミド、ポリアミド系の有機物質などのフィルムあるい
は他の非磁性基板上にGO+Go−Gr、 Go−Ni
等の強磁性薄膜を形成し、テープ状にスリットしたもの
である。以下はテープ状のものについて説明するがシー
ト状の媒体の転写に関しても同様である。
以下には斜め蒸着法によって作成した強磁性金属薄膜テ
ープを例にとって述べる。斜め蒸着法は基板面に対して
蒸着する原子を入射角を持たせて蒸着せしめるものであ
る。蒸着したグレインは一般に柱状構造を示しており、
蒸着面と傾いた状態に形成される、。
ープを例にとって述べる。斜め蒸着法は基板面に対して
蒸着する原子を入射角を持たせて蒸着せしめるものであ
る。蒸着したグレインは一般に柱状構造を示しており、
蒸着面と傾いた状態に形成される、。
しかしこの柱状の軸の方向が磁気的容易軸方向になるわ
けてはなく、磁性体が薄膜であることによって静磁エネ
ルギーを最小ならしむる反磁界を発生し、柱状のll+
方向からずれて、より面内に近付いた方向をむくことに
なる。これが以下に示す肌6図中の00方向である。
けてはなく、磁性体が薄膜であることによって静磁エネ
ルギーを最小ならしむる反磁界を発生し、柱状のll+
方向からずれて、より面内に近付いた方向をむくことに
なる。これが以下に示す肌6図中の00方向である。
次に第6図以下を用い、本発明の原理について説明する
。
。
簡単のため=IIIll](磁気異方性を持つ単磁区粒
子の1j71転モデルを用いて説明する。第5図に示す
ように非磁性の基板26−ヒの強磁性金属薄膜250面
内の一方向をXllll130、膜面に対して垂直方向
を2軸31にとり、x、z面内で磁界27の磁1iHと
それがX軸となす角度ψを可変する場合、エネルギーE
は下式で表現される。
子の1j71転モデルを用いて説明する。第5図に示す
ように非磁性の基板26−ヒの強磁性金属薄膜250面
内の一方向をXllll130、膜面に対して垂直方向
を2軸31にとり、x、z面内で磁界27の磁1iHと
それがX軸となす角度ψを可変する場合、エネルギーE
は下式で表現される。
E=MHCO3(ψ−θ。−θ) +KdStn 9)
→−KuSinθなおKdは反磁界VCよる異方性定数
で2πM2に等しい。また磁化容易軸方向と2軸とのな
す角度をθ。とじた。Kuは一軸異方性定数である。
→−KuSinθなおKdは反磁界VCよる異方性定数
で2πM2に等しい。また磁化容易軸方向と2軸とのな
す角度をθ。とじた。Kuは一軸異方性定数である。
この時磁化Mは上式のエネルギーを最小にする状態で安
定し、磁化容易軸方向29とθなる角度で安定する。
定し、磁化容易軸方向29とθなる角度で安定する。
上記説明を第6図のベクトル図を用いてモテル的に説明
する。簡単のために、θ○=0として磁化M032がX
軸方向(ここでは磁化容易軸と一致する。)を向いてい
たとする。これに対して磁界H133をψなる角度で印
加すると磁化は上述したごとく、34の方向を向き、再
びH+に取りされば32の位置に戻シx軸方向をむくこ
とになる。
する。簡単のために、θ○=0として磁化M032がX
軸方向(ここでは磁化容易軸と一致する。)を向いてい
たとする。これに対して磁界H133をψなる角度で印
加すると磁化は上述したごとく、34の方向を向き、再
びH+に取りされば32の位置に戻シx軸方向をむくこ
とになる。
またX方向に一度磁化したMOを反転さすためにはψば
900以上である必要がある。
900以上である必要がある。
捷ず磁界H235とH336’i90 以上の角度ψで
印加した場合を考える。磁界強度の弱いH235の場合
には磁化は39のベクトルで示すように若干磁界方向を
むくが磁界を零にすれば再びX軸方向におちつく。
印加した場合を考える。磁界強度の弱いH235の場合
には磁化は39のベクトルで示すように若干磁界方向を
むくが磁界を零にすれば再びX軸方向におちつく。
しかし磁界強度の充分太きfiH336の場合にはベク
トル37の位置まで回転し、磁界H3を零にすれば磁化
は38で示す位置におちつき元の32から38に反転す
る。したがって磁化はMOから−Moに反転したことK
なる。次に磁界の方向をZ方向に加えたH440を太き
くした場合には磁化のべりトルは磁界を加えている間は
41の方向を向くが、磁界を除去するともとのX軸方向
の32のム装置にもどる。
トル37の位置まで回転し、磁界H3を零にすれば磁化
は38で示す位置におちつき元の32から38に反転す
る。したがって磁化はMOから−Moに反転したことK
なる。次に磁界の方向をZ方向に加えたH440を太き
くした場合には磁化のべりトルは磁界を加えている間は
41の方向を向くが、磁界を除去するともとのX軸方向
の32のム装置にもどる。
以上のことをM−H曲線にて判りやすいように説明する
と第7図のようになる。
と第7図のようになる。
第7図42お」:ひ43はそれぞれ単磁区粒子の磁化容
易方向(ψ=0.180 )および磁化困難1tI11
方向(ψ=90)に磁界Hを加えた時のそれぞれの方向
の磁化量M’(5表わしたものであり、これはStor
ner−worfarth モテルとして知ら扛てい
る。すなわち42は磁界を力目え、次いで反転磁界を加
えて、除去する寸でo−a −b −a −e −f−
(J−h−i−にのM−Hカーブを示し、43はo −
b −d −b −o −h −j−h −oとなる。
易方向(ψ=0.180 )および磁化困難1tI11
方向(ψ=90)に磁界Hを加えた時のそれぞれの方向
の磁化量M’(5表わしたものであり、これはStor
ner−worfarth モテルとして知ら扛てい
る。すなわち42は磁界を力目え、次いで反転磁界を加
えて、除去する寸でo−a −b −a −e −f−
(J−h−i−にのM−Hカーブを示し、43はo −
b −d −b −o −h −j−h −oとなる。
これにより判ることは42は磁界を取り除いた後でも磁
界方向に完全に磁化していることであり、43は磁界方
向に対して全く磁化していないことを意味している。し
たがって42は転写バイアス磁界の作用のもとにテープ
上から発生する信号磁界によって、できるだけ多くの残
留磁化が必要とされるスレーブテープとしての特性とし
て適している。
界方向に完全に磁化していることであり、43は磁界方
向に対して全く磁化していないことを意味している。し
たがって42は転写バイアス磁界の作用のもとにテープ
上から発生する信号磁界によって、できるだけ多くの残
留磁化が必要とされるスレーブテープとしての特性とし
て適している。
一方43は強い転写バイアス磁界に対しても信号磁化が
消去されないことがマスクテープの特性として適してい
る。
消去されないことがマスクテープの特性として適してい
る。
したがって転写磁界はできるだけマスクテープに対して
1l−1:磁化困難軸方向ベスレーブテープに対しては
磁化容易軸方向へ印加することが重重しい。
1l−1:磁化困難軸方向ベスレーブテープに対しては
磁化容易軸方向へ印加することが重重しい。
実際のテープの場合には、単磁区粒子の集合体と考えら
れるから、前述のような理想的な角型性の良いM−Hカ
ーブは得られずな捷つだ形となる。
れるから、前述のような理想的な角型性の良いM−Hカ
ーブは得られずな捷つだ形となる。
壕だ本発明ではテープの厚み方向の上記の磁気異方性を
利用している。これは面内の磁気異方性とは大巾に異な
り、後述するように、膜厚方向への磁界の角度によ−、
で著しい磁気特性が変化する性質と薄膜であることによ
って膜厚方向−・の磁化から生ずる4πMS相当の反磁
界により膜内の実効磁界が減少する効果を利用したもの
である。
利用している。これは面内の磁気異方性とは大巾に異な
り、後述するように、膜厚方向への磁界の角度によ−、
で著しい磁気特性が変化する性質と薄膜であることによ
って膜厚方向−・の磁化から生ずる4πMS相当の反磁
界により膜内の実効磁界が減少する効果を利用したもの
である。
したがって第7図では磁化困難軸方向の印加磁界Hが増
加し次いで反転磁界が加えられて、除去されるにつれて
43のo −c−d −c −o −i −j−i −
0のりれき全たどる。このように、膜厚方向には強い反
磁界が作用するため、飽和磁化MSの犬なるマスクテー
プに対しては、マスクテープ上の信号が面内の場合より
さらに消えにくくなる。
加し次いで反転磁界が加えられて、除去されるにつれて
43のo −c−d −c −o −i −j−i −
0のりれき全たどる。このように、膜厚方向には強い反
磁界が作用するため、飽和磁化MSの犬なるマスクテー
プに対しては、マスクテープ上の信号が面内の場合より
さらに消えにくくなる。
本発明は−に記特性および斜め蒸着による強磁性金属薄
膜の強い磁気異方性を利用した有効な転写装置を提供し
ようとするものである。
膜の強い磁気異方性を利用した有効な転写装置を提供し
ようとするものである。
次に本発明に用いる斜め蒸着テープについて、さらに詳
細に第8図以下を用いて説明する。
細に第8図以下を用いて説明する。
第8図は斜め蒸着テープを製造する蒸着装置の構造の一
部を示すものである。基板となるベースフィルム45は
般送用のガイドロール47を経て回転するキャン46上
に一定角度巻きついた状態で走行し、ガイドロール49
を経て巻きとられる。
部を示すものである。基板となるベースフィルム45は
般送用のガイドロール47を経て回転するキャン46上
に一定角度巻きついた状態で走行し、ガイドロール49
を経て巻きとられる。
この場合キャン46の鏡面状に仕上げた表面にベースフ
ィルム45が密接し、かつキャン46の内部に具備した
冷却装置によって有効に冷却−され、ベースフィルム4
6が熱損傷するのを防止している。斜め蒸着法によるテ
ープは基板に対して斜めに蒸着原子の蒸着流全衝突させ
蒸着して得られるものである。
ィルム45が密接し、かつキャン46の内部に具備した
冷却装置によって有効に冷却−され、ベースフィルム4
6が熱損傷するのを防止している。斜め蒸着法によるテ
ープは基板に対して斜めに蒸着原子の蒸着流全衝突させ
蒸着して得られるものである。
この−例として、COあるいはCO系合金などの強磁性
金属の蒸発源62に電子ビーム63を電子銃51から照
射し、蒸発源52を瞬時的に蒸発せしめて、その蒸気流
を例えば54の位置においては法線n1に対しθ1の角
度で入射せしめ、壕だ基板45がさらに進んだ55の位
置では、その位置の法線n2に対してθ2の角度で入射
せしめる。
金属の蒸発源62に電子ビーム63を電子銃51から照
射し、蒸発源52を瞬時的に蒸発せしめて、その蒸気流
を例えば54の位置においては法線n1に対しθ1の角
度で入射せしめ、壕だ基板45がさらに進んだ55の位
置では、その位置の法線n2に対してθ2の角度で入射
せしめる。
この時01〉θ2 となり、基板45がキャン46にそ
って移動するにつれて連続的に入射角が小さくなる。1
だ48は入射角を制御するマスクである。したがって、
上述の方法で得られた蒸着層の長手方向に対する破断面
を走査形電子顕微鏡で観察すると第9図の様になる。
って移動するにつれて連続的に入射角が小さくなる。1
だ48は入射角を制御するマスクである。したがって、
上述の方法で得られた蒸着層の長手方向に対する破断面
を走査形電子顕微鏡で観察すると第9図の様になる。
つまり基板45との境界近傍ではかなり傾斜しているが
、次第に立った状態にコラム66が形成される。次に以
上の製造方法によって試作したテープの緒特性について
説明する。
、次第に立った状態にコラム66が形成される。次に以
上の製造方法によって試作したテープの緒特性について
説明する。
第10図人は試作テープ57の長手方向fx軸方向に、
巾方向を紙面と垂直な方向VC配置した状態、したがっ
てテープ厚みの方向はy軸に配置し、外部磁場Hをテー
プ面に斜めに印加して、振動試料形の磁気特性測定装置
VSMを用いて、磁気時・t’t′に測定する時の配置
を示したものである。
巾方向を紙面と垂直な方向VC配置した状態、したがっ
てテープ厚みの方向はy軸に配置し、外部磁場Hをテー
プ面に斜めに印加して、振動試料形の磁気特性測定装置
VSMを用いて、磁気時・t’t′に測定する時の配置
を示したものである。
第10図Bは、第10図人の配置でテープ面にχ・1す
る角度ψを変えて得られたB−H線であり、例えは58
,59.60はそれぞれψの値が○ 。
る角度ψを変えて得られたB−H線であり、例えは58
,59.60はそれぞれψの値が○ 。
−45,90の時の曲線である。第10図Bから別かる
ように角度によって抗磁力Hcが変化しており、丑だ同
時に角型比Br / Bmも変化している。HCおよび
Br/Bmを」二記方法によって測定し、ψにχ・1す
る変化を表わすと第11図の様になる。これより判かる
ように−・例を示すとHcはψがOでば1000oe
、 Oを中心にして正方向は角度を増すにつれて増大し
+80〜+90の間で極大値を持つ。丑だ負方向では角
度とともに増大し一60近傍で最大値となり、次に一7
3近傍で極小値となって再び角度を増すと増大する特性
曲線61が得られた。
ように角度によって抗磁力Hcが変化しており、丑だ同
時に角型比Br / Bmも変化している。HCおよび
Br/Bmを」二記方法によって測定し、ψにχ・1す
る変化を表わすと第11図の様になる。これより判かる
ように−・例を示すとHcはψがOでば1000oe
、 Oを中心にして正方向は角度を増すにつれて増大し
+80〜+90の間で極大値を持つ。丑だ負方向では角
度とともに増大し一60近傍で最大値となり、次に一7
3近傍で極小値となって再び角度を増すと増大する特性
曲線61が得られた。
一方Br/Bmは+20の角度で最大となり、−73°
近傍で極小となる62の特性曲線が得られた。
近傍で極小となる62の特性曲線が得られた。
以」二の磁気特性は、前述したごとく蒸着テープのコラ
ムのかだむきで決定されるのではなく、薄膜であること
によって静磁エネルギーを最小ならしむる反磁界によっ
て、コラムの軸からずれ、より面内に近すいた方向で決
定している。
ムのかだむきで決定されるのではなく、薄膜であること
によって静磁エネルギーを最小ならしむる反磁界によっ
て、コラムの軸からずれ、より面内に近すいた方向で決
定している。
すなわち、この方向が磁化困難軸方向を示す第11図の
一73近傍における極小点を示し、面内から20程度磁
化容易軸方向が傾むいている。同時に磁化容易軸方向を
示す角型比Br/Bmの最大値も+20方向となり良く
一致l〜でいる。
一73近傍における極小点を示し、面内から20程度磁
化容易軸方向が傾むいている。同時に磁化容易軸方向を
示す角型比Br/Bmの最大値も+20方向となり良く
一致l〜でいる。
次に本発明の接触転写の原理について、第12図および
第13図を用いて説明する〇 第12図Aに示すように斜め蒸着による強磁性金属薄膜
64を基板66上に形成したマスクテープと磁性層6了
と基板66とからなるスレーブテープを用い強磁性薄膜
上に記録された信号磁化68から発生する69によって
スレーブチー7”ノ磁付層67を磁化する場合を考える
。
第13図を用いて説明する〇 第12図Aに示すように斜め蒸着による強磁性金属薄膜
64を基板66上に形成したマスクテープと磁性層6了
と基板66とからなるスレーブテープを用い強磁性薄膜
上に記録された信号磁化68から発生する69によって
スレーブチー7”ノ磁付層67を磁化する場合を考える
。
この状態に、後述するようにマスタテープが消去されに
くい方向ψ。に転写バイアス磁界70企印加する。この
場合第12図Bに示すように信号磁界71と転写バイア
ス磁界72との合成による実効磁界がスレーブテープ上
に加わり、前述の原理に従ってスレーブテープ」二の磁
化74が反転された時、マスタテープ上の信号磁界71
によって磁化され、第13図に示すように75の信号磁
化がイ4Iられる。当然ながらマスタテープとして要求
される特性としてはマスタテープ上に記録された信号が
、充分高いレベルの転写バイアス磁界によって消去され
ず、常に強い信号磁界全発生していることである。
くい方向ψ。に転写バイアス磁界70企印加する。この
場合第12図Bに示すように信号磁界71と転写バイア
ス磁界72との合成による実効磁界がスレーブテープ上
に加わり、前述の原理に従ってスレーブテープ」二の磁
化74が反転された時、マスタテープ上の信号磁界71
によって磁化され、第13図に示すように75の信号磁
化がイ4Iられる。当然ながらマスタテープとして要求
される特性としてはマスタテープ上に記録された信号が
、充分高いレベルの転写バイアス磁界によって消去され
ず、常に強い信号磁界全発生していることである。
以下に本発明者が発見したマスクテープ上の信号磁界(
外部磁界、この場合は転写バイアス磁界に相当する。)
の強度と印加磁界方向による影響について第14図を用
い説明する0 第14図はあらかじめ、BS =7000 qauBB
。
外部磁界、この場合は転写バイアス磁界に相当する。)
の強度と印加磁界方向による影響について第14図を用
い説明する0 第14図はあらかじめ、BS =7000 qauBB
。
HC:10000eの斜め蒸着テープを長手方向に充分
大きな直流磁界により飽和まで磁化した時の最大残留磁
束密度Broと、この状態のテープに反転磁界の印加方
向(テープ長手方向に対する角度ψ)と強度を変えて加
え、その後の残留磁束密度Brψとの比Brψ/ B
rψの変化を測定したものであるO 該反転磁界強度を600os 、 I K oe、 1
.5Koe 、 2 Koe 、 2.5 Koe 、
3 Koeと変えて測定した。
大きな直流磁界により飽和まで磁化した時の最大残留磁
束密度Broと、この状態のテープに反転磁界の印加方
向(テープ長手方向に対する角度ψ)と強度を変えて加
え、その後の残留磁束密度Brψとの比Brψ/ B
rψの変化を測定したものであるO 該反転磁界強度を600os 、 I K oe、 1
.5Koe 、 2 Koe 、 2.5 Koe 、
3 Koeと変えて測定した。
第12図より判かるように比較的磁界強度の小さい場合
には、磁界印加方向ψに対してBrψ/B r 。
には、磁界印加方向ψに対してBrψ/B r 。
はなだらかに変化するが、磁界強度が大きくなるにつt
で急峻に変化することが判明した。前述のごとく、この
テープサンプルではHcが極小になる磁界印加方向は−
73であり63の一点鎖線で示す角度である。
で急峻に変化することが判明した。前述のごとく、この
テープサンプルではHcが極小になる磁界印加方向は−
73であり63の一点鎖線で示す角度である。
本来、この方向に磁界を印加した時が最も消去されにぐ
いと考えられるが、実際には900〜80゜が最も消去
されにくい方向になっている。
いと考えられるが、実際には900〜80゜が最も消去
されにくい方向になっている。
これは薄膜のため膜厚方向に強い反磁界が発生し蒸着膜
内部の実効的な磁界が減少するためと考えられる。その
ため、該反磁界による効果と蒸着膜の磁化困難軸方向に
反転磁界を加える効果とによって例えば1KOeの転写
バイアスでは+86°〜−50の領域に消去されにくい
角度が発生している0 次に本発明の具体一実施例について説明する。
内部の実効的な磁界が減少するためと考えられる。その
ため、該反磁界による効果と蒸着膜の磁化困難軸方向に
反転磁界を加える効果とによって例えば1KOeの転写
バイアスでは+86°〜−50の領域に消去されにくい
角度が発生している0 次に本発明の具体一実施例について説明する。
第15図は前述した斜め蒸着したテープを用い同一のテ
ープ間で接触転写する場合のマスタテープ76の磁化容
易Il!I11方向了8と方向−ブテープ了7の磁化容
易軸方向79との位置関係を示したものである。以上の
ごとくそれぞれテープ長手方向に対して→−θと一〇の
角度で勾配の符合が異なる。
ープ間で接触転写する場合のマスタテープ76の磁化容
易Il!I11方向了8と方向−ブテープ了7の磁化容
易軸方向79との位置関係を示したものである。以上の
ごとくそれぞれテープ長手方向に対して→−θと一〇の
角度で勾配の符合が異なる。
第15図のごとく両テープ全接触せしめ、転写バイアス
磁界をテープ厚み方向から、テープ長手方向に対して例
えばψ=−66°の角度で印加した。
磁界をテープ厚み方向から、テープ長手方向に対して例
えばψ=−66°の角度で印加した。
この角度はスレーブテープに対してはψ=+65゜に相
当する。スレーブテープの動作点は第11図のψ=+6
5におけるカーブ上にあり、Hc==1400 oe
Br /BH1=0.6となる。したがって、一般に磁
場転写では、良質の信号を得るにはスレーブテープのH
cの1.5倍程度の転写バイアス磁界が必要とされるの
で、上記実施例の場合には2100oe程度の転写バイ
アス磁界が用いられる。この場合マスタテープ上の信号
は転写バイアス磁界によって第14図からも明らかなよ
うに−1、sdBの劣化程度であり、実用上問題なく良
質の画像信号が得られた。
当する。スレーブテープの動作点は第11図のψ=+6
5におけるカーブ上にあり、Hc==1400 oe
Br /BH1=0.6となる。したがって、一般に磁
場転写では、良質の信号を得るにはスレーブテープのH
cの1.5倍程度の転写バイアス磁界が必要とされるの
で、上記実施例の場合には2100oe程度の転写バイ
アス磁界が用いられる。この場合マスタテープ上の信号
は転写バイアス磁界によって第14図からも明らかなよ
うに−1、sdBの劣化程度であり、実用上問題なく良
質の画像信号が得られた。
次に第16図および第17図を用いて本発明の磁気テー
プ転写装置の具体一実施例に関して説明する。
プ転写装置の具体一実施例に関して説明する。
第16図は磁気テープ転写装置の概略の構成図を示した
ものである。記録済マスタテープの供給リール80およ
びスレーブテープの供給リール82よりそれぞれ記録済
マスタテープ84および未記録のスレーブテープ85が
導出され、互の磁性層を向い合せた状態で走行する。次
に両テープはそれぞれテンションアーム86および87
全経て固定カイトボス)90に一定角度巻きつけられて
密接し、続いて転写磁界発生器92で転写磁界全印加さ
る0ここでマスタテープ上の信号カスレープテープ上に
転写されることになる。
ものである。記録済マスタテープの供給リール80およ
びスレーブテープの供給リール82よりそれぞれ記録済
マスタテープ84および未記録のスレーブテープ85が
導出され、互の磁性層を向い合せた状態で走行する。次
に両テープはそれぞれテンションアーム86および87
全経て固定カイトボス)90に一定角度巻きつけられて
密接し、続いて転写磁界発生器92で転写磁界全印加さ
る0ここでマスタテープ上の信号カスレープテープ上に
転写されることになる。
次に一上記マスタテープ84とスレーブテープ85は固
定のガイドボスト91とそれぞれのテンションアーム8
9および89を経てマスタテープ川巻取リール81.j
つ・よO・スレーブテープ巻取りリール83上にそれぞ
れ巻き取られ、転写が完了する。
定のガイドボスト91とそれぞれのテンションアーム8
9および89を経てマスタテープ川巻取リール81.j
つ・よO・スレーブテープ巻取りリール83上にそれぞ
れ巻き取られ、転写が完了する。
第17図は転写磁界発生器92の構成を示したものであ
る0、 記録済マスタテープ84と未記録のスレーブテープ85
の磁性層を密接した状態で第一の磁極94をガラス95
てモールドした摺動部97に、一定角度巻きつけて走行
せしめる。この摺動部は両テープをさらに密接すると同
時に転写磁界を印加できる効果を持つものである。ざら
に両テープを介して第一の磁極94に対向した第二の磁
極93を、さらに第二の磁極93に励磁用巻線96を設
ける。
る0、 記録済マスタテープ84と未記録のスレーブテープ85
の磁性層を密接した状態で第一の磁極94をガラス95
てモールドした摺動部97に、一定角度巻きつけて走行
せしめる。この摺動部は両テープをさらに密接すると同
時に転写磁界を印加できる効果を持つものである。ざら
に両テープを介して第一の磁極94に対向した第二の磁
極93を、さらに第二の磁極93に励磁用巻線96を設
ける。
この励磁用巻線96には転写バイアス電流を流して励磁
し、第二の磁極より磁界を発生せしめ、さらに第一の磁
極94を磁化することによって、第一の磁極94の近傍
に強い転写磁界98を発生せしめる。
し、第二の磁極より磁界を発生せしめ、さらに第一の磁
極94を磁化することによって、第一の磁極94の近傍
に強い転写磁界98を発生せしめる。
そこで密接した両テープは第17図に示すことく第一磁
極97の近傍で両テープの面に対して傾斜した方向に転
写磁界を受け、前述した原理にもとづいてマスタテープ
上の信号がスレーブテープ」二に転写するものである。
極97の近傍で両テープの面に対して傾斜した方向に転
写磁界を受け、前述した原理にもとづいてマスタテープ
上の信号がスレーブテープ」二に転写するものである。
第一の磁極94としては飽和磁化の高く、磁化率の犬な
るパーマロイ、センダスト、各種アモルファスなどの金
属磁性材料が適しているがフェライト磁性材料でも適用
できる。
るパーマロイ、センダスト、各種アモルファスなどの金
属磁性材料が適しているがフェライト磁性材料でも適用
できる。
また第一の磁極94のIt] tは、第二の磁極93か
ら発生する磁界によって磁化され、この磁化された第一
の磁極94から発生する磁界がスレ−ブテ−グのベース
の厚みを介して、スレーブテープの磁性層を充分磁化で
きる強さになるよう設馴し、その範囲ではできるたけ狭
い方が良好である。−例としてスレーブテープとしてベ
ースフィルム厚が約10μm1その上に0.1511m
のGo−Ni の磁性層を形成1−だもの、第一の磁極
94として1101J厚のセンダストヲ用いた。この場
合、センダストの第一の磁極94の先端から約10μm
離れたスレーブテープの磁性層には、センダストの第一
の磁極を飽和1で磁化した時、センダストの飽和磁束度
密は約8000 gaussとすれ(ば、この約狛の値
2700 gaussの磁界を発生し得る0したがって
第二の磁極93に巻かgだ励磁巻線96へ流す電流によ
って最適な転写・ぐイアス磁界を選定できるものである
。 、 またさらにマスクテープとスレーブテープの組合せによ
って犬なる転写)・イアスが必要な場合には、第一の磁
極の[1]tと第一の磁極からの距離を選ぶことによっ
て適合できるものである。
ら発生する磁界によって磁化され、この磁化された第一
の磁極94から発生する磁界がスレ−ブテ−グのベース
の厚みを介して、スレーブテープの磁性層を充分磁化で
きる強さになるよう設馴し、その範囲ではできるたけ狭
い方が良好である。−例としてスレーブテープとしてベ
ースフィルム厚が約10μm1その上に0.1511m
のGo−Ni の磁性層を形成1−だもの、第一の磁極
94として1101J厚のセンダストヲ用いた。この場
合、センダストの第一の磁極94の先端から約10μm
離れたスレーブテープの磁性層には、センダストの第一
の磁極を飽和1で磁化した時、センダストの飽和磁束度
密は約8000 gaussとすれ(ば、この約狛の値
2700 gaussの磁界を発生し得る0したがって
第二の磁極93に巻かgだ励磁巻線96へ流す電流によ
って最適な転写・ぐイアス磁界を選定できるものである
。 、 またさらにマスクテープとスレーブテープの組合せによ
って犬なる転写)・イアスが必要な場合には、第一の磁
極の[1]tと第一の磁極からの距離を選ぶことによっ
て適合できるものである。
一方第二の磁極はMn −Zn系のフェライト磁性利金
もって構成し、第二の磁極の第一の磁極と近接する側の
二ソ/に曲率を持たせ、捷だ第一の磁極と対向する面積
を充分大なるようしこすることによってマスタテープが
油出されるような強い磁界が発生するのを防止している
。なお第二二の磁極の材料としては、その他のフェライ
ト材、金属磁性材料も用いることができる。
もって構成し、第二の磁極の第一の磁極と近接する側の
二ソ/に曲率を持たせ、捷だ第一の磁極と対向する面積
を充分大なるようしこすることによってマスタテープが
油出されるような強い磁界が発生するのを防止している
。なお第二二の磁極の材料としては、その他のフェライ
ト材、金属磁性材料も用いることができる。
また第一の磁極をモールドあるいは被ふくする桐料とし
ては耐マモウ性のある非磁性フェライト。
ては耐マモウ性のある非磁性フェライト。
セラミック利などの非磁性物質は全て適用できる。
両テーグに加わる磁界の方向ψは第一の磁極と第二の磁
極のテープ長手方向の距離βとテープ厚み方向の距離り
の関数で極めて容易に決定さる。
極のテープ長手方向の距離βとテープ厚み方向の距離り
の関数で極めて容易に決定さる。
それはほぼtan(h/β)で決捷り、磁界方向および
強度に分布を持つが前述した磁界の印加方向に容易に設
計することができるものである。
強度に分布を持つが前述した磁界の印加方向に容易に設
計することができるものである。
上述した磁気テープ転写装置を用いて同一テープ間で転
写したところ、実用上極めて良好な画像信号が得られた
。
写したところ、実用上極めて良好な画像信号が得られた
。
以上のごとく、同一テープ間でもマスクテープの磁化容
易軸方向とスレーブテープの磁化容易1咄とテープ長手
方向となす勾配の正負の符合が異なるように配置し、転
写バイアス磁界を所定の角度と強度を設定することによ
って、接触転写が可能(でなるものである。
易軸方向とスレーブテープの磁化容易1咄とテープ長手
方向となす勾配の正負の符合が異なるように配置し、転
写バイアス磁界を所定の角度と強度を設定することによ
って、接触転写が可能(でなるものである。
上記実施例は同一テープ間の例であるが、もちろん、ス
レーブテープとしてきらにHcが小さく、動作点におけ
るBr78mの大きなテープを用いることが重重しい。
レーブテープとしてきらにHcが小さく、動作点におけ
るBr78mの大きなテープを用いることが重重しい。
捷だスレーブテープとしてr Fe2031 CrO
21CO−酸化鉄、その仙台金粉末など塗布型テープを
用いる場合も同様に転写可能であり、この場合には次の
様な特徴がある。前述したように本発明に用いた強磁性
金属薄膜テープの場合、膜厚方向からの反磁界は最大4
πMsであり7000〜10000oe、これに対して
塗布型では1000〜50000eである。従って前者
をマスクテープとして、後者全スレーブテープに用いる
ことによって各テープ内部での実効磁界に差を生じせし
めて、有効な転写を可能にすることができるものである
。
21CO−酸化鉄、その仙台金粉末など塗布型テープを
用いる場合も同様に転写可能であり、この場合には次の
様な特徴がある。前述したように本発明に用いた強磁性
金属薄膜テープの場合、膜厚方向からの反磁界は最大4
πMsであり7000〜10000oe、これに対して
塗布型では1000〜50000eである。従って前者
をマスクテープとして、後者全スレーブテープに用いる
ことによって各テープ内部での実効磁界に差を生じせし
めて、有効な転写を可能にすることができるものである
。
丑だスレーブテープとしてC0−Cr等の垂直記録媒体
を用いる場合には、スレーブテープの磁化容易軸は膜面
に垂直のため動作点におけるBr78mは極めて良好に
選定可能であり、第14図にも示したようにマスタテー
プが最も消去されにくい90方向の転写バイアス磁界を
用いることによって良質の信号を得ることができるもの
である。
を用いる場合には、スレーブテープの磁化容易軸は膜面
に垂直のため動作点におけるBr78mは極めて良好に
選定可能であり、第14図にも示したようにマスタテー
プが最も消去されにくい90方向の転写バイアス磁界を
用いることによって良質の信号を得ることができるもの
である。
以上の様に転写バイアス磁界の方向と強度は、スレーブ
テープによって異なるが、例えは最近の高密度言己録用
としてco酸化鉄、CrO2、Fe系合金などテープの
HCは550〜1400oe であり、捷だ斜め蒸着テ
ープのHcは700〜1000oeなどである。
テープによって異なるが、例えは最近の高密度言己録用
としてco酸化鉄、CrO2、Fe系合金などテープの
HCは550〜1400oe であり、捷だ斜め蒸着テ
ープのHcは700〜1000oeなどである。
したがってHaの小さなテープ例えば550oe程度の
CO酸化鉄テープに転写するためには、その1.6倍の
転写バイアス磁界強度は約850oeが適当であり、こ
の場合、印加磁界方向は+85゜〜−48が最適であっ
た。一方、蒸着テープの場合、第11図のごと< Hc
が角度ψによって変化するが動作点において、スレーブ
テープのHc−1500oeの場合には、2.3Koe
の転写バイアス磁界強度と−60〜+85 が実験的に
良質の画質を得るのに適していた。4 すなわちマスクテープの磁化困難軸方向全中心にして正
方向には+20°負方向には一25°の範囲の方向に転
写バイアス磁界を印加することによって、マスタテープ
の信号の劣化が−2〜−3dB ・以内にとど捷
り実用可能な範囲内で使用できることか判った。
CO酸化鉄テープに転写するためには、その1.6倍の
転写バイアス磁界強度は約850oeが適当であり、こ
の場合、印加磁界方向は+85゜〜−48が最適であっ
た。一方、蒸着テープの場合、第11図のごと< Hc
が角度ψによって変化するが動作点において、スレーブ
テープのHc−1500oeの場合には、2.3Koe
の転写バイアス磁界強度と−60〜+85 が実験的に
良質の画質を得るのに適していた。4 すなわちマスクテープの磁化困難軸方向全中心にして正
方向には+20°負方向には一25°の範囲の方向に転
写バイアス磁界を印加することによって、マスタテープ
の信号の劣化が−2〜−3dB ・以内にとど捷
り実用可能な範囲内で使用できることか判った。
また、転写バイアス磁界の方向を磁化困難軸方向(ここ
では−73)から+85の範囲に選んだ場合には15K
Oe程度の極めて大きな転写バイアス磁界強度に対して
も、第14図における4Koe印加時のカーブと同じ特
性が得られてマスクテープ上の信号はほとんど消去され
ないことも同時に判明した。
では−73)から+85の範囲に選んだ場合には15K
Oe程度の極めて大きな転写バイアス磁界強度に対して
も、第14図における4Koe印加時のカーブと同じ特
性が得られてマスクテープ上の信号はほとんど消去され
ないことも同時に判明した。
したがって、この範囲の転写バイアス磁界を利用するこ
とにより、さらに良質な信号が得られるものである。
とにより、さらに良質な信号が得られるものである。
以上のように本発明によれば同一テープあるいはHcの
比較的小さなテープからの接触転写が可能となる。また
、転写バイアス磁界の方向をマスクテープの磁化困難方
向に対して正方向に+2o0負方向に一25範囲内に選
ぶことにより、マスクテープ上の信号がほとんど消去さ
れない状態で使用でき、良質の転写出力を得ることがで
きる。
比較的小さなテープからの接触転写が可能となる。また
、転写バイアス磁界の方向をマスクテープの磁化困難方
向に対して正方向に+2o0負方向に一25範囲内に選
ぶことにより、マスクテープ上の信号がほとんど消去さ
れない状態で使用でき、良質の転写出力を得ることがで
きる。
第1図は転写装置の概略構成を示す平面図、第2図は転
写バイアス磁界発出器の概略構成平面図、第3図は転写
の原理を示す斜視図、第4図は従来の転写特性図、第6
図および第6図は強磁性金属薄膜テープの原理図、第7
図は強磁性金属薄膜テープのM−H特性図、第8図(は
斜め蒸着テープ製造装置の構成図、第9図は斜め蒸着テ
ープの断面を模式的に示す図、!10図Aは斜め蒸着テ
ープの厚み方向に対する測定方向を示す図、Bは同斜め
蒸着テープの特性図、第11図は斜め蒸着テープのHc
およびBr/By11の特性図、第12図A。 Bおよび第13図は本発明の接触転写の原理図、第14
図は本発明の転写バイアス磁界方向と強度に対するマス
クテープの特性図、第15図は本発明の接触転写の原理
図、第16図は本発明の磁気テープ転写装置の概略図、
第17図は本発明の転写磁界発生器の構成図である。 1・・・・・・マスタテープ、3・・・・・・スレーブ
テープ、7・・・・・・転写バイアス発生器、1o・・
・・・・巻取リール。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 fJl 2図 第3図 第4図 ス し プ 皇z’4バイ了ス(ム界5!渡(初大丁イ適)第6図 第7図 第8図 び 5ン 第9図 第10図 第11図 ザ(■ 第12図 第14図 水車ス槌界j5句(ゾン
写バイアス磁界発出器の概略構成平面図、第3図は転写
の原理を示す斜視図、第4図は従来の転写特性図、第6
図および第6図は強磁性金属薄膜テープの原理図、第7
図は強磁性金属薄膜テープのM−H特性図、第8図(は
斜め蒸着テープ製造装置の構成図、第9図は斜め蒸着テ
ープの断面を模式的に示す図、!10図Aは斜め蒸着テ
ープの厚み方向に対する測定方向を示す図、Bは同斜め
蒸着テープの特性図、第11図は斜め蒸着テープのHc
およびBr/By11の特性図、第12図A。 Bおよび第13図は本発明の接触転写の原理図、第14
図は本発明の転写バイアス磁界方向と強度に対するマス
クテープの特性図、第15図は本発明の接触転写の原理
図、第16図は本発明の磁気テープ転写装置の概略図、
第17図は本発明の転写磁界発生器の構成図である。 1・・・・・・マスタテープ、3・・・・・・スレーブ
テープ、7・・・・・・転写バイアス発生器、1o・・
・・・・巻取リール。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 fJl 2図 第3図 第4図 ス し プ 皇z’4バイ了ス(ム界5!渡(初大丁イ適)第6図 第7図 第8図 び 5ン 第9図 第10図 第11図 ザ(■ 第12図 第14図 水車ス槌界j5句(ゾン
Claims (1)
- 信号記録済みの磁性薄膜テープよりなるマスターテープ
と未記録のスレ一ブテープの磁性層を互に向合せの状態
で走行せしめる手段と、第一の磁極が非磁性利料により
被ふくされ、前記両テープを一定角度巻きつけ両テープ
を密接さぜる摺動部と、前記両テープを介して第一の磁
極に対向する第二の磁極よりなり、かつ前記単一の磁極
および第二の磁極をテープ長手方向に所定の間隔をおい
て配備することてより、前記第一の磁極と第二の磁極間
において両テープの磁性面と傾斜し前記マスタテープの
磁化困難軸方向に転写磁界を印加することを特徴とする
磁気テープ転写装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12353282A JPS5914132A (ja) | 1982-07-14 | 1982-07-14 | 磁気テ−プ転写装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12353282A JPS5914132A (ja) | 1982-07-14 | 1982-07-14 | 磁気テ−プ転写装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5914132A true JPS5914132A (ja) | 1984-01-25 |
Family
ID=14862939
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12353282A Pending JPS5914132A (ja) | 1982-07-14 | 1982-07-14 | 磁気テ−プ転写装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5914132A (ja) |
-
1982
- 1982-07-14 JP JP12353282A patent/JPS5914132A/ja active Pending
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