JPS59139725A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPS59139725A
JPS59139725A JP58012712A JP1271283A JPS59139725A JP S59139725 A JPS59139725 A JP S59139725A JP 58012712 A JP58012712 A JP 58012712A JP 1271283 A JP1271283 A JP 1271283A JP S59139725 A JPS59139725 A JP S59139725A
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JP
Japan
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output
level
transistor
input
level converter
Prior art date
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Application number
JP58012712A
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Japanese (ja)
Inventor
Yukiro Suzuki
鈴木 幸郎
Ikuro Masuda
郁朗 増田
Masahiro Iwamura
将弘 岩村
Shinji Katono
上遠野 臣司
Ken Uragami
浦上 憲
Masayoshi Yoshimura
吉邑 昌義
Toshiaki Matsubara
松原 俊明
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To reduce both the delay time of transmission and the dependency on capacity for a semiconductor IC device by providing an input buffer for TTL- CMOS level conversion and an input buffer for CMOS-TTL level conversion and using a bipolar transistor to the output of a buffer converter. CONSTITUTION:A semiconductor IC device is provided with an input buffer 20 for TTL-CMOS conversion, an output buffer 22 for CMOS-TTL conversion and an internal logical block 21 which works at the CMOS level. The input signals IN1-IN19 of TTL levels are converted into CMOS levels by level converters 201-20n of the buffer 20. These converted signals of CMOS levels are applied to each logical gate of the block 21. Then bipolar output TRs Q1 and Q2 are used to charge or discharge the output capacity CS of each of converters 201-20n of the buffer 20. This device reduces both the delay time of transmission and the dependency on capacity and increases the working speed of the semiconductor IC device.

Description

【発明の詳細な説明】 [技術分野J°本発明は、半導体集積回路装置、たとえ
ば入出力レベルがTTLレベル、内部論理レベルがCM
OSレベルの論理用半導体集積回路装置に利用して有効
な技術に関するものである。
Detailed Description of the Invention [Technical Field J° The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, for example, an input/output level is a TTL level and an internal logic level is a CM
The present invention relates to a technology that is effective for use in OS-level logic semiconductor integrated circuit devices.

[背景技術1第1図は本発明に先立って本願発明者によ
って検討されたところの入出力レベルがTTLレベル、
内部論理レベルがCMOSレベルの論理用半導体集積回
路装置ICのブロック図を示す。
[Background Art 1 Figure 1 shows that the input/output level is TTL level, which was studied by the inventor of the present invention prior to the present invention.
1 shows a block diagram of a logic semiconductor integrated circuit device IC whose internal logic level is CMOS level.

かかる回路装置ICはTTLレベルの入力信号I N=
、I N2−−−− I NnをCMOSレベルの信号
にレベル変換するための入力バッファ10.CMOSレ
ベルで論理演算動作を実行するための内部論理ブロック
11.この内部論理ブロック11のCMOSレベルの出
力信号をTTLレベルの出力信号にレベル変換するため
の出力バッ7ア12を含み、各回路10,11,12は
5ボルトの電源電圧Vccが供給されるとともに、適正
に接地されている。
Such a circuit device IC receives a TTL level input signal I N=
, I N2 ---- Input buffer 10 for level converting I Nn to a CMOS level signal. Internal logic block 11 for performing logical arithmetic operations at CMOS level. It includes an output buffer 12 for level converting the CMOS level output signal of this internal logic block 11 to a TTL level output signal, and each circuit 10, 11, 12 is supplied with a power supply voltage Vcc of 5 volts and , properly grounded.

入力バッファ10の入力端子IN、、lN2−−−−I
Nnに供給されるハイレベル入力電圧V !H16は2
.0ボルト以上またこのローレベル入力電圧ViL、。
Input terminals IN, lN2 of the input buffer 10---I
High level input voltage V supplied to Nn! H16 is 2
.. This low level input voltage ViL, which is higher than 0 volts.

(よ0.8ボルト以下に設定される。従って、入力バッ
ファ10の入力端子IN、、lN2−−−−INnに関
する入力スレッシュホールド電圧V+tll+oは0.
8ボルトと2.0ボルトとの間の1.3〜1.5ボルト
に設定される。
(It is set to 0.8 volts or less. Therefore, the input threshold voltage V+tll+o regarding the input terminals IN, , IN2--INn of the input buffer 10 is 0.8 volts or less.
It is set at 1.3-1.5 volts between 8 volts and 2.0 volts.

一方、入力バッファ10の出力から得られるハイレベル
出力電圧VOH+。は内部論理ブロック11のハイレベ
ル入力電圧V in、 + h等しく設定され、入力バ
ッファ10の出力から得られるローレベル入力電圧VO
LI。は内部論理ブロック11のローレベル入力電圧V
it、++と等しく設定される。従って、内部論理ブロ
ック11内のCMOSインバータを構成するPチャンネ
ルMO8FETのスレッシュホールド電圧をVtp、 
NチャンネルMO3FET・のスレッシュホールド電圧
VTNI電源電圧をVccとすると、上記電圧VO)1
101 V;HllT VOLIOIV it、+ +
はそれぞれ次のように設定される。
On the other hand, a high level output voltage VOH+ obtained from the output of the input buffer 10. is set equal to the high-level input voltage V in, + h of the internal logic block 11, and the low-level input voltage VO obtained from the output of the input buffer 10
L.I. is the low level input voltage V of the internal logic block 11
it, ++. Therefore, the threshold voltage of the P-channel MO8FET constituting the CMOS inverter in the internal logic block 11 is set to Vtp,
If the threshold voltage VTNI power supply voltage of N-channel MO3FET is Vcc, the above voltage VO)1
101 V; HllT VOLIOIV it, + +
are set as follows.

Vou+o=Vin 口 >Vcc−IVtpl   
   −−−−(1)Vot、+o=ViL++<Vt
N       −−−−(2)Vccを5ボルトII
VTPIを0.6ボルトI VTNを0.6ボルトに設
定すれば、Von+oとV io+ +とは4.4ボル
ト以下に、VOLIOとV iL+ +とは0.6ボル
ト以上に設定される。
Vou+o=Vin mouth >Vcc-IVtpl
---(1) Vot, +o=ViL++<Vt
N ----(2) Vcc to 5 volts II
If VTPI is set to 0.6 volts and IVTN is set to 0.6 volts, Von+o and V io+ + are set to 4.4 volts or less, and VOLIO and V iL+ + are set to 0.6 volts or more.

従って、内部論理ブロック11内のCMOSインバータ
の入力ロジック・スレッシュホールド電圧Vith++
は0.6ボルトと4.4ボルトとの開の約2.5ボルト
に設定される。
Therefore, the input logic threshold voltage Vith++ of the CMOS inverter within the internal logic block 11
is set at approximately 2.5 volts between 0.6 volts and 4.4 volts.

同様に、内部論理ブロック11のハイレベル出力電圧V
ou++と出力バッ7ア12のハイレベル入力電圧■1
H12とは4.4ボルト以上に設定され、内部論理ブロ
ック11のローレベル出力電以voL8.と出力バッフ
ァ12のローレベル入力を圧V i L12とは0.6
ボルト以下に設定され、出力バッ7ア12の入力ロジッ
ク・スレッシュホールドvith。
Similarly, the high level output voltage V of the internal logic block 11
High level input voltage of ou++ and output buffer 12■1
H12 is set to 4.4 volts or more, and the low level output voltage of the internal logic block 11 is set to voL8. and the low level input of the output buffer 12 is the voltage V i L12 which is 0.6
The input logic threshold of output buffer 12 is set below volts.

2は0.6ボルトと4.4ボルトとの間の約2.5ボル
トに設定されている。
2 is set at approximately 2.5 volts between 0.6 volts and 4.4 volts.

出力バラ7712がTTLレベルの出力信号を発生する
ように、出力バッ7ア12のハイレベル出力電圧VOH
+2は2.7ボルト以上に、そのローレベル出力電圧V
OLI2は0.5ボルト以下に設定されている。
The high level output voltage VOH of the output buffer 7712 is set so that the output rose 7712 generates a TTL level output signal.
+2 is 2.7 volts or more, its low level output voltage V
OLI2 is set to 0.5 volts or less.

第2図は本発明に先立って本願発明者によって検討され
た入力バッ7T10のひとつを示す回路図であり、Pチ
ャネルMO8F ETMp+y Mp21NチャネルM
O8FETMn+* Mn2+ Mnzt抵抗Rpによ
って構成されている。各MO8FETのゲート、ソース
、ドレインはそれぞれ記号g+ Stdによって示され
ている。
FIG. 2 is a circuit diagram showing one of the input buffers 7T10 studied by the inventor of the present invention prior to the present invention.
It is constituted by O8FETMn+*Mn2+ Mnzt resistor Rp. The gate, source and drain of each MO8FET are respectively designated by the symbol g+ Std.

M p+とMn、とにより構成された1段目CMOSイ
ンバータと、M112とMn2とにより構成された2段
目CMOSインバータとはカスケード接続され、Rpと
Mn3とは、MplとMn+のゲート絶縁膜を保護する
ためのゲート保護回路を構成する。2段目CMOSイン
バータのMp2とMn2のドレインに接続された出力容
量Csは実際には、M+)2とMn2のドレイン容量、
゛入力バッ7ア10の出力と内部論理ブロック11の入
力との開の配線浮遊容量、内′部論理ブロック11の入
力容量によってその値が決定される。
The first stage CMOS inverter made up of Mp+ and Mn and the second stage CMOS inverter made up of M112 and Mn2 are connected in cascade, and Rp and Mn3 connect the gate insulating films of Mpl and Mn+. Configure a gate protection circuit for protection. The output capacitance Cs connected to the drains of Mp2 and Mn2 of the second stage CMOS inverter is actually the drain capacitance of M+)2 and Mn2,
Its value is determined by the open wiring stray capacitance between the output of the input buffer 10 and the input of the internal logic block 11, and the input capacitance of the internal logic block 11.

各MO8FET M+)+t Mp21 Mn1l M
n21 Mn、のチャンネル幅Wとチャンネル長しとの
比W/Lはそれぞれ27/3,5.42/3,126/
3.5.42/3.15/3に設定され、抵抗Rpは2
キロオームの値に設定されている。
Each MO8FET M+)+t Mp21 Mn1l M
The ratios W/L of channel width W and channel length of n21 Mn are 27/3, 5.42/3, and 126/, respectively.
3.5.42/3.15/3, and the resistance Rp is 2
It is set to a value in kiloohms.

第3図は第2図の入力バッファ10の伝播遅延時間tp
oL、 tpt、Hの上記出力容量Csの依存性を示し
、たて軸は伝播遅延時間、横軸は出力容量Csを示して
いる。
FIG. 3 shows the propagation delay time tp of the input buffer 10 in FIG.
The dependence of oL, tpt, and H on the output capacitance Cs is shown, the vertical axis shows the propagation delay time, and the horizontal axis shows the output capacitance Cs.

第35図に示しように、第1の伝播遅延時間tpMLは
入力INPUTが50%値を境として変化してから出力
0UTPUTがハイレベルからローレベルに変化するに
際しその50%値を境として変化するまでの時間として
定義され、第2の伝播遅延時間tpLHは入力INPU
Tが50%値を境として変化してから出力0UTPUT
がローレベルからハイレベルへ変化するにその50%値
を境として変化するまでの時間として定義される。尚、
第35図において、trは立下り時間、 trは立上り
時間として定義される。
As shown in FIG. 35, the first propagation delay time tpML changes from the 50% value of the input INPUT to the 50% value when the output 0UTPUT changes from high level to low level. The second propagation delay time tpLH is defined as the time from input INPU to
Output 0UTPUT after T changes around 50% value
It is defined as the time it takes for the signal to change from a low level to a high level with the 50% value as the boundary. still,
In FIG. 35, tr is defined as fall time, and tr is defined as rise time.

このように、第3図から理解できるように、第2図の入
力バッファ10の第1伝播遅延時間tpHLの出力容量
依存性K HL(=Δtput、/ΔCs)は約0゜8
nsec/pF+第2伝播遅延時間tpLoの出力容量
依存性KLH(=Δtpu+/ΔCs)は約1.4ns
ec/pFと、ともに大きなものとなる。
Thus, as can be understood from FIG. 3, the output capacitance dependence KHL (=Δtput, /ΔCs) of the first propagation delay time tpHL of the input buffer 10 in FIG. 2 is approximately 0°8.
Output capacitance dependence KLH (=Δtpu+/ΔCs) of nsec/pF+second propagation delay time tpLo is approximately 1.4ns
Both ec/pF become large.

第2図の入力バッ7710においては、その入力スレッ
シュホールド電圧Vith+。を約1.3〜1゜5ボル
トに設定するために1段目CMOSインバータのMI)
 IとMnlのチャンネル幅とチャンネル長との比W/
Lを大きく異ならせており、伝播遅延時間tp+n、、
 tptoの出力容量依存性KIILI KL)lを小
さくするため2段目のCMOSインバータのMo2とM
n2の比W/Lをともに42/3と大きな値としてMo
2とMn2のチャンネル長フンダクタンスを大きくして
いる。
For input buffer 7710 of FIG. 2, its input threshold voltage Vith+. MI of the first stage CMOS inverter to set the voltage to approximately 1.3 to 1.5 volts)
Ratio of channel width and channel length of I and Mnl W/
L is greatly different, and the propagation delay time tp+n,...
Mo2 and M of the second stage CMOS inverter are
Mo
The channel length fundance of Mn2 and Mn2 is increased.

両出力容量依存性KHL、 KLHを小さくするために
は、2段目CMOSインバータのMl)2とMn2の比
W/Lをどんどん大きくすれば良いが、これは下記の理
由により集積回路チップ表面上での入力バッファ10の
占有面積の著しい増大をもたらし、集積密度向上に対し
ての阻害となる。
In order to reduce the dependence of both output capacitances KHL and KLH, the ratio W/L of Ml)2 and Mn2 in the second stage CMOS inverter can be increased rapidly, but this is because the This results in a significant increase in the area occupied by the input buffer 10, which hinders improvement in integration density.

すなわち、集積回路の製造技術において現在微細化が精
力的に進められているが、現在の紫外線露光によるホト
リソグラフィーではMOS FETのチャンネル長しは
3μmが下限値であり、MOS  FETの比W/Lを
極めて大島な値とするためにはそのチャンネル幅Wを極
めて大きな値としなければならず、最終的にはそのMO
S FETの素子領域の面積の着しい増大をもたらすた
めである。
In other words, although miniaturization is currently being vigorously promoted in the manufacturing technology of integrated circuits, the lower limit of the channel length of MOS FET is 3 μm in the current photolithography using ultraviolet exposure, and the ratio W/L of MOS FET is In order to make the value extremely large, the channel width W must be made extremely large, and ultimately the MO
This is because the area of the S FET element region is significantly increased.

一方、第4図は本発明に先立って本願発明者によって検
討された出力パワ7712のひとつを示す回路須であり
、PチャンネルMO8FET M、4.NチャンネルM
OS FET Mn4によって構成されている。各MO
8FETのゲート、ソース、ドレインはそれぞれ記号g
* sg dによって示されている。
On the other hand, FIG. 4 is a circuit showing one of the output power 7712 studied by the inventor of the present invention prior to the present invention, and is a P-channel MO8FET M, 4. N channel M
It is composed of OS FET Mn4. Each MO
The gate, source, and drain of the 8FET are each marked with the symbol g.
* Indicated by sg d.

集積回路装置IC内で内部論理ブロック11のCMOS
レベルの出力信号は出力バッ7ア12のMD4とMns
のゲートに印加されている、30番端子には5ボルトの
電源電圧Vccが供給されている。
CMOS of internal logic block 11 in integrated circuit device IC
The level output signal is MD4 and Mns of the output buffer 12.
A power supply voltage Vcc of 5 volts is supplied to terminal No. 30, which is applied to the gate of the .

従って、出力バッファ12の入力ロジック・スレッシュ
ホールド電圧Vith+2を約2.5ボルトに設定する
ためには、M +)4とMn4の比W/Lは互いに等し
い値に設定される。
Therefore, in order to set the input logic threshold voltage Vith+2 of the output buffer 12 to approximately 2.5 volts, the ratio W/L of M+)4 and Mn4 is set equal to each other.

第4図に1土同様にTTL回路14が表示されており、
この回路14には35番端子を介して5ボルトの電源電
圧Vccが供給されている。20番端子よりTTLレベ
ルの出力バッ7ア12の出力信号が得られ、32番端子
を介してTTL回路14のマルチエミッタトランジスタ
Q1のひとつのエミッタに供給されている。
In Figure 4, the TTL circuit 14 is shown as in 1.
This circuit 14 is supplied with a power supply voltage Vcc of 5 volts through a terminal No. 35. The output signal of the output buffer 12 at the TTL level is obtained from the 20th terminal, and is supplied to one emitter of the multi-emitter transistor Q1 of the TTL circuit 14 via the 32nd terminal.

一方、TTL回路としては標準形TTL回路。On the other hand, as a TTL circuit, it is a standard type TTL circuit.

ショットキTTL回路、ロー・パワー・シミツト*TT
IJIfl、アドバンスト・ロー・パワー・ショットキ
TTL回路が発表されており、これらの特性は、当然の
ことながら互いに多小異なっている。
Schottky TTL circuit, low power Schmitt*TT
IJIfl, Advanced Low Power Schottky TTL circuits have been announced, and their characteristics are, of course, somewhat different from each other.

また、出力バラ7712の出力は多数のTTL回路14
の入力を同時かつ並列に駆動する必要がある。この駆動
能力のひとつのめやすとしては、ロー・パワー・シ9ッ
トキTTL回路の20iの入力を並列駆動可能な事であ
る。
In addition, the output of the output rose 7712 is transmitted to a large number of TTL circuits 14.
inputs must be driven simultaneously and in parallel. One measure of this driving ability is that it is possible to drive 20i inputs of a low power switchboard TTL circuit in parallel.

出力バラ7712の出力がローレベルの時には、ロー・
パワー・ショットキTTL回路のひとつの入力から0.
4mAのローレベル入力電流IILが出力バッファ12
のNチャンネルMOS FET Mn4のドレイン・ソ
ース径路に流れ込む。従って、上述の如く20個の入力
を出力バッ7ア12がローレベルに駆動するためには、
Mn4は合計8mAを流す必要がある。
When the output of the output rose 7712 is low level, the low level
0.0 from one input of the power Schottky TTL circuit.
The low level input current IIL of 4mA is output from the output buffer 12.
The current flows into the drain-source path of the N-channel MOS FET Mn4. Therefore, in order for the output buffer 12 to drive the 20 inputs to low level as described above,
Mn4 requires a total of 8 mA to flow.

一方、出力バッ7ア12のローレベル出力電圧VOL1
2はすでに説明した様に0.5ボルト以下でなければな
らな!1ので、出力バッ7ア12のNチャンネルMOS
 FET Mn4のオン抵抗ROMは0゜5ボルト/8
ミリアンペア=62.5オ一ム程度の小さな値に設定し
なければならない。
On the other hand, the low level output voltage VOL1 of the output buffer 12
As explained above, 2 must be less than 0.5 volts! 1, so the N-channel MOS of the output buffer 12
On-resistance ROM of FET Mn4 is 0°5 volts/8
It must be set to a small value, such as milliampere = 62.5 ohm.

このように、Mn4のオン抵抗ROMを小さな値とする
ためには、Mn、の比W/、Lを700/3乃至100
0/3という極めて大きな値としなければならない。一
方、上述したように出力バッファ12の入力ロジックス
レッシュホールド電圧Vith+2を約2.5ボルトに
設定するためにはMp4とMn。
In this way, in order to make the on-resistance ROM of Mn4 a small value, the ratio W/, L of Mn is set to 700/3 to 100.
It must be set to an extremely large value of 0/3. On the other hand, as described above, in order to set the input logic threshold voltage Vith+2 of the output buffer 12 to approximately 2.5 volts, Mp4 and Mn.

の比W/Lはともに等しい値とする必要があるため、出
力バッファ12のPチャンネルMO8FETMI14の
比W/Lも700/3乃至1000/3という極めて大
きな値としなければならない。
Since the ratios W/L of both must be equal, the ratio W/L of the P-channel MO8FET MI 14 of the output buffer 12 must also be an extremely large value of 700/3 to 1000/3.

これは同様に、集積回路チップ表面上での出力バッファ
12の占有面積の着しい増大をもたらし、集積密度向上
に対しての阻害となるばかりが、下記の理由により内部
論理ブロック11のスイッチング速度の著しい低下を引
終起す。
This also results in a drastic increase in the area occupied by the output buffer 12 on the surface of the integrated circuit chip, which only hinders the improvement of integration density, but also reduces the switching speed of the internal logic block 11 for the following reasons. This results in a significant decline.

すなわち、出力バラ7712の両MO8FETMp4v
 Mn4の比W/Lをともに大トな値とすると、両MO
8FET Mp<s Mn4のデート容量も比例して大
きな値となる。これらM+)41 Mn4のデート容量
は内部論理ブロック11の出力負荷容量となるので、内
部論理ブロック11の出力抵抗とこれらデート容量とが
内部論理ブロック11のスイッチング速度の低下を引き
起す。
In other words, both MO8FETMp4v of the output rose 7712
If the ratio W/L of Mn4 is both set to a large value, both MO
The date capacitance of 8FET Mp<s Mn4 also becomes a proportionally large value. Since these date capacitances of M+)41Mn4 become the output load capacitance of the internal logic block 11, the output resistance of the internal logic block 11 and these date capacitances cause a reduction in the switching speed of the internal logic block 11.

一方、出力バッファ12の出力は集積回路装置ICの外
部出力端子(20番端子)として導出されるばかりでな
く外部配線を介して多数のTTL回路14の入力端子に
接続されるため、出力バッファ12の出力負荷容量Cx
は極めて大きな値となる場合もしばしばある。
On the other hand, the output of the output buffer 12 is not only led out as an external output terminal (terminal 20) of the integrated circuit device IC, but also connected to the input terminals of a large number of TTL circuits 14 via external wiring. Output load capacity Cx
is often an extremely large value.

第5図は第4図の出力バッファ12の出力負荷容量Cx
に対・する伝播遅延時間tpot、、 tpLoの依存
性を示し、たて軸は伝播遅延時間、横軸は出力負荷容量
を示している。
Figure 5 shows the output load capacitance Cx of the output buffer 12 in Figure 4.
The graph shows the dependence of propagation delay times tpot, tpLo on , the vertical axis shows the propagation delay time, and the horizontal axis shows the output load capacitance.

このように、第5図から理解で鰺るように、第4図の出
力バッファ12の第1伝播遅延時間tpo+、の容量依
存性KHL(=Δtpnt/ΔCx )は約0.3ns
ee/pF、第2伝播遅延時開tpt、oの容量依存性
Kto(=ΔtpLu/ΔCx)は約0.17nsec
/pFと、ともに大きなものとなる。
As can be understood from FIG. 5, the capacitance dependence KHL (=Δtpnt/ΔCx) of the first propagation delay time tpo+ of the output buffer 12 in FIG. 4 is approximately 0.3 ns.
The capacitance dependence Kto (=ΔtpLu/ΔCx) of ee/pF, second propagation delay opening tpt, and o is approximately 0.17 nsec
/pF, both become large.

従って、本発明の背景技術となった第2図の入力パワ7
710の問題点を要約すると、下記の如くとなる。
Therefore, the input power 7 in FIG. 2, which is the background art of the present invention,
The problems of 710 can be summarized as follows.

(1)入力バラ7710の伝播遅延時間の出力容量依存
性を小さくするためには、入カバ・ン7ア10の2段目
CMOSインバータの両MO3FET Mp2@ Mn
2の比W/Lを大きくしなければならず、集積密度向上
に対しての阻害となる。特に、集積回路装置ICがマス
タースライス方式もしくはセミカスタムのゲートアレイ
方式である場合は、入力バッ7ア10の出力に内部論理
ブロック11内の極めて多数のデーデ入力端子が接続さ
れる可能性があり、入力バツ7ア10の出力容量Csが
極めて大きくなる場合は、上記の問題点は極めて重大と
なる。
(1) In order to reduce the dependence of the propagation delay time of the input rose 7710 on the output capacitance, both MO3FETs Mp2@Mn of the second stage CMOS inverter of the input cover 7A10 must be
The ratio W/L of 2 must be increased, which is an obstacle to improving the integration density. In particular, if the integrated circuit device IC is of the master slice type or semi-custom gate array type, there is a possibility that an extremely large number of data input terminals in the internal logic block 11 are connected to the output of the input buffer 10. , when the output capacitance Cs of the input pin 7a 10 becomes extremely large, the above problem becomes extremely serious.

(2)さらに入力バツ7ア10の1段目はCMOSイン
バータMp1+ Mnlで構成されているため、Rpと
Mnsとによって構成されたゲート保護回路を接続して
も、入力端子IN、に印加されるサージ電圧に対する両
MO8FETのゲート絶縁膜の破壊強度は十分ではない
(2) Furthermore, since the first stage of the input terminal 7a 10 is composed of CMOS inverters Mp1+Mnl, even if a gate protection circuit composed of Rp and Mns is connected, the voltage applied to the input terminal IN is The breakdown strength of the gate insulating films of both MO8FETs against surge voltage is not sufficient.

また、本発明の背景技術となった第4図の出力パラ77
12の問題点を要約すると、下記の如くとなる。
In addition, output para 77 in FIG. 4, which is the background art of the present invention.
The 12 problems can be summarized as follows.

(3)lバッファ12の入力ロジック・スレッシュホー
ルド電圧VitTo□を約2.5ボルトに設定するとと
もに出力バッファ12のローレベル出力時の電流吸込能
力を高めるためには、両MO8F E T M+)41
 Mn4の比W/Lをともに互いに等しくかつ大きな値
としなければならず、集積密度向上に対しての阻害とな
る。
(3) In order to set the input logic threshold voltage VitTo□ of the l buffer 12 to approximately 2.5 volts and to increase the current sinking ability of the output buffer 12 during low level output, both MO8FET M+)41
The ratio W/L of Mn4 must be both equal and large, which hinders the improvement of the integration density.

(4)出力バッファ12の両MO3FET Mp=。(4) Both MO3FETs of the output buffer 12 Mp=.

Mn<の比W/Lを大きくするとこの両Mp<r Mn
When the ratio W/L of Mn< is increased, both Mp<r Mn
.

のデート容量も大きくなる。従って、内部論理ブロック
の出力抵抗とこれらデート容量とが内部輪゛埋ブロック
11のスイッチング速度の低下をもたらす。特に、内部
論理ブロック1jの出力段が出力抵抗の大きなMOS 
FETより構成されている場合は、このスイッチング速
度の低下は著しい問題となる。
The dating capacity of will also increase. Therefore, the output resistance of the internal logic block and these date capacitances result in a reduction in the switching speed of the internal buried block 11. In particular, the output stage of the internal logic block 1j is a MOS with a large output resistance.
In the case of a FET, this reduction in switching speed becomes a significant problem.

(5)出力バッファ12がMOS  FET Mp、。(5) The output buffer 12 is a MOS FET Mp.

M n、により構成されているため、伝播遅延時間の出
力負荷容量C×に対する依存性が大きい。特に、出力バ
ッ7ア12の出力に多数のTTL回路14の入力端子に
接続される場合は、この問題点は重要となる。
Mn, the propagation delay time has a large dependence on the output load capacitance C×. This problem becomes particularly important when the output of the output buffer 12 is connected to the input terminals of a large number of TTL circuits 14.

[発明の目的1 本発明の目的とするところは、CMOSレベルの入力信
号が印加されることによりCMOSレベルの出力信号を
発生する内部論理ブロックと、この内部論理ブロックの
ためのTTL−CMOSレベル変換の如きレベル変換用
人カバソファおよび/またはCMO3−TTLレベル変
換の如きレベル変換用出力バッ7アとを有する半導体集
積回路装置において、集積密度の向上を可能とするとと
もに、上記人カバッ77および/または上記出力バッ7
アの動作速度の出力容量依存性を小さくし、またかかる
動作速度を向上することにある。
[Objective of the Invention 1 The object of the present invention is to provide an internal logic block that generates a CMOS level output signal by applying a CMOS level input signal, and a TTL-CMOS level conversion for this internal logic block. In a semiconductor integrated circuit device having a human cover sofa for level conversion such as 77 and/or an output buffer 7 for level conversion such as CMO3-TTL level conversion, it is possible to improve the integration density, and the above-mentioned human cover 77 and/or the above Output bag 7
The object of the present invention is to reduce the dependence of the operating speed of the motor on the output capacitance and to improve the operating speed.

本発明の前記ならび1こそのほかの目的と新規な特徴は
、不発明細書の記述および添付図面から明らかとなるで
あろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the specification and the accompanying drawings.

[発明の概要] 本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記の通りである。
[Summary of the Invention] A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、CMOSレベルで動作する内部論理ブロック
のためのTTL−CMOTレベル変換用人カバッ7アの
レベル変換器においては、そのレベル変換器の出力容量
の充電もしくは放電を実行する出力トランジスタをバイ
ポーラ・トランジスタによって構成することにより、M
OS  FETと比較してバイポーラ・トランジスタは
小さな素子寸法でもその出力抵抗が小さくその電流増幅
率が大きく、大きな充電電流もしくは放電電流が得られ
るという作用により、入力バッファの伝播遅延時間およ
びその容量依存性を小さくするという目的を達成するこ
とがで軽る。
That is, in a level converter for a TTL-CMOT level converter cover for an internal logic block operating at a CMOS level, the output transistor that charges or discharges the output capacitance of the level converter is a bipolar transistor. By configuring M
Compared to an OS FET, a bipolar transistor has a small output resistance and a large current amplification factor even with a small element size, and a large charging or discharging current can be obtained, which reduces the propagation delay time of the input buffer and its capacitance dependence It becomes lighter by achieving the purpose of making it smaller.

また、CMOSレベルで動作する内部論理ブロックのた
めのCMO3−TTLレベル変換変換用出力フッ7アベ
ル変換器においては、そのレベル変換器の出力負荷容量
の充電もしくは放電を実行する出力トランジスタをバイ
ポーラ・トランジスタによって構成することにより、M
OS FETと比較してバイポーラ・トランジスタは小
さな素子寸法でもその出力抵抗が小さくその電流増幅率
が大きく、大きな充電電流もしくは放電電流が得られる
という作用により、入力バッファの伝播遅延時間および
その容量依存性を小さくするという目的を達成すること
ができる。
In addition, in a CMO3-TTL level conversion output converter for an internal logic block that operates at the CMOS level, the output transistor that charges or discharges the output load capacitance of the level converter is a bipolar transistor. By configuring M
Compared to an OS FET, a bipolar transistor has a small output resistance and a large current amplification factor even with a small element size, and a large charging or discharging current can be obtained, which reduces the propagation delay time of the input buffer and its capacitance dependence It is possible to achieve the purpose of reducing the

[実施例J 以下に、本発明の実施例を図面に沿って説明する。[Example J Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第6図は本発明の実施例に上る論理用半導体集積回路装
置ICのブロック図を示し、第1図の入力バッファ10
の動作と同様の動作を実行するTTL−CMOSレベル
変換用人カバッ7ア20゜第1図の内部論理ブロック1
1と同様にCMOSレベルで動作する内部論理ブロック
21.第1図の出力バッ7アの動作と同様の動作を実行
する0MO8−TTLレベル変換用出カ出力7722を
含み、各回路20,21.22は30番端子を介して5
ボルトの電源電圧Vccが供給されるとともに31番端
子を介して適正に接地されている。
FIG. 6 shows a block diagram of a logic semiconductor integrated circuit device IC according to an embodiment of the present invention, in which the input buffer 10 of FIG.
Internal logic block 1 in FIG. 1
An internal logic block 21.1 which operates at the CMOS level as in 21.1. Each circuit 20, 21, 22 includes an output output 7722 for 0MO8-TTL level conversion that performs an operation similar to that of the output buffer 7 in FIG.
It is supplied with a power supply voltage Vcc of volts and is properly grounded via terminal No. 31.

入力バッファ20は複数のTTL−CMOSレベル変換
器201,202−−−−2Onを有し、各入力は1番
端子、?置端子−−−−19番端子にそれぞれ接続され
、各出力は内部論理ブロック21と回路装置IC内部で
アルミニウム配線層により接続されている。
The input buffer 20 has a plurality of TTL-CMOS level converters 201, 202---2On, and each input has a terminal No. 1, ? Each output is connected to the internal logic block 21 and the circuit device IC by an aluminum wiring layer.

内部論理ブロック21は0MO8−NANDゲ−)21
1,212,213,214さらにCMO3−NORゲ
−)21(#−1)、21 iらl:必要に応じて0M
O8・エクスクル−スジORデー)、0MO8・トラン
スミッション・デート。
Internal logic block 21 is 0MO8-NAND game) 21
1,212,213,214 and CMO3-NOR game) 21 (#-1), 21 i et al: 0M as necessary
O8 Exclusage OR Day), 0MO8 Transmission Date.

CMOSインバータなどを含んでいる。Contains CMOS inverters, etc.

0MO8−NANDデート211は例えば第7図に示す
ように、PチャンネルMO3FET Ml、M2とNチ
ャンネルMO3PET M3.M、とを含む純CMO3
回路により構成されている。また、CMO,5−NAN
D?−) 211の他の例としては第8図に示すように
、NPN)ランジスタQIfQ21抵抗R,、R2をさ
らに含む準CMO8回路により構成されることもでb、
かかる準CMO8回路はその出力段がバイポーラ・トラ
ンジスタQ、、Q2により構成されているため、出力駆
動能力が向上され、伝播遅延時間の出力負荷容量依存性
を小さくすることができる。
For example, as shown in FIG. 7, the 0MO8-NAND date 211 includes P-channel MO3FETs Ml, M2 and N-channel MO3PET M3. Pure CMO3 containing M, and
It is made up of circuits. Also, CMO, 5-NAN
D? -)211, as shown in FIG.
Since the output stage of such a quasi-CMO8 circuit is constituted by bipolar transistors Q, Q2, the output driving ability is improved and the dependence of the propagation delay time on the output load capacitance can be reduced.

*た0MO8−NORr−) 21111例え+rs9
図に示すように、PチャンネルMO8FETM、、M2
とNチャンネルMO8FET M、、M。
*Ta0MO8-NORr-) 21111 example +rs9
As shown in the figure, P-channel MO8FETM, ,M2
and N-channel MO8FET M,,M.

とを含む純CMO8回路により構成されている。It is composed of 8 pure CMO circuits including.

またCMO3−NORデート21Aの他の例としては第
10図に示すよ)に、NPN)ランジスタQl*Qz*
抵抗R,,R2をさらに含む準CMO8回路により構成
されることもでき、かかる準CMO8回路はその出力段
がバイポーラ・トランジスタQ、、Q2により構成され
ているため、出力駆動能力が向上され、伝播遅延時間の
出力負荷容量依存性を小さくすることができる。
Further, as another example of the CMO3-NOR date 21A, as shown in FIG.
It can also be configured by a quasi-CMO8 circuit that further includes resistors R, , R2, and since the output stage of such a quasi-CMO8 circuit is composed of bipolar transistors Q, , Q2, the output drive capability is improved and the propagation The dependence of the delay time on the output load capacity can be reduced.

内部論理ブロック21において、これらのCMO3−N
ANDデー)、0MO8−NORデートはマスタースラ
イス方式もしくはセミカスタムのデートアレイ方式に従
って、種々の形態に接続される。
In the internal logic block 21, these CMO3-N
AND data), 0MO8-NOR date are connected in various configurations according to a master slice method or a semi-custom date array method.

例えば、第11図に示すように2つのCMO8NAND
デートを組合せることにより又は第12図に示すように
2つのCMO3−NORデートを岨合せることによりR
−87リツプ・70ツブが構成され、第13図に示すよ
うに4つの0MO8−NORデートを組合せることによ
りクロック信号Cにより制御されるゲーテイドR−87
リツ7−70ツブが構成される。
For example, as shown in Figure 11, two CMO8NAND
R by combining the dates or by matching the two CMO3-NOR dates as shown in Figure 12.
The gated R-87 is configured with -87 rip and 70 lub and is controlled by clock signal C by combining four 0MO8-NOR dates as shown in FIG.
It consists of 7-70 tubes.

このように、顧客のニーズに対応するマスタースライス
方式もしくはゲートアレイ方式の論理用半導体集積回路
装置ICにおいては、その配線パターンのみを変更する
ことにより入力バッ7ア20のレベル変換器201,2
02−−−−2Onの出力と内部論理ブロック21の種
々のデート又はインバータの入力との間は種々の形態で
接続され、同様に内部論理ブロック2゛1の種々のデー
ト又はインバータの出力と出力バラ7722のレベル変
換器221,222−−−−22mの入力との開は種々
の形態で接続される。
In this way, in the master slice type or gate array type logic semiconductor integrated circuit device IC that meets customer needs, the level converters 201 and 2 of the input buffer 70 can be changed by changing only the wiring pattern.
The output of 02----2On and the various dates or inputs of the inverter of the internal logic block 21 are connected in various forms, and the outputs of the various dates or inverter of the internal logic block 2-1 are connected in various ways. The terminals of the rose 7722 and the inputs of the level converters 221, 222--22m are connected in various ways.

出力バッ7ア22は複数の0MO8−TTLレベル変換
器221,222−−−”22Toを有し、各出力は2
0番端子、21番端子−−−−29番端子に接続されて
いる。
The output buffer 22 has a plurality of 0MO8-TTL level converters 221, 222---"22To, and each output has two
No. 0 terminal, No. 21 terminal --- Connected to No. 29 terminal.

入力バッ7ア20のレベル変換仝201,202−・−
2onの本質的特徴は、下記の通りである。
Level conversion of input buffer 720 201, 202--
The essential features of 2on are as follows.

(1)各レベル変換器201,202−−−−2Onの
入力久しッシェホールド電圧VithはTTLローレベ
ル入力電圧0.8ボルトとTTL、1イレベル入力電圧
2.0ボルトとの間に設定されて1する。
(1) The input long-term hold voltage Vith of each level converter 201, 202--2On is set between the TTL low level input voltage of 0.8 volts and the TTL, 1 level input voltage of 2.0 volts. Do 1.

(2)その入力端子に供給される入力信号に応答して各
レベル変換器201= 202−−−−20nの出力容
量Osの充電又は放電を実行する出力トランジスタはバ
イポーラ・トランジスタにより構成されている。
(2) The output transistor that performs charging or discharging of the output capacitance Os of each level converter 201=202--20n in response to the input signal supplied to its input terminal is constituted by a bipolar transistor. .

さらに、入力バッ7ア20のレベル変換器201.20
2−−=2Onの好しい実施形態上の好適な特徴は下記
の通りである。
Furthermore, the level converter 201.20 of the input buffer 70
Preferred features of preferred embodiments of 2--=2On are as follows.

(3)上記(2)の出力容量O3の放電を実行するバイ
ポーラ出力トランジスタQ、のベースとコレクタとの間
にショットキー・ノ゛リア・グイオーYが接続されてい
る。
(3) A Schottky transistor Y is connected between the base and collector of the bipolar output transistor Q, which discharges the output capacitance O3 in (2) above.

(4)各レベル変換器201,202−−−−20nの
入力端子に供給される入力信号に応答してその出力によ
りバイポーラ出力トランジスタQ1のベースを駆動する
ための駆動、トランジスタQ2のベースとコレクタとの
間に第2のシヨ・ノドキー・ノくリア・ダイオードが接
続されて1する。
(4) A drive for driving the base of the bipolar output transistor Q1 with its output in response to the input signal supplied to the input terminal of each level converter 201, 202---20n, and the base and collector of the transistor Q2. A second rear diode is connected between and becomes 1.

(5)各レベル変換器201= 202−−−−2On
の出力容量Csの充電を実行す6出力トランジスタもバ
イポーラ・トランジスタQ、により構成されている。
(5) Each level converter 201 = 202---2On
The six-output transistor for charging the output capacitance Cs of is also constituted by a bipolar transistor Q.

(6)高入力インピーダンスおよび増幅作用とを有する
MOSバッフ7を介して駆動トランジスタQ2のベース
信号又はコレクタ信号が充電用/?イボーラ出力トラン
ジスタQ、のベースに伝達される。
(6) The base signal or collector signal of the drive transistor Q2 is supplied for charging via the MOS buffer 7 having a high input impedance and an amplification effect. is transmitted to the base of the Ibora output transistor Q.

(7)各レベル変換器201,202−−−−20nの
入力端子と駆動トランジスタQ2のベースとの間にはレ
ベルシフト用のショットキー・バリア・ダイオードD1
が接続されている。
(7) A Schottky barrier diode D1 for level shifting is connected between the input terminal of each level converter 201, 202---20n and the base of the drive transistor Q2.
is connected.

(8)各レベル変換器201,202−”−2Onの入
力端子と駆動トランジスタQ2のベースとの開にはPN
Pエミッタ・7オロワ・トランジスタQ4とレベルシフ
ト用のPN接合ダイオードD2とが接続されている。
(8) The connection between the input terminal of each level converter 201, 202-"-2On and the base of the drive transistor Q2 is PN.
A P emitter 7-lower transistor Q4 and a PN junction diode D2 for level shifting are connected.

第14図乃至第31−図は、本発明の実施例による入力
バッ7ア20のレベル変換器201の種々の回路図を示
し、これら全てのレベル変換器は上記(1)および(2
)の本質的特徴を有している。さらに、これらのレベル
変換器は上記(3)乃至(8)の好適な特徴のうち少な
くとも一個を有している6第14図のレベル変換器20
1においては、入力端子IN、はレベルシフト用のショ
ットキ・バリア・ダイオードD、のカソードに接続され
、その7ノードは駆動トランジスタQ2のベースに接続
されている。このダイオードD1の順方向電圧Vpは0
.35ボルト乃至0.41ボルトに設定される様に、そ
のバリア金属の種類およびバリア面積が定められる。第
15図乃至第31図のレベル変換器ショットキ・バリア
・ダイオードD、の順方向電圧Vpも同様にO,’35
ボルト乃至0.41ボルトに設定されている。
Figures 14-31 show various circuit diagrams of the level converter 201 of the input buffer 20 according to embodiments of the invention, all of which are shown in (1) and (2) above.
) has the essential characteristics of Furthermore, these level converters have at least one of the preferable features (3) to (8) above.6 Level converters 20 in FIG. 14
1, the input terminal IN is connected to the cathode of a Schottky barrier diode D for level shifting, and its 7 node is connected to the base of the drive transistor Q2. The forward voltage Vp of this diode D1 is 0
.. The type of barrier metal and barrier area are determined so that the voltage is set between 35 volts and 0.41 volts. Similarly, the forward voltage Vp of the level converter Schottky barrier diode D in FIGS. 15 to 31 is O, '35.
Volts to 0.41 volts.

さらに第14図においては、駆動トランジスタQ2と放
電用出力トランジスタQ1とはそのカギ形のベース電極
信号に示されるように、そのベースとコレクタとの間に
はショットキ・バリア・ダイオードDが接続されている
。このようにショットキ・バリア・ダイオード付きのク
ランプド・トランジスタは良く知られているように、極
めて小さい蓄積時間を有する。以下の実施例において、
カギ形のベース電極信号を有するトランジスタは、かか
るクランプド・トランジスタであることを示している。
Furthermore, in FIG. 14, the drive transistor Q2 and the discharge output transistor Q1 have a Schottky barrier diode D connected between their bases and collectors, as shown by the key-shaped base electrode signals. There is. Clamped transistors with Schottky barrier diodes thus have a very short integration time, as is well known. In the examples below,
A transistor with a hook-shaped base electrode signal is indicative of such a clamped transistor.

尚、放電用出力トランジスタQ1のベースは、そのベー
スtp放電用の5キロオームの抵抗R1゜を介して接地
電位点に接続されている。
The base of the discharging output transistor Q1 is connected to the ground potential point via a 5 kilohm resistor R1° for base tp discharging.

また、第14図において、電源電圧Vccとショットキ
・バリア・ダイオードD、のアノードとの開には18キ
ロオームの抵抗R1+と2キロオームC抵抗R12とが
直列接続されている。両抵抗R11tR12の共通接続
点は位相反転器としてのPチャンネルM OS F E
 T Ml)+。のゲートに接続され、そのドレインは
充電用出力トランジスタQ、のべ一入に接続されている
Further, in FIG. 14, an 18 kilohm resistor R1+ and a 2 kilohm C resistor R12 are connected in series between the power supply voltage Vcc and the anode of the Schottky barrier diode D. The common connection point of both resistors R11tR12 is a P channel MOS F E as a phase inverter.
T Ml)+. , and its drain is connected to the charging output transistor Q, in total.

さらに、レベル変換器201がローレベル出力を発生す
る際に、トランジスタQ、を確実にオフさせるため、ダ
イオードD3が接続されている。
Further, a diode D3 is connected to ensure that the transistor Q is turned off when the level converter 201 generates a low level output.

充電用出力トランジスタQ、のエミッタにおけるレベル
変換器201の出力は出力容量Csに接続されるととも
に内部論理ブロック21のCMO8・NANDゲート2
11の入力に接続されている。
The output of the level converter 201 at the emitter of the charging output transistor Q is connected to the output capacitor Cs and also to the CMO8/NAND gate 2 of the internal logic block 21.
11 inputs.

また、バイポーラ・トランジスタQ、、Q2.Q、の各
エミッタ面積は100μm2乃至144μ輸2に設定さ
れ、さらにこれより小さな面積とすることも可能である
。さらに、MOS FETの比W/Lは32/3乃至6
4/3の値とされている。
Also, bipolar transistors Q, , Q2 . The area of each emitter Q is set to 100 .mu.m2 to 144 .mu.m2, and it is also possible to make the area smaller than this. Furthermore, the ratio W/L of MOS FET is 32/3 to 6.
The value is said to be 4/3.

以上の構成を有する第14図の実施例においては、下記
の伝播遅延時間およびその出力容量依存性を有すること
が、本発明者により確認された。
The inventor has confirmed that the embodiment shown in FIG. 14 having the above configuration has the following propagation delay time and its output capacitance dependence.

tpnt、(ただしC5=OpFの時) ’−−−−1
.6nsectpLo(ただしC5=OpFの時) −
−−−5,7nsecK ML           
 −−−−0,4nsec/ p FKLH−−−−0
,4nsec/pF 上記の伝播遅延時間tpnL、tpu+および出力容量
依存性KoL* KL、)lは、第2図の入力バッ7T
10の特性と比較し、優れたものであることが理解で鯵
る。
tpnt, (when C5=OpF) '----1
.. 6nsectpLo (when C5=OpF) −
---5,7nsecK ML
-----0,4nsec/p FKLH---0
, 4nsec/pF The above propagation delay time tpnL, tpu+ and the output capacitance dependence KoL*KL, )l are the input buffer 7T in FIG.
Compared to the characteristics of 10, I can understand that it is superior.

さらに、第14図のレベル変換器201は、下記の理由
により希望の特性を得ることができる。
Furthermore, the level converter 201 in FIG. 14 can obtain desired characteristics for the following reasons.

(1)ショットキ・バリア・ダイオードD、の順方向電
圧Vpは0.35乃至0.41ボルトに設定されトラン
ジスタQ、、Q2のベース・エミッタ間電圧■日E1B
 VlIE2は約0.75ボルトであるため、レベル変
換器201の入力スレッシュホールド電圧Vithは下
記のように設定される。
(1) The forward voltage Vp of the Schottky barrier diode D is set to 0.35 to 0.41 volts, and the base-emitter voltage of the transistor Q, Q2 is E1B.
Since VlIE2 is approximately 0.75 volts, the input threshold voltage Vith of level converter 201 is set as follows.

Vith=−VF+VB[lI+VB):2=1.09
乃至1.15ボルト (2)レベル変換器201の出力容量Csの放電もしく
は充電を実行する出力トランジスタQllQ3は出力抵
抗が小さなバイポーラ・トランジスタにより構成されて
いるため、スイッチング動作速度もしくは伝播遅延時間
およびその出力容量依存性を小さくすることができる。
Vith=-VF+VB[lI+VB):2=1.09
to 1.15 volts (2) Since the output transistor QllQ3 that discharges or charges the output capacitance Cs of the level converter 201 is composed of a bipolar transistor with a small output resistance, the switching operation speed or propagation delay time and its Output capacitance dependence can be reduced.

(3)飽和領域に駆動されるトランジスタQllQ2の
各ベースと各コレクタとの開にはそれぞれショットキ・
バリア・ダイオードが接続されているため、両トランジ
スタQ、、Q、がオンからオフにスイッチ動作するに際
し、その蓄積時間を小さくすることができる。
(3) A Schottky conductor is connected between each base and each collector of the transistor QllQ2 driven to the saturation region.
Since the barrier diode is connected, the storage time when both transistors Q, , Q, switch from on to off can be reduced.

(4)抵抗R111RI2の共通接続点の電位が上昇し
て位相反転用MO8FET Mp+o+充電用出充電用
出力トランジスタフするに際して、MOSFET Mp
、。のデートの人力インピーダンスは非常に高いため、
上記共通接続点からM P +。のゲートに流入する電
流は非常に小さくなる。従って、MOS FET Mp
、。ではなくバイポーラ・トランジスタによって位相反
転器を構成する場合と比較すれば、充電用出力トランジ
スタQ、をオフからオンヘスイッチするための動作速度
が向上される。
(4) When the potential at the common connection point of resistors R111RI2 rises and the phase inversion MO8FET Mp+o+ charge output transistor turns off, the MOSFET Mp
,. Because the human power impedance of dating is very high,
M P + from the above common connection point. The current flowing into the gate of is very small. Therefore, MOS FET Mp
,. Compared to the case where the phase inverter is configured by a bipolar transistor instead, the operating speed for switching the charging output transistor Q from OFF to ON is improved.

第15図のレベル変換器201は他のPN接合ダイオー
ドD、が追加されている点のみが第14図のものと相違
し・、かかるD4の追加によりレベル変換器のローレベ
ル出力電圧をさらに低下することができる。
The level converter 201 in FIG. 15 differs from the one in FIG. 14 only in that another PN junction diode D is added, and the addition of D4 further reduces the low level output voltage of the level converter. can do.

第15−図のレベル変換器201については、その伝播
遅延時間およびその出力容量依存性が、本発明者により
下記の通り確認された。
Regarding the level converter 201 shown in FIG. 15, the propagation delay time and its output capacitance dependence were confirmed by the inventor as follows.

tput(ただしC5=OpFの時) −−−−1,8
9nsectpLu(ただしC5=OpFの時) −−
−−6,37nsecKHL            
−−−−0,4nsec/pFKLM        
    −−−−0,4nsec/pFさらに、第15
図のレベル変換器201においても、第14図の場合と
同じ理由から希望の特性を得ることができる。
tput (when C5=OpF) -----1,8
9nsectpLu (when C5=OpF) --
--6,37nsecKHL
---0,4nsec/pFKLM
----0,4nsec/pF Furthermore, the 15th
In the level converter 201 shown in the figure as well, desired characteristics can be obtained for the same reason as in the case of FIG.

第16図のレベル変換器201は駆動トランジスタQ2
のコレクタ接続方法のみが第14図のものと相違し、か
かる第16図のレベル変換器の伝播遅延時間およびその
出力容量依存性が下記の通り確認された。
The level converter 201 in FIG. 16 is a drive transistor Q2.
Only the collector connection method in FIG. 14 is different from that in FIG. 14, and the propagation delay time of the level converter in FIG. 16 and its output capacitance dependence were confirmed as follows.

tpuL(ただしC5=OpFの時) −−−−1,8
1nsectpu+(ただしC5=OpFの時) −−
−−5,08nsecK ML           
 −−−−0,4nsec/ p FKLII    
        −−−−0,4nsec/pFまた、
第16図のレベル変換器201においても、第14図の
場合と同じ理由から希望の特性を得ることができる。
tpuL (when C5=OpF) -----1,8
1nsectpu+ (when C5=OpF) --
--5,08nsecK ML
-----0,4nsec/p FKLII
-----0,4nsec/pFAlso,
In the level converter 201 of FIG. 16, desired characteristics can be obtained for the same reason as in the case of FIG. 14.

第17図の各レベル変換器201は位相反転用M OS
  F E T M p 1oのドレインと充電用出力
トランジスタQ、のベースとの間に他のNPN)ランジ
スタQ、が接続されている点のみが第15図のものと相
違し、かかる第17図のレベル変換器の伝播遅延時間お
よびその出力容量依存性が下記の通り確認された。
Each level converter 201 in FIG. 17 is a phase inversion MOS.
The only difference from the one in FIG. 15 is that another NPN transistor Q is connected between the drain of F E T M p 1o and the base of the charging output transistor Q. The propagation delay time of the level converter and its output capacitance dependence were confirmed as follows.

tpot、(ただしC5=OpFの時) −−−−2,
01nsecしpL)+(ただしC5=OpFの時) 
−−−−7,30nsecK HL         
   −−−−0,4nsec/ p FK L14−
−−−0.4nsec/p F第18図のレベル変換器
201におし)て1よ、トランジスタQ、、Q2はシi
cyトキ・/でリア・ダイオード付−きのクランプド・
トランジスタであI)、放電用出力トランジスタQ1の
ベースはベース電荷放電用の5キロオームの抵抗RIO
を介して接地電位点に接続されている。また、トランジ
スタQ2のコレクタにはコレクタ電流制限用の20キロ
オームの抵抗R1ffが接続されてしする。
tpot, (when C5=OpF) -----2,
01nsec pL)+(However, when C5=OpF)
---7,30nsecK HL
-----0,4nsec/ p FK L14-
---0.4nsec/p
Clamped with rear diode in cytoki/
The base of the discharging output transistor Q1 is a 5 kilohm resistor RIO for discharging the base charge.
is connected to the ground potential point via. Further, a 20 kilohm resistor R1ff for collector current limitation is connected to the collector of the transistor Q2.

電源電圧Vccとショットキ・バリア・ダイオードDI
のアノードとの間には18Nロオームの抵抗R11と2
キロオームの抵抗Rl 2とが直列に接続されている。
Power supply voltage Vcc and Schottky barrier diode DI
18N ohm resistors R11 and 2 are connected between the anode and the anode.
A kilohm resistor Rl 2 is connected in series.

両抵抗R11t R+2の共通接続点は充電用出力トラ
ンジスタとしてのPチャンネルMOs FET Mp+
+のゲートに接続されて−する。また、このMJIの比
W/Lは64/3である。
The common connection point of both resistors R11t and R+2 is a P-channel MOs FET Mp+ as a charging output transistor.
It is connected to the + gate and becomes -. Further, the ratio W/L of this MJI is 64/3.

かかる第18図のレベル変換器201の伝播遅延時間お
よびその出力容量依存性が下記の通り確認された。
The propagation delay time of the level converter 201 shown in FIG. 18 and its output capacitance dependence were confirmed as follows.

tpnt、(ただしCs:OpFの時) −−−−−1
,9nsecしpL)+(ただしC5=OpFの時) 
−−−−2,9nsecKIIL          
   −−−−0,4nsec/pFKLH−−−−1
,3nsec/pF さらに、第18図のレベル変換器201は、下記理由に
より希望の特性を得ることができる。
tpnt, (when Cs: OpF) ------1
, 9nsec pL) + (However, when C5=OpF)
-----2,9nsecKIIL
-----0,4nsec/pFKLH----1
, 3 nsec/pF Furthermore, the level converter 201 in FIG. 18 can obtain desired characteristics for the following reason.

(1)第14図の場合と同様に、レベル変換器201の
入力スレッシュホールド電圧Vithを1.09乃至1
.15ボルトに設定することができる。
(1) As in the case of FIG. 14, the input threshold voltage Vith of the level converter 201 is set to 1.09 to 1.
.. It can be set to 15 volts.

(2) レベル変換器201の出力容量Csの放電を実
行する出力トランジスタQ、は出力抵抗の小さなバイポ
ーラ・トランジスタにより構成されているため、出力容
量放電時のスイッチング動作速度もしくは伝播遅延時間
およびその出力容量依存性を小さくすることができる。
(2) Since the output transistor Q that discharges the output capacitance Cs of the level converter 201 is composed of a bipolar transistor with small output resistance, the switching operation speed or propagation delay time when discharging the output capacitance and its output Capacity dependence can be reduced.

(3)第14図の場合と同様に、トランジスタQ1、Q
2の蓄積時間を小さくすることができる。
(3) As in the case of Fig. 14, transistors Q1 and Q
The accumulation time of 2 can be reduced.

第19図のレベル変換器201においては、トランジス
タQ、、Q2はショットキ・バリア・ダイオード付きの
クランプド・トランジスタであり、放電用出力トランジ
スタQ1のベースはベース電荷放電用の5キロオームの
抵抗R+ oを介して接地電位点に接続されている。ト
ランジスタQ2のコレクタには8キロオームの負荷抵抗
RI5が接続され、電源電圧Vccとシ謄ットキ・バリ
ア・ダイオードD、のアノードとの間には20キロオー
ムの抵抗Rl 4が接続されている。駆動トランジスタ
Q2のコレクタ信号は充電用出力トランジスタとしての
NチャンネルMO3FET Mn、2のデートに接続さ
れている。、*た、このMn、2の比W/Lは64/3
に設定されている。
In the level converter 201 of FIG. 19, transistors Q, Q2 are clamped transistors with Schottky barrier diodes, and the base of the discharging output transistor Q1 is connected to a 5 kilohm resistor R+o for discharging the base charge. connected to ground potential point via. An 8 kilohm load resistor RI5 is connected to the collector of the transistor Q2, and a 20 kilohm resistor Rl4 is connected between the power supply voltage Vcc and the anode of the automatic barrier diode D. The collector signal of the drive transistor Q2 is connected to the date of an N-channel MO3FET Mn,2 as a charging output transistor. , *The ratio W/L of this Mn, 2 is 64/3
is set to .

かかる第19図のレベル変換器201の伝播遅延時間お
よびその出力容量依存性が下記の通り確認おれた。
The propagation delay time of the level converter 201 shown in FIG. 19 and its output capacitance dependence were confirmed as follows.

tpoL(ただしC5=OpFの時) −−−−1,1
nsectpLo(ただしC5=OpFの時) −−−
−8,6nsecK)IL            −
−−−0,3nsec/pFKLM         
   −−−−2,0nsec/pFさらに、第19図
のレベル変換器201は7、第18図の場合と同様な理
由により希望の特性を得ることができる。
tpoL (when C5=OpF) -----1, 1
nsectpLo (when C5=OpF) ---
-8,6nsecK)IL-
---0,3nsec/pFKLM
---2.0 nsec/pF Furthermore, the level converter 201 in FIG. 19 can obtain desired characteristics for the same reason as in the case of FIG. 7 and FIG.

第20図のレベル変換器201においては、トランジス
タQ、、Q2は同様にクランプド・トランジスタであり
、放電用出力トランジスタQ1のベースにはベース電荷
放電用の5キロオームの抵抗R3゜を介して接地電位点
に接続されている。トランジスタQ2のコレクタには1
0キロオームの負荷抵抗R4が接続され、電源電圧Vc
cとショットキ・バリア・ダイオードD、のアノードと
の間には20キロオームの抵抗R14が接続されている
In the level converter 201 shown in FIG. 20, the transistors Q, Q2 are similarly clamped transistors, and the base of the discharge output transistor Q1 is connected to the ground potential through a 5 kilohm resistor R3 for discharging the base charge. Connected to the dots. 1 at the collector of transistor Q2
A load resistor R4 of 0 kilohms is connected, and the power supply voltage Vc
A 20 kilohm resistor R14 is connected between C and the anode of the Schottky barrier diode D.

駆動トランジスタQ2のコレクタ信号は増幅用トランジ
スタとしてのNチャンネルMO8FETMn ljのデ
ートに印加され、Mn1.の比W/Lは32/3に設定
され、Mn+3のドレインには20キロオームの負荷抵
抗R17が接続されている。Mnl、のドレイン信号は
増幅用トランジスタとしてのPチャンネルMO8FET
 Mpl−のゲートに印加され、Ml)+、の比W/L
は64/3に設定され、Mp+’3のドレインには10
キロオームの負荷抵抗かつ充電用バイポーラ出力トラン
ジスタQ、のベース電荷放電用抵抗としてのRIBが接
続されている7 かかる第20図のレベル変換器201の伝播遅延時間お
よびその出力容量依存性が下記の通り確認された。
The collector signal of the drive transistor Q2 is applied to the date of an N-channel MO8FETMMnlj as an amplification transistor, and the collector signal of the driving transistor Q2 is applied to the date of the N-channel MO8FETMMnlj as an amplification transistor. The ratio W/L is set to 32/3, and a load resistor R17 of 20 kilohms is connected to the drain of Mn+3. The drain signal of Mnl is a P-channel MO8FET as an amplification transistor.
Applied to the gate of Mpl-, the ratio W/L of Ml)+,
is set to 64/3, and the drain of Mp+'3 is set to 10
RIB is connected to the base of the kilo-ohm load resistance and charging bipolar output transistor Q as a charge discharging resistor.7 The propagation delay time of the level converter 201 in FIG. 20 and its output capacitance dependency are as follows. confirmed.

tpuL(ただしC5=OpFの時) −−−”2.2
nsectpLH(ただしC5=OpFの時) −−−
−7,5nsecKHL              
          −−−−0,4nsec/pFK
LH’−−−−0.4nsec/pFさらに、第20図
のレベル変換器201は、下記理由により希望の特性を
得ることができる。
tpuL (when C5=OpF) ---"2.2
nsectpLH (when C5=OpF) ---
-7,5nsecKHL
---0,4nsec/pFK
LH'---0.4 nsec/pF Furthermore, the level converter 201 in FIG. 20 can obtain desired characteristics for the following reason.

(1)第14図の場合と同様に、レベル変換器201の
入力スレッシュホールド電圧Vithを1.09乃至1
.15ボルトに設定することがで外る。
(1) As in the case of FIG. 14, the input threshold voltage Vith of the level converter 201 is set to 1.09 to 1.
.. It can be removed by setting it to 15 volts.

(2)第14図の場合と同様に、出力容量Csの充放電
におけるスイッチング動作速度もしくは伝播遅延時間お
よびその出力容量依存性を小さくすることができる。
(2) As in the case of FIG. 14, the switching operation speed or propagation delay time in charging and discharging the output capacitance Cs and its dependence on the output capacitance can be reduced.

(3)第14図の場合と同様に、トランジスタQ3.Q
2の蓄積時間を小さくすることができる。
(3) As in the case of FIG. 14, transistor Q3. Q
The accumulation time of 2 can be reduced.

(4)駆動トランジスタQ2のフレフタ電位が上昇して
充電用出力トランジスタQ、がオフからオンにスイッチ
動作するに際し、増幅用MO8FETであるMn13と
MDI2とはQ2のコレクタ電位変化を増幅してQ、の
ベースに伝達するばかりではなく、M OS F E 
T Mn + yのデート入力インビーグンスが極めて
大きいことによりQ2のコレクタからQ3のベースへの
大きなベース電流の直接流入を禁止するため、出力トラ
ンジスタQ3のスイッチング速度を向上することができ
る。
(4) When the flefter potential of the drive transistor Q2 rises and the charging output transistor Q switches from off to on, the amplifying MO8FET Mn13 and MDI2 amplify the change in the collector potential of Q2, It not only transmits information to the base of MOS F E
The very large date input immunity of T Mn + y prevents a large base current from flowing directly from the collector of Q2 to the base of Q3, thereby increasing the switching speed of output transistor Q3.

第21図のレベル変換器201においては、Ql、Q2
はクランプド・トランジスタID+はレベルシフト用の
ショットキ・バリア・ダイオードであり、抵抗R+ o
 * R+ 4t RIsはそれぞれ5キロオーム、2
0キロオーム、8キロオームに設定されている。駆動ト
ランジスタQ2のコレクタ信号は電圧増幅器としてのC
MOSインバータを構成するPチャンネル間O8FET
 Mp、とNチャンネルMO8F ET Mn14の両
デートにml加され、両MO8FET Mp、。Mn 
+ <のドレイン信号は充電用出力トランジスタとして
のPチャンネル間O8FET Mp、、、のゲートに印
加される。Mp、4゜Mn+4+ M+)+’lの各地
W/Lはそれぞれ24/3゜22/3,64/3に設定
されている。
In the level converter 201 of FIG. 21, Ql, Q2
is a clamped transistor ID+ is a Schottky barrier diode for level shifting, and a resistor R+ o
*R+ 4t RIs are each 5kOhm, 2
It is set to 0 kilo ohm and 8 kilo ohm. The collector signal of the drive transistor Q2 is C as a voltage amplifier.
O8FET between P channels that constitutes a MOS inverter
ml is added to both dates of Mp, and N-channel MO8FET Mn14, and both MO8FET Mp,. Mn
A drain signal of +< is applied to the gates of the P-channel O8FETs Mp, , as charging output transistors. The local W/Ls of Mp and 4°Mn+4+M+)+'l are set to 24/3°22/3 and 64/3, respectively.

かかる、第21図のレベル変換器201の伝播遅延時間
およびその出力容量依存性が下記の通り確認された。
The propagation delay time of the level converter 201 shown in FIG. 21 and its output capacitance dependence were confirmed as follows.

tpnL(ただしC5=OpFの時)−−−−2,’0
2nsectpu+(ただしC5=OpFの時)−−−
−4,27nsecK ML            
−−−−0,42nsecy’p FKLH−−−−1
,32nsec/pFさらに、第21図の各レベル変換
器201は、下記の理由により希望の特性を得ることが
できる。
tpnL (when C5=OpF)---2,'0
2nsectpu+ (however, when C5=OpF) ---
-4,27nsecK ML
-----0,42nsecy'p FKLH---1
, 32 nsec/pF Furthermore, each level converter 201 in FIG. 21 can obtain desired characteristics for the following reasons.

(1)、第14図の場合と同様に、レベル変換器201
の入力スレッシェホールド電圧Vithヲ1.09乃至
1.15ボルトに設定することができる。
(1), as in the case of FIG. 14, the level converter 201
The input threshold voltage Vith can be set between 1.09 and 1.15 volts.

(2) レベル変換器201の出力容量Csの放電を実
行する出力トランジスタQ、は出力抵抗の小さなバイポ
ーラ・トランジスタにより構成されているため、出力容
量放電時のスイッチング動作速度もしくは伝播遅延時間
およびその出力容量依存性を小さくすることができる。
(2) Since the output transistor Q that discharges the output capacitance Cs of the level converter 201 is composed of a bipolar transistor with small output resistance, the switching operation speed or propagation delay time when discharging the output capacitance and its output Capacity dependence can be reduced.

(3)第14図の場合と同様に、トランジスタQ1、Q
2の蓄積時間を小さくすることができる。
(3) As in the case of Fig. 14, transistors Q1 and Q
The accumulation time of 2 can be reduced.

第22図のレベル変換器201においては、Q、は放電
用出力トランジスタとしてのクランプド・トランジスタ
であり、入力端子IN、にはレベルシフト用のシッット
キ・バリア・ダイオードD1のカソードが接続されてい
る6D1の7ノードとQ、のベースとの開にはレベルシ
フト用のP1合ダイオードD5が接続され、電源電圧V
ccとD I ID、の両アノードとの間には10キロ
オームと等しい抵抗値に定められた抵抗Rl !l t
 R20が直列接続され、入力端子IN、とQ、のベー
スとの開には、ベース電荷放電用のシ5ットキ・バリア
・ダイオードD6が接続されている。
In the level converter 201 of FIG. 22, Q is a clamped transistor as an output transistor for discharging, and the input terminal IN is connected to the cathode of a Schittke barrier diode D1 for level shifting. A level shift P1 combination diode D5 is connected between the 7th node of Q and the base of Q, and the power supply voltage V
Between the anodes of cc and DIID, there is a resistor Rl with a resistance value equal to 10 kilohms! lt
R20 are connected in series, and a Schittky barrier diode D6 for base charge discharge is connected between the bases of the input terminals IN and Q.

抵抗に* R2゜の共通接続点は充電用出力トランジス
タとしてのPチャンネル間O8FET M+)++のゲ
ートに接続され、Mp、 、の比W/Lは64/3に設
定されている。
The common connection point of *R2° to the resistor is connected to the gate of a P-channel O8FET M+)++ as a charging output transistor, and the ratio W/L of Mp, , is set to 64/3.

かかる、第22図のレベル変換器の伝播遅延時間および
その出力容量依存性が下記の通り確認された。
The propagation delay time of the level converter shown in FIG. 22 and its output capacitance dependence were confirmed as follows.

しp)IL(ただしCs = Op Fの時) −−−
−2,44nsectpu+(ただしC5=OpFの時
) −−−−5,41nsecK)IL       
      −−−−1,0nsec/pFKLH−−
−−5,3nsec/pF さらに、第22図のレベル変換器201は、下記の理由
により希望の特性を得ることができる。
p) IL (when Cs = Op F) ---
-2,44nsecpu+(when C5=OpF) ---5,41nsecK)IL
---1,0nsec/pFKLH--
--5.3 nsec/pF Furthermore, the level converter 201 in FIG. 22 can obtain desired characteristics for the following reason.

(1)ショットキ・バリア・ダイオードD、の順方向電
圧Vpは0.35乃至0.41ボルトに設定され、PN
接合ダイオードD、の順方向電圧Vpは0.75ボルト
に、トランジスタQ、のベース・エミッタ開電圧VII
E、は0.75ボルトであるため、トランジスタQ、が
オンとなるためのレベル変換器201の入力スレッシュ
ホールド電圧Vithは下記のように設定される。
(1) The forward voltage Vp of the Schottky barrier diode D is set to 0.35 to 0.41 volts, and the PN
The forward voltage Vp of the junction diode D, is 0.75 volts, and the base-emitter open circuit voltage VII of the transistor Q,
Since E is 0.75 volts, the input threshold voltage Vith of the level converter 201 for turning on the transistor Q is set as follows.

Vith=  VFl+VP5+Vl]El=1.09
乃至1.15ボルト (2) 出力容量Csの放電を実行する出力トランジス
タQ、は出力抵抗の小さなバイポーラ・トランジスタに
より構成されているため、スイッチング時間もしくは伝
播遅延時間およびその出力容量依存性を小さくすること
ができる。
Vith=VFl+VP5+Vl]El=1.09
to 1.15 volts (2) Since the output transistor Q, which discharges the output capacitance Cs, is composed of a bipolar transistor with small output resistance, the switching time or propagation delay time and its dependence on the output capacitance are reduced. be able to.

(3) トランジスタQ、はクランプド・トランジスタ
であるため、その蓄積時間を小さくすることがで鰺る。
(3) Since the transistor Q is a clamped transistor, it is possible to reduce its storage time.

第23図のレベル変換器201においては、Q3.Q2
はクランプド・トランジスタfDlはレベルシフト用の
ショットキ・バリア・ダイオードであり、抵抗R1゜t
 R141RI5はそれぞれ5キロオーム、20キロオ
ーム、8キロオームに設定されている。駆動トランジス
タQ2のコレクタ信号は電圧増幅器としてのCMOSイ
ンバータを構成するPチャンネルMO8F’ET Mp
zとNチャンネルMn8 FET Mnzの両ゲートに
印加され、両MO8FETのドレイン出力はスイッチ用
のPチャンネルMO8F’ET Mplgのゲートに印
加される。Mp14y Mn14y Mp+sノ各比W
各地はそれぞれ24/3.32/3.64/3に設定さ
れている。
In the level converter 201 of FIG. 23, Q3. Q2
The clamped transistor fDl is a Schottky barrier diode for level shifting, and the resistor R1゜t
R141RI5 is set to 5 kilo ohms, 20 kilo ohms, and 8 kilo ohms, respectively. The collector signal of the drive transistor Q2 is a P-channel MO8F'ET Mp that constitutes a CMOS inverter as a voltage amplifier.
z and the gates of an N-channel Mn8 FET Mnz, and the drain outputs of both MO8FETs are applied to the gate of a P-channel MO8F'ET Mplg for switching. Mp14y Mn14y Mp+s ratio W
Each region is set to 24/3.32/3.64/3.

M OS F E T Mp、 5のドレイン出力は充
電用出力トランジスタとしてのバイポーラ・トランジス
タQ、のベースに印加されている。
The drain output of the MOS FET Mp,5 is applied to the base of a bipolar transistor Q, which serves as a charging output transistor.

かかる、第23図のレベル変換器の伝播遅延時間およゾ
その出力容量依存性が下記の通り確認された。
The propagation delay time of the level converter shown in FIG. 23 and its output capacitance dependence were confirmed as follows.

tpnL(ただしes=OpFの時) −−−−5,0
7nsectpLn(ただしC5=OpFの時) −−
−−5,09nsecK Ht、          
  −−−−0,4nsec/p FK+−u    
        −−−−0,4nsec/pFさらに
、第23図のレベル変換器201は、下記理由により希
望の特性を得ることができる。
tpnL (when es=OpF) -----5,0
7nsectpLn (when C5=OpF) --
--5,09nsecK Ht,
---0,4nsec/p FK+-u
---0.4 nsec/pF Furthermore, the level converter 201 in FIG. 23 can obtain desired characteristics for the following reasons.

(1)第14図の場合と同様に、レベル変換器201の
入力スレッシュホールド電圧Vithヲ1.09乃至1
.15ボルトに設定することができる。
(1) As in the case of FIG. 14, the input threshold voltage Vith of the level converter 201 is 1.09 to 1.
.. It can be set to 15 volts.

(2)第14図の場合と同様に、出力容量Csの充放電
におけるスイッチング動作速度もしくは伝播遅延時間お
よびその出力容量依存性を小さくすることがで終る。
(2) As in the case of FIG. 14, the switching operation speed or propagation delay time in charging and discharging the output capacitance Cs and its dependence on the output capacitance are reduced.

(3)第14図の場合と同様に、トランジスタQ1、Q
、の蓄積時間を小さくすることがで鰺る。
(3) As in the case of Fig. 14, transistors Q1 and Q
This can be achieved by reducing the accumulation time of .

(4)駆動トランジスタQ、のフレフタ電位が上昇して
充電用出力トランジスタQ、がオフからオンにスイッチ
動作するに際し、CMOSインバータMρ、。、Mn+
4はQ2のコレクタ電位変化を増幅してQ、のベースに
伝達するばかりではなく、Mn8 FET Mp+4t
、Mnzのデー1ト入入力ンピーダンスが極めて大きい
ことによりQ2のコレクタ力・らQ、のベースへの大鰺
なベース電流の直接流入を禁止するため、出力トランジ
スタQ、のスイッチング速度を向上することができる。
(4) When the flip-flop potential of the drive transistor Q rises and the charging output transistor Q switches from off to on, the CMOS inverter Mρ. , Mn+
4 not only amplifies the collector potential change of Q2 and transmits it to the base of Q, but also Mn8 FET Mp+4t
The switching speed of the output transistor Q is improved because the input and input impedance of , Mnz is extremely large, and the collector force of Q2 prohibits a large base current from directly flowing into the base of Q. I can do it.

第24図のレベルシフト201は充電用出力トランジス
タQ、のベース電荷放電用の10キロオームの抵抗R2
8がQ、のベース・エミッタ間に接続されている点のみ
が第23図のものと相違し、かかる第24図のレベル変
換器201についても、その伝播遅延時間およびその出
力容量依存性が下記の通り確認された。
The level shift 201 in FIG. 24 is a 10 kilohm resistor R2 for discharging the base charge of the charging output transistor Q.
The only difference from the level converter 201 in FIG. 23 is that 8 is connected between the base and emitter of Q, and the propagation delay time and output capacitance dependence of the level converter 201 in FIG. 24 are as follows. It was confirmed as follows.

tpoL(ただしC5=OpFの時) −−−−6,2
nsectpLn(ただしC5=OpFの時) −−−
−4,9nsecKHL            −−
−−0,4nsec/pFK LM         
  −−−−0,4nsec/p Fさらに、第24図
のレベル変換器201は、第、23図の場合と同様な理
由により希望の特性を得ることがで鰺る。
tpoL (when C5=OpF) -----6, 2
nsectpLn (when C5=OpF) ---
−4,9nsecKHL --
--0,4nsec/pFK LM
---0.4 nsec/p F Furthermore, the level converter 201 in FIG. 24 can obtain the desired characteristics for the same reason as in the case of FIG. 23.

第2.5Iのレベル変換器201は、放電用出力トラン
ジスタQ、のベース電荷放電回路の抵抗R3゜が1.5
キロオームの抵抗R,,,3キロオームの抵抗R20t
 クランプド・トランジスタQ6により構成されたアク
ティブ・プルダウン回路により置換され、充電用出力ト
ランジスタQ、のベース電荷を放電するためのショット
キ・バリア・ダイオードがQ、のベースとQ2のコレク
タとの間に接続されている点のみが第24図のものと相
違し、かかる第25図についても、その伝播遅延時間お
よびその出力容量依存性が下記の通り確認された。
In the 2.5I level converter 201, the resistance R3° of the base charge discharging circuit of the discharging output transistor Q is 1.5°.
Kilohm resistance R,,,3 kiloohm resistance R20t
It is replaced by an active pull-down circuit constituted by a clamped transistor Q6, and a Schottky barrier diode for discharging the base charge of the charging output transistor Q is connected between the base of Q and the collector of Q2. The only difference from that shown in FIG. 24 is that the propagation delay time and its output capacitance dependence in FIG. 25 were confirmed as follows.

しpHL(ただしC5=OpFの時) −−−−6,6
nsecLpu+(ただしC5=OpFの時) −−−
−5,3nsecKHL            −一
−−0,4nsec/ pFKLH−−−−0,4ns
ec/pF さらに、第25図のレベル変換器201は、第23図の
場合と同様な理由により希望の特性を得ることがで終る
pHL (when C5=OpF) -----6,6
nsecLpu+ (when C5=OpF) ---
-5,3nsecKHL -1--0,4nsec/ pFKLH---0,4ns
ec/pF Furthermore, the level converter 201 in FIG. 25 ends up obtaining desired characteristics for the same reason as in the case of FIG. 23.

第26図のレベル変換器201は、第25図のアクティ
ブ・プルダウン回路RB、s+ R201Qeと同じア
クティブ・プルダウン回路によって放電抵抗R5゜が置
換されている点のみが第24図のものと相違し、かかる
第26図についても、その伝播遅延時間およびその出力
容量依存性が下記の通り確認された。
The level converter 201 in FIG. 26 differs from the one in FIG. 24 only in that the discharge resistor R5° is replaced by the same active pull-down circuit as the active pull-down circuit RB, s+ R201Qe in FIG. 25, Regarding FIG. 26 as well, the propagation delay time and its output capacitance dependence were confirmed as follows.

tpHt(ただしC5=OpFの時) −−−−8,6
2nsectpt、n(ただしC5==OpFの時) 
−−−−4,7nsecKot、          
  −−−−0,4nsec/pFKLH−−−−0,
4nsec/pF さらに、第26図のレベル変換器201は、第23図の
場合と同様な理由により希望の特性を得ることができる
tpHt (when C5=OpF) -----8,6
2nsectpt, n (when C5==OpF)
-----4,7nsecKot,
-----0,4nsec/pFKLH---0,
4 nsec/pF Furthermore, the level converter 201 in FIG. 26 can obtain desired characteristics for the same reason as in the case of FIG. 23.

第27図のレベル変換器201においては、バイポーラ
・トランジスタQ、、Q2.Q、はそれぞれ放電用出力
トランジスタ、駆動トランジスタ。
In the level converter 201 of FIG. 27, bipolar transistors Q, , Q2 . Q is a discharge output transistor and a drive transistor, respectively.

充電用出力トランジスタであり、D、、D’、はそれぞ
れレベルシフト用のショットキ・バリア・ダイオード、
PN接合ダイオードであり、Rl 4 t Rl 6 
fR,、、R22はそれぞれ20キロオーム、8キロオ
ーム、10キロオーム、10キロオームの抵抗であり、
MplsrMn+sはそれぞれPチャンネル間O8FE
T、NチャンネルMO8FETであり、両Mp+st 
Mn+sの比W/Lはともに32/3と等しい値に設定
されている。
These are output transistors for charging, and D, , D' are Schottky barrier diodes for level shifting, respectively.
It is a PN junction diode, Rl 4 t Rl 6
fR, , R22 are resistances of 20 kOhm, 8 kohm, 10 kohm, and 10 kohm, respectively,
MplsrMn+s is O8FE between P channels, respectively.
T, N channel MO8FET, both Mp+st
The ratio W/L of Mn+s is both set to a value equal to 32/3.

特に、Mfl+s+ Mn’lGI Qll Q3が低
出力抵抗の準CMOSインバータ型の増幅器である点に
特徴がある。
In particular, Mfl+s+ Mn'lGI Qll Q3 is characterized in that it is a quasi-CMOS inverter type amplifier with low output resistance.

かかる第27図のレベル変換器201の伝播遅延時間お
よびその出力容量依存性が下記の通り確認されな。
The propagation delay time of the level converter 201 in FIG. 27 and its output capacitance dependence are confirmed as follows.

tpoL(ただしC5=OpFの時)−−−−5,48
nsectpLu(ただしC5=OpFの時)−−−−
5,23nsecKHL            −−
−−0,37nsec/pFKLH−−−−0,38n
sec/pFさらに、第27図のレベル変換器201は
、下記理由により希望の特性を得ることができる。
tpoL (when C5=OpF)---5,48
nsectpLu (when C5=OpF) -----
5,23nsecKHL --
--0,37nsec/pFKLH---0,38n
sec/pF Furthermore, the level converter 201 in FIG. 27 can obtain desired characteristics for the following reasons.

(1)ショットキ・バリア・ダイオードD1の順方向電
圧Vpは0.35乃至0.41ボルト、トランジスタQ
2のベース・エミッタ間電圧Vep2は0゜75ポル)
、F’N接合ダイオードD8の順方向電圧■F8は0.
75ボルトに設定されているため′、トランジスタQ2
のオン・オフ動作に関するレベル1換器201の入力ス
レッシュホールド電圧Vitbは下記のように設定され
る。
(1) Forward voltage Vp of Schottky barrier diode D1 is 0.35 to 0.41 volts, transistor Q
The base-emitter voltage Vep2 of 2 is 0°75pol)
, the forward voltage of the F'N junction diode D8 is 0.
Since it is set to 75 volts, transistor Q2
The input threshold voltage Vitb of the level 1 converter 201 regarding the on/off operation of is set as follows.

Vith=  Vp、+V’ea2+VF@=1.09
乃至1.15ボルト (2)出力容量Csの放電もしくは充電を実行する出力
トランジスタQ、、Q、は出力抵抗の小さなバイポーラ
・トランジスタにより構成されているため、スイッチン
グ動作速度もしくは伝播遅延時間およびその出力容量依
存性を小さくすることができる。
Vith= Vp, +V'ea2+VF@=1.09
to 1.15 volts (2) Since the output transistors Q, , Q, which discharge or charge the output capacitance Cs are composed of bipolar transistors with small output resistance, the switching operation speed or propagation delay time and its output Capacity dependence can be reduced.

(3)QllQ2はクランプド・トランジスタであるた
め、その1141時間を小さくすることがでとる。
(3) Since QllQ2 is a clamped transistor, the 1141 time can be reduced.

(4)駆動トランジスタQ2のコレクタ電位変化は準C
MOSインバータMp16t M n + 6+ Q 
* + Q +により増幅されて出力に伝達されてし・
るため、出力波形変化速度を向上することができる。
(4) The collector potential change of drive transistor Q2 is quasi-C
MOS inverter Mp16t M n + 6+ Q
* + Q + is amplified and transmitted to the output.
Therefore, the output waveform change speed can be improved.

第28図のレベル変換器201は、トランジスタQ2の
コレクタ負荷が抵抗R1・。ではな(、PN接合ダイオ
ードDs=D、。と5キロオームの抵抗R2’lによ1
)構成されている点のみが第27図のものと相違し、か
かる第28図のレベル変換器の伝播遅延時間およびその
出力容量依存性が下記の通り確認された。
In the level converter 201 of FIG. 28, the collector load of the transistor Q2 is a resistor R1. Then (, PN junction diode Ds=D,
) The only difference from the level converter shown in FIG. 27 is the structure, and the propagation delay time and output capacitance dependence of the level converter shown in FIG. 28 were confirmed as follows.

しp)It、(ただしC5=OpFの時)−−−−6,
66nsectpLn(ただしC5=OpFの時)−−
−−4,16nsecKHL            
−−−−0,42nsec/ pFKL)I     
       −−−−0,37nsec/pFさらに
、第28図のレベル変換器201は、第27図の場合と
同様な理由により希望の特性を得ることができる。
p) It, (when C5=OpF)---6,
66nsectpLn (when C5=OpF) --
--4,16nsecKHL
-----0,42nsec/pFKL)I
----0.37 nsec/pF Furthermore, the level converter 201 in FIG. 28 can obtain desired characteristics for the same reason as in the case of FIG. 27.

第29図のレベル変換器201は、トランジスタQ、を
確実にオフさせるためのPN接合ダイオードD、が接続
され、トランジスタQ3のベース電荷を放電させるため
のショットキ・バリア・グイオードD7が接続されてい
る点のみが第23図のものと相違し、かかる第29図の
レベル変換器201についても、その伝播遅延時間およ
びその出力容量依存性が下記の通り確認された。
The level converter 201 in FIG. 29 is connected to a PN junction diode D for reliably turning off the transistor Q, and to a Schottky barrier diode D7 for discharging the base charge of the transistor Q3. The level converter 201 shown in FIG. 29 differs only in this point from that shown in FIG. 23, and its propagation delay time and its output capacitance dependence were confirmed as follows.

tp+n、(ただしC5=OpFの時)−−−−1,7
2nsectpLn(ただしC5=OpFの時1−−−
5.44nsecKIIL           −−
−−0,32nsec/pFKLH−−−−0,29n
sec/pFさらに、第29図のレベル変換器201は
、第23図の場合と同様な理由により希望の特性を得る
ことができる。
tp+n, (when C5=OpF)---1,7
2nsectpLn (1--- when C5=OpF
5.44nsecKIIL --
--0,32nsec/pFKLH---0,29n
sec/pF Furthermore, the level converter 201 in FIG. 29 can obtain desired characteristics for the same reason as in the case of FIG. 23.

第30図のレベル変換器は、第29図において抵抗R1
が25キロオームの抵抗R24と5キロオームの抵抗R
25とによって置換され、抵抗RI 5が比W/Lが2
4/3に設定されたPチャンネルMOS F E T 
Mpltによって置換されている点のみが第29図のも
のと相違している。MfhtはQ2の能動負荷素子とし
て動作するため、増幅器Q21Mp17の電圧利得は極
めて大きな値となる6かがる第30図についても、伝播
遅延時間およびその出力容量依存性が下記の通り確認さ
れた。
The level converter of FIG. 30 has a resistor R1 in FIG.
is a resistance R24 of 25 kilohms and a resistor R24 of 5 kilohms.
25 and the resistor RI 5 has a ratio W/L of 2
P channel MOS FET set to 4/3
The only difference from the one in FIG. 29 is that it is replaced by Mplt. Since Mfht operates as an active load element for Q2, the voltage gain of amplifier Q21Mp17 is extremely large.For FIG. 30, the propagation delay time and its output capacitance dependence were confirmed as follows.

tp+u、(ただしC5=OpFの時) −−−−2,
2nsectpLH(ただしC5=OpFの時) −−
−−5,2nsecKML          −−−
−0,4nsec/pFKLH−−−−0,3nsec
/pF さらに、第30図のレベル変換器201は、第23図の
場合と同様な理由により希望の特性を得ることができる
tp+u, (when C5=OpF) ------2,
2nsectpLH (when C5=OpF) --
--5,2nsecKML ---
-0,4nsec/pFKLH---0,3nsec
/pF Furthermore, the level converter 201 in FIG. 30 can obtain desired characteristics for the same reason as in the case of FIG. 23.

第31図のレベル変換器201においては、トランジス
タQ、、Q2はクランプド・トランジスタ。
In the level converter 201 of FIG. 31, transistors Q, Q2 are clamped transistors.

Q3は充電用出力トランジスタ104はPNPエミッタ
・7オロワ・トランジスタ、DIはレベルシフト用のシ
ョットキ・バリア・ダイオード、D2はレベルシフト用
のPN接合ダイオード1DffはトランジスタQ、を確
実にオフさせるためのPN接合ダイオードf Dsは入
力端正の負のノイズをクランプするためのシ9ットキ・
バリア・ダイオードである。抵抗R3゜r RISI 
Roはそれぞれ5キロオーム、8キロオーム、20キロ
オームに設定されている。駆動トランジスタQ2のコレ
クタ信号は電圧増幅器としてのCMOSインバータを構
成するPチャンネルMO8FET Mpl−とNチャン
ネルMOS  FET Mn1−の両デートに印加され
、両MO8FETのドレイン出力はスイッチ用のPチャ
ンネルMO8FET Mp+sのゲートに印加される。
Q3 is a charge output transistor 104 is a PNP emitter/7-lower transistor, DI is a Schottky barrier diode for level shifting, D2 is a PN junction diode for level shifting, and 1Dff is a PN transistor to ensure that the transistor Q is turned off. The junction diode fDs is a switchboard for clamping the negative noise on the input terminal.
It is a barrier diode. Resistance R3゜r RISI
Ro is set to 5 kilo ohms, 8 kilo ohms, and 20 kilo ohms, respectively. The collector signal of the drive transistor Q2 is applied to both the dates of the P-channel MO8FET Mpl- and the N-channel MOS FET Mn1- that constitute the CMOS inverter as a voltage amplifier, and the drain output of both MO8FETs is applied to the gate of the P-channel MO8FET Mp+s for the switch. is applied to

Mpzt Mn+ns Mp+sの各地W/Lはそれぞ
れ24/3.32/3.64/3に昶定されている。M
OS FET Mp、、のドレイン出力は充電用出力ト
ランジスタとしてのバイポーラ・トランジスタQ、のベ
ースに印加されている。
The local W/L of Mpzt Mn+ns Mp+s is set to 24/3.32/3.64/3, respectively. M
The drain output of the OS FET Mp, , is applied to the base of a bipolar transistor Q, which serves as a charging output transistor.

かかる、第31図のレベル変換器201の伝播遅延時間
およびその出力容量依存性が下記の通り確認され・た。
The propagation delay time of the level converter 201 shown in FIG. 31 and its output capacitance dependence were confirmed as follows.

tpuL(ただしC5=OpFの時)−−−−1,94
−3,84nsectpLn(ただしC5=OpFの時
)−、−4,64−5,44nsecK)IL    
         −−−−0+38nsec/pFK
L11            −−−−0.30ns
ec/ pFさらに、第31図のレベル変換器201は
、下記理由により希望の特性を得ることができる6(1
) ショットキ・バリア・ダイオードD、の順方向電圧
Vp10.35乃至0.41ボルト、PNN接合ダイオ
−ドウ2順方向電圧VF2は約0.75ボルト、トラン
ジスタQ、、Q2.Q、のベース・エミッタ間電圧VR
RI ? VBE!21 Vns4ハ約0.75.if
シルトあるため、トランジスタQ、、Q2がオンとなる
入力スレッシュホールド電圧Vithは下記のようにな
る。
tpuL (when C5=OpF)---1,94
-3,84nsec pLn (when C5=OpF) -, -4,64-5,44nsecK)IL
---0+38nsec/pFK
L11 ----0.30ns
ec/pF Furthermore, the level converter 201 in FIG.
) Schottky barrier diode D, forward voltage Vp10.35 to 0.41 volts, PNN junction diode 2 forward voltage VF2 about 0.75 volts, transistors Q, , Q2 . Base-emitter voltage VR of Q
RI? VBE! 21 Vns4ha approx. 0.75. if
Due to the presence of silt, the input threshold voltage Vith at which transistors Q, Q2 are turned on is as follows.

Vith=  VeE4+Vp2+VBE2+VnE+
=1.5ボルト (2)出力容量Csの放電もしくは充電を実行する出力
トランジスタQ、、Q3は出力抵抗の小さなバイポーラ
・トランジスタにより構成されているため、スイッチン
グ動作速度もしくは伝播遅延時間およびその出力容量依
存性を小さくすることができる。
Vith= VeE4+Vp2+VBE2+VnE+
= 1.5 volts (2) Since the output transistors Q, Q3, which discharge or charge the output capacitance Cs, are composed of bipolar transistors with small output resistance, the switching operation speed or propagation delay time and its output capacitance Dependency can be reduced.

(3)Ql、Q2はクランプド・トランジスタであるた
め、その蓄積時間を小さくすることがでとる。
(3) Since Ql and Q2 are clamped transistors, their storage time can be reduced.

(4)駆動トランジスタQ2のコレクタ電位が上イして
充電用バイポーラ出力トランジスタQ3がオフからオン
にスイッチ動作するに際し、CMOSイア/(−夕Mp
14.MnzはQ2のコンフタ電位変化を増幅してQ、
のベースに伝達するばかりではなく、MOS FET 
Mp、、、Mnzのデート入力インピーダンスが極めて
大きいことによりQ2のコレクタからQ、のベースへの
大鰺なベース電流の直接流入を禁止するとともに、Mp
15の小さなオン抵抗を介してQ、のベースにベース電
流が供給されるため、出力トランジスタQ、のスイッチ
ング速度を向上することができる。 第3図には、第1
4図、第19図、第22図、第33図のレベル変換器の
伝播遅延時間の出力容量依存性が一点鎖線により示され
ており、第1図と第2図の伝播遅延時間のいずれか一方
の出力容量依存性が改善されていることが理解できる。
(4) When the collector potential of the drive transistor Q2 rises and the charging bipolar output transistor Q3 switches from off to on, the CMOS ear/(-event Mp
14. Mnz amplifies the change in the converter potential of Q2 and becomes Q,
In addition to transmitting data to the base of the MOS FET
The date input impedance of Mp, , Mnz is extremely large, which prohibits a large base current from directly flowing from the collector of Q2 to the base of Q.
Since the base current is supplied to the base of Q through the small on-resistance of 15, the switching speed of the output transistor Q can be improved. Figure 3 shows the first
The dependence of the propagation delay time of the level converters in Figures 4, 19, 22, and 33 on the output capacitance is shown by the dashed-dotted line. It can be seen that the output capacitance dependence on the other hand has been improved.

次に、第6図の出力バッフ722の複数の0MO8−T
TLレベル変換器221,222−−−−22mについ
て説明する。これらのレベル変換器221、222−−
−−22mの本質的特徴は下記の通りである。
Next, a plurality of 0MO8-Ts of the output buffer 722 in FIG.
The TL level converters 221, 222---22m will be explained. These level converters 221, 222--
--The essential features of 22m are as follows.

(1)各レベル変換器221.222−−−−22mの
入力スレッシュホールド電圧VithlICMOSロー
レベル出力電圧0.6ボルトのハイレベル出力電圧4.
4ボルトとの間に設定されている。
(1) Input threshold voltage of each level converter 221.222--22m VithlICMOS low level output voltage 0.6 volt high level output voltage 4.
It is set between 4 volts.

(2)その入力端子に供給される入力信号に応答して各
レベル変換器221,222−一一−22mの出力負荷
容量Cxの放電を実行する出力トランジスタはバイポー
ラ・トランジスタにより構成されている。
(2) The output transistor that discharges the output load capacitance Cx of each level converter 221, 222-11-22m in response to the input signal supplied to its input terminal is constituted by a bipolar transistor.

さらに、出力バッ7ア22のレベル変換器221 、2
22−=−22mの好ましい実施形態上の好適な特徴は
下記の通りである。
Furthermore, the level converters 221 and 2 of the output buffer 22
Preferred features of the preferred embodiment of 22-=-22m are as follows.

(3)放電用出力トランジスタQIOのベースを駆動す
る駆動トランジスタQ+1のベースと内部論理ブロック
21の出力との間には高入力インビーグンス回路が接続
されている。
(3) A high input immunity circuit is connected between the base of the drive transistor Q+1 that drives the base of the discharge output transistor QIO and the output of the internal logic block 21.

(4)上記(3)の高入力インピーグンス回路は内部−
環ブロック21の複数の出力信号を論理処理する機能を
有する。
(4) The high input impedance circuit in (3) above is internally
It has a function of logically processing a plurality of output signals of the ring block 21.

(5)放電用出力トランジスタQ toと駆動トランジ
スタQ、とは、ショットキ・バリア・ダイオード付訃の
クランプド・トランジスタにより構成されている。
(5) The discharging output transistor Qto and the drive transistor Q are constituted by a clamped transistor with a Schottky barrier diode.

(6)出力負荷容量C×を充電する出力トランジスタQ
1□はバイポーラ・トランジスタにより構成されている
(6) Output transistor Q charging output load capacitance C×
1□ is constituted by a bipolar transistor.

(7)制御信号に応答して放電用出力トランジスタQI
Oと充電用出力トランジスタQ+2とを同時にオフする
ことにより出力端子OUT、を70−ティング状態に、
コントロールする機能を有する。
(7) Output transistor QI for discharging in response to a control signal
By simultaneously turning off O and the charging output transistor Q+2, the output terminal OUT is brought into a 70-ting state.
It has the function of controlling.

(8) レベル変換器221,222−−−−22mは
、オープン・コレクタ出力形式となっている。
(8) The level converters 221, 222---22m have an open collector output format.

第32図乃至第34図および第36図は、本発明の実施
例による出力バッファ20のレベル変換器221の種々
の回路例を示し、これら全てのレベル変換器は上記(1
)および(2)の本質的特徴を有している。さらに、こ
れらのレベル変換器は上記(3)乃至(8)の好適な特
徴のうち少なくとも一個を有している。
32 to 34 and 36 show various circuit examples of the level converter 221 of the output buffer 20 according to embodiments of the present invention, and all of these level converters are shown in (1) above.
) and (2). Furthermore, these level converters have at least one of the preferred features (3) to (8) above.

第32図のレベル変換器221において、Q、。In the level converter 221 of FIG. 32, Q.

は出力負荷容量C×を放電するための出力トランジスタ
IQIIはQ、。を駆動するための駆動トランジスタy
Q+□は出力負荷容量Cxを充電するための出力トラン
ジスタ、Q、3はQ++のコレクタ信号変化をQ12の
ベースに伝達するための電流増幅トランジスタt R3
01Rfflt Q14はQ 10のベース電荷を放電
するためのアクティブ・プルダウン回路。
is the output transistor IQII for discharging the output load capacitance C×. Drive transistor y to drive
Q+□ is an output transistor for charging the output load capacitance Cx, Q, 3 is a current amplification transistor tR3 for transmitting the collector signal change of Q++ to the base of Q12.
01Rfflt Q14 is an active pull-down circuit for discharging the base charge of Q10.

QCsはマルチ・エミッタ・トランジスタ、R32はQ
、のコレクタ抵抗、R1,はQ12のベース電荷を放電
させるための抵抗ID+。はQ l 2のベース電荷を
放電させるためのシタットキ・バリア・ダイオード、R
1,はQ1□tQl+のコレクタ電流を制限するための
抵抗、R3,はQCsのベース抵抗である。
QCs is a multi-emitter transistor, R32 is a Q
, the collector resistance R1, is a resistance ID+ for discharging the base charge of Q12. is a sitatchi barrier diode for discharging the base charge of Q l 2, R
1 is a resistance for limiting the collector current of Q1□tQl+, and R3 is a base resistance of QCs.

さらに、内部論理ブロック″21のPチャンネルMO3
FET M、、M2とNチャンネルMO8FET M3
.M、とt、:より構成1icMO9−NANDゲート
211の出力はマルチ・エミッタ・トランジスタQIS
の第1エミツタに印加され、0MO6−NANDデート
212の出力はQ10の第2エミツタに印加され、0M
O8−NANDデ−)213の出力はQ+sの第3エミ
ツタに印加されている。従って、レベル変換器221は
レベル変換機能を有するだけでなく、3人力NANDデ
ートとしての論理処理機能を有する。
Furthermore, P channel MO3 of internal logic block "21"
FET M,, M2 and N-channel MO8FET M3
.. M, and t: The output of the 1ic MO9-NAND gate 211 is a multi-emitter transistor QIS.
The output of 0MO6-NAND date 212 is applied to the second emitter of Q10, 0M
The output of O8-NAND data) 213 is applied to the third emitter of Q+s. Therefore, the level converter 221 not only has a level conversion function but also a logic processing function as a three-man NAND date.

さらに、第32図のレベル変換器221は、下記の理由
により希望の特性を得ることができる。
Furthermore, the level converter 221 in FIG. 32 can obtain desired characteristics for the following reason.

(1)  )ランジスタQC5のベース・エミッタ間電
圧Vst+sは約0.75ボルト、Q4.のベース・コ
レクタ間の電圧MBCは約0.55ボルト、トランジス
タQ+o、Q++のベース・エミッタ間電圧VeF:l
ot VBR口はそれぞれ約0.75ボルトであるため
、レベルi換器221の入力スレッシュホールド電圧V
ithは下記のように設定される。
(1)) The base-emitter voltage Vst+s of transistor QC5 is approximately 0.75 volts, Q4. The base-collector voltage MBC of the transistors is approximately 0.55 volts, and the base-emitter voltage VeF of the transistors Q+o and Q++ is approximately 0.55 volts.
ot VBR ports are each about 0.75 volts, so the input threshold voltage V of level i converter 221
ith is set as follows.

Vitl+=−VIIIg+5+Vac1g+Veg+
++Vep+。
Vitl+=-VIIIg+5+Vac1g+Veg+
++Vep+.

=−0,75+0.55+0.75+0.75=1.3
ボルト (2) レベル変換器221の出力負荷容量Cxの放電
もしくは充電を実行す5る出力トランジスタQ10tQ
+□は出力抵抗の小さなバイポーラ・トランジスタによ
り構成されているため、スイッチング動作速度もしくは
伝播遅延時間およびその出力容量依存性を小さくするこ
とができる。
=-0,75+0.55+0.75+0.75=1.3
Volt (2) Output transistor Q10tQ that discharges or charges the output load capacitance Cx of the level converter 221
Since +□ is constituted by a bipolar transistor with a small output resistance, the switching operation speed or propagation delay time and its dependence on output capacitance can be reduced.

(3) トランジスタQI OI Q I I t Q
 I :l I Q + 41 Ql、はクランプド・
・トランジスタであるため、その蓄積時間を小さくする
ことができる。
(3) Transistor QI OI Q I I t Q
I :l I Q + 41 Ql, is clamped
- Since it is a transistor, its storage time can be reduced.

(4)マルチ・エミッタ・トランジスタQISは論理処
理機能を有しているので、マスタースライス方式又はゲ
ートアレイ方式の論理用半導体集積回路装置ICの設計
自由度が向上する。
(4) Since the multi-emitter transistor QIS has a logic processing function, the degree of freedom in designing a master slice type or gate array type logic semiconductor integrated circuit device IC is improved.

しかしなが呟かかる第32図のレベル変換器221にお
いては、CMO3−NANDデート211の出力がロー
レベルの場合には抵抗R,,Ql、のベース・エミッタ
接合を介して電源電圧Vccから0MO8−NANDデ
ート211の出力に0゜4ミリアンペアという大きな電
流が常に流れこむため、0MO8−NANDゲート21
1のNチャンネルMO8FET M、、M4の比W/L
を100/3と大きな値としてオン抵抗ROMを小さな
値としなければならない。これは集積回路装置ICの集
積密度の低下をもたらすばかりではなく、両MO9FE
T M3.M、のゲート容量も増大するため、0MO8
−NANDゲート211の′スイ・ノチング速度が低下
するとし1う問題が本発明者の検討により明らかとされ
た。
However, in the level converter 221 of FIG. 32, when the output of the CMO3-NAND date 211 is low level, the power supply voltage Vcc is converted to 0MO8- through the base-emitter junction of the resistors R, Ql. Since a large current of 0°4 milliamps always flows into the output of the NAND gate 211, the 0MO8-NAND gate 21
1 N-channel MO8FET M,, M4 ratio W/L
The on-resistance ROM must be set to a small value by taking a large value of 100/3. This not only causes a decrease in the integration density of the integrated circuit device IC, but also
T M3. Since the gate capacitance of M also increases, 0MO8
- The inventor's studies have revealed a problem in which the switching speed of the NAND gate 211 decreases.

第33図は、上記問題を解決するために開発されたレベ
ル変換器221の回路図を示し、第32図のマルチ・エ
ミッタ・トランジスタQ+sは下記に説明する高入力イ
ンピーダンス回路によって置換されている。
FIG. 33 shows a circuit diagram of a level converter 221 developed to solve the above problem, in which the multi-emitter transistor Q+s of FIG. 32 is replaced by a high input impedance circuit as described below.

すなわち、第33図においてかかる高入力インピーダン
ス回路はPNP入力入力トランジスタワ5Q、、、NP
Nエミッタ・7オロワ・トランジスタQ16.ショット
キ・バリア・ダイオードD、、、 D12、抵抗Rz 
s t R* y + R3aによって構成されてし・
る。
That is, such a high input impedance circuit in FIG.
N-emitter 7-lower transistor Q16. Schottky barrier diode D, D12, resistor Rz
It is composed of s t R* y + R3a.
Ru.

さらにレベル変換器221は、PNP)ランノスタQ2
..NPN)ランジスタQ2゜、PN接合ダイオードD
 I 4 y抵抗RHIによって構成されるとともに出
力端子OUT、を70−ティング状態に制御するための
制御回路を含む。
Furthermore, the level converter 221 is PNP) Lannostar Q2
.. .. NPN) transistor Q2゜, PN junction diode D
It is constituted by an I4y resistor RHI and includes a control circuit for controlling the output terminal OUT to a 70-ting state.

この制御 [ffl IIのPNP)ランジスタQ20
のベースは、内部論理ブロック21内のPチャンネル間
O3FET MsとNチャンネルMO9FETM6とに
よって構成された0MO8−NANDデー)211のイ
ネーブル信号ENによって駆動される。尚、かかるCM
O3−NANDゲート211の入力には反転イネーブル
信号ENが印加されている。
This control [ffl II PNP) transistor Q20
The base of is driven by the enable signal EN of the 0MO8-NAND data) 211 formed by the P-channel inter-channel O3FET Ms and the N-channel MO9FETM6 in the internal logic block 21. In addition, such commercials
An inverted enable signal EN is applied to the input of the O3-NAND gate 211.

さらに、この制御回路がレベル変換器221に付7Ji
i’bれたために、上述の高入力インビーグンス回路に
さらにPNP入力入力ンジスタQ2.とショットキ・バ
リア・ダイオードDI3とが付加されて−する。
Furthermore, this control circuit is attached to the level converter 221.
Due to the high input immunity circuit described above, a PNP input input resistor Q2. and a Schottky barrier diode DI3 are added.

従って、イネーブル信号ENがローレベルとなるとレベ
ル変換器221のトランジスタQ、、、 Qz+ Q1
2t Ql3が同時にオフになるため、その出力端子O
UT、は70−ティング状態となる。
Therefore, when the enable signal EN becomes low level, the transistors Q, ..., Qz+Q1 of the level converter 221
2t Ql3 turns off at the same time, so its output terminal O
UT is in a 70-ting state.

一方、イネーブル信号ENがハイレベルとなると、レベ
ル変換器221は2人力NANDゲートとしては論理処
理機能も同様に有しているため、集積回路装置ICの設
計自由度が向上する。
On the other hand, when the enable signal EN becomes high level, the level converter 221 also has a logic processing function as a two-man NAND gate, so the degree of freedom in designing the integrated circuit device IC is improved.

さらに、シッットキ・バリア・ダイオードD I l 
tDptr D、、ノ順方向電圧Vp+++ Vp+2
v VF13は0.35乃至0.41ボルト、PNP入
力入力ンジスタQl ? ; Q l 8 r Q l
 9のベース・エミッタ間電圧Vsa+yy Vaa+
at VtaEl、ハ約0.75ポル)、NPN)ラン
ジスタQ、。+ Q+++ QCsのベース・エミyj
’間電圧veElol vBR+ If VFIE1s
ハ約0.75ボルトであるため、例えばPNP)ランジ
スタQ l 7のベースに印加されるCMO3−NAN
Dゲ−)211の出力電圧に関してトランシ゛スタQI
OIQ11がオンとなる入力スレッシュホールド電圧■
ithは下記のようになる。
Furthermore, the Sittke barrier diode D I l
tDptr D,, forward voltage Vp+++ Vp+2
v VF13 is 0.35 to 0.41 volts, PNP input input resistor Ql? ; Q l 8 r Q l
9 base-emitter voltage Vsa+yy Vaa+
at VtaEl, approximately 0.75 pol), NPN) transistor Q,. + Q+++ QCs bass Emi yj
' Voltage veElol vBR+ If VFIE1s
CMO3-NAN is about 0.75 volts, so applied to the base of transistor Ql7 (for example PNP)
Regarding the output voltage of the D gate) 211, the transistor QI
Input threshold voltage at which OIQ11 turns on■
ith is as follows.

Vith=−V8s17+ VIIE+6 +VBE+
 1 + VBEIG=1.5ボルト さらに、出力負荷゛容量Cxの放電もしくは充電を実行
する出力トランジスタQIOtQ+2は出力抵抗の小さ
なバイポーラ・トランジスタにより構成されているため
、スイッチング速度もしくは伝播遅延時間およびその出
方容量依存性を小さくすることができる。また、トラン
ジスタQ、。、Q、。
Vith=-V8s17+ VIIE+6 +VBE+
1 + VBEIG = 1.5 volts Furthermore, since the output transistor QIOtQ+2 that discharges or charges the output load capacitance Cx is composed of a bipolar transistor with small output resistance, the switching speed or propagation delay time and its output are Capacity dependence can be reduced. Also, transistor Q. ,Q.

Q 13* Q l 4 s Q lsはクランプド・
トランシ゛スタであるため、その遅延時間を小さくする
ことができる。
Q 13 * Q l 4 s Q ls is clamped
Since it is a transistor, its delay time can be reduced.

しかしなが呟第33図のレベル変換器221+:#イテ
、(、同様に、0MO8−NANDP−) 211の出
力がローレベルの場合に、PNP入カ入力ンジスタQI
7のベースから無視できない電流がこのデート211の
出力に流れ込むため、上述の問題が完全には解決で軽な
いことが本発明者の検討により明らかとされた。
However, when the output of the level converter 221+ in FIG.
The inventor's studies have revealed that the above-mentioned problem is not completely solved because a non-negligible current flows from the base of the date 211 into the output of the date 211.

第34図はかがる問題をほぼ完全に解決するために最終
的に解決されたレベル変換器211を示し、第32図の
マルチ・エミッタ・トランジスタQI5は下記に説明す
るようにMOS FETにょって構成された商人力イン
ピーダンス回路によって置換されている。
Figure 34 shows the level converter 211 finally solved to almost completely solve the problem, and the multi-emitter transistor QI5 of Figure 32 is replaced by a MOS FET as explained below. It has been replaced by a commercial impedance circuit constructed as follows.

すなわち、第34図においてかがる高入力インヒータン
ス回路はNチャンネルMO8FET M++t Ma2
y M+it PN接合ダイオードDI4によって構成
されている。Ml lHM l 2 t M + 3の
ドレイン・ソース径路は並列接続され、各デートは内部
論理ブロック21の0MO8−NANDデート211.
212,213にそれぞれ接続され、またこれらのドレ
イン・ソース径路にはPN接合ダイオードD I 4が
直列に接続されている。
That is, the high input inheatance circuit shown in FIG. 34 is an N-channel MO8FET M++t Ma2
y M+it Consists of a PN junction diode DI4. The drain-source paths of Ml lHM l 2 t M + 3 are connected in parallel, and each date is 0MO8-NAND date 211. of internal logic block 21.
212 and 213, respectively, and a PN junction diode D I 4 is connected in series to these drain-source paths.

また、抵抗R3゜l Rjl R321R331R34
1R15は、それぞれ2キロオーム、4キロオーム、1
0キロオーム、4キロオーム、50〜75オーム。
Also, resistor R3゜l Rjl R321R331R34
1R15 is 2k ohm, 4k ohm, 1
0k ohm, 4k ohm, 50-75 ohm.

16キロオームに設定されでいる。トランジスタQ+ 
01 Q I I I Q + 3 I Q + 4の
各エミッタ面積は、それぞれ、672μm2.132μ
rn2.363μ12゜187μm2,242μ咎2に
設定されている。
It is set to 16 kilohms. Transistor Q+
Each emitter area of 01 Q I I I Q + 3 I Q + 4 is 672 μm2.132 μ
It is set to rn2.363μ12°187μm2,242μμm2.

さらに、かかるレベル変換器221においてはその論理
処理機能をさらに向上するため、駆動トランジスタQ、
と同一エミッタ面積を有する第2駆動トランジスタQ2
0がQl+と並列に接続され、上記高入力インピーダン
ス回路と同様にNチャンネルMO8FET M、、、M
、9.M、6.PN接合グイ、オードD13.抵抗R+
9により構成された第2高入力インピーダンス回路を構
成し、このレベル変換器221を6人カコンプレックス
・デート回路としての論理処理機能を有している。
Furthermore, in order to further improve the logic processing function of the level converter 221, the drive transistor Q,
a second drive transistor Q2 having the same emitter area as
0 is connected in parallel with Ql+, and N-channel MO8FETs M, , M
,9. M, 6. PN junction guide, ord D13. Resistance R+
9 constitutes a second high input impedance circuit, and this level converter 221 has a logic processing function as a six-person complex date circuit.

さらに、このレベル変換器221には、内部論理ブロッ
ク21からローレベルのイネーブル信号ENが供給され
た場合に、その出力端子OUT。
Furthermore, when the level converter 221 is supplied with a low-level enable signal EN from the internal logic block 21, its output terminal OUT.

をフローティング状態に制御するための制御回路が同様
に付加されている。この制御回路は、NチャンネルMO
8FET M、、、)ランジスタQ2.。
A control circuit for controlling the floating state is also added. This control circuit is an N-channel MO
8FET M,,,) transistor Q2. .

Q221Q23?抵抗R4゜、Rイ、、R4□tR43
tシ1ットキ・バリア・ダイオードD’ 161 D 
+ 71 D + e + Dl、によって構成されて
いる。
Q221Q23? Resistance R4゜, R,, R4□tR43
t switch barrier diode D' 161 D
+ 71 D + e + Dl.

さらに、第34図のレベル変換器221においては、6
つのMOS FET M、、−=−M、6の各デートに
おける入力スレッシュホールド電圧をCMOSローレベ
ル出出力圧0.6ボルトとCMOSハイレベル出力電圧
4.4ボルトとの開の中間値2.5ボルトに設定するた
め、、 pJi、、−−−−pA、6の比W/Lは下記
の如く設定されている。尚、この時、Ml H−−−−
M 16のしきい値電)FEVtuJ、を約0 、75
 Mルトに設定され、PN接合ダイオ−rD、の順方向
電圧V p 、4は0.75ボルトに設定され、またM
l−−−−M、6のチャンネル・コンダクタンスβ。は
60X10−6[1/オーム]に設定されている。
Furthermore, in the level converter 221 of FIG.
The input threshold voltage at each date of the two MOS FETs M, -=-M, 6 is set to an intermediate value of 2.5 between the CMOS low level output voltage of 0.6 volts and the CMOS high level output voltage of 4.4 volts. volt, the ratio W/L of pJi, . . . pA, 6 is set as follows. Incidentally, at this time, Ml H---
The threshold voltage of M16) FEVtuJ is approximately 0,75
The forward voltage V p , 4 of the PN junction diode, rD, is set to 0.75 volts, and the M
l---M, channel conductance β of 6. is set to 60×10-6 [1/ohm].

MOS FET M、、のみがオンしている場合を考え
、そのデート電圧VX、ゲート・ソース間電圧Vasg
  ドレイン電流In、l−レイン電圧Vy等について
計算する。尚、この時M、は飽和領域にバイアスされて
いるものと考える。
Considering the case where only MOS FET M, is on, its date voltage VX, gate-source voltage Vasg
Drain current In, l-rain voltage Vy, etc. are calculated. It is assumed that M is biased in the saturated region at this time.

vx=”GS+Vp14            −−
−(1)より=”’−°(VGS−VTR) 2−−−
 (2)VY□vcc−R35・工o        
    −、−(3)(1)式と(2>式より、 一βQW ID−−−−、(Vx−vF14−VTH) 2   
  −−− (4) L ところで、■×が上昇することによ’)vYが低下し、
トランジスタQlotQ++がオフとなることに対応す
るVxが入力スレッシュホールド電圧として考えられる
vx=”GS+Vp14 --
- From (1)=”'-° (VGS-VTR) 2----
(2) VY□vcc-R35・ko
-, - (3) From formula (1) and formula (2>, 1βQW ID----, (Vx-vF14-VTH) 2
--- (4) L By the way, as ■× increases, ')vY decreases,
Vx, which corresponds to turning off transistor QlotQ++, can be considered as the input threshold voltage.

トランジスタQIOtQI+がオフとなるドレイン電圧
VYは、下記のように求められる。
The drain voltage VY at which the transistor QIOtQI+ is turned off is determined as follows.

vY”’BELL+vBEIO−(5)(3)式と(5
)式とから、 Vccが5ボルト、 VBEIIとVBEIOとが0.
75ボルト、R85が16キロオーム、R0が60×1
0−6[1/オーム]、v;が2.5ボルト1VF14
が0.75ボルト、VtOが0.75ボルトの条件を上
記(7)式に入れると、 = −x 103 60 −7.i9ζλと かくしで、M、、−−−−M、、の比W/Lは22/3
に設定することにより、レベル変換器221の入力スレ
ッシュホールド電圧を2.5ボルトに設定できる。
vY"'BELL+vBEIO-(5)(3) and (5
) formula, Vcc is 5 volts, VBEII and VBEIO are 0.
75 volts, R85 is 16 kilohms, R0 is 60 x 1
0-6 [1/ohm], v; is 2.5 volts 1VF14
Inserting the conditions of 0.75 volts and 0.75 volts into the above equation (7), = -x 103 60 -7. With i9ζλ and the comb, the ratio W/L of M,,---M,, is 22/3
By setting the level converter 221 to 2.5 volts, the input threshold voltage of the level converter 221 can be set to 2.5 volts.

以上の構成を有する第34図の実施例においては、下記
の伝播遅延時間およびその出力容量依存性を有すること
が本発明者により確認された。
The present inventor has confirmed that the embodiment shown in FIG. 34 having the above configuration has the following propagation delay time and its output capacitance dependence.

tpnL(ただしC5=OpFの時)−−−−8,8n
sectpLu(ただしC5=OpFの時)−−−−7
,8nsecKHL           −−−−0
,11nsec/pFKLH−−−−0,01nsec
/pF第5図には、第34図の実施例のレベル変換器の
伝播遅延時間の出力負荷容量依存性が一点鎖線により示
されており、第1と第2の伝播遅延時間tpot、 t
pt、uのそれぞれの出力容量依存性KHL、 KLH
が改善されていることが理解できる。
tpnL (when C5=OpF)---8,8n
sectpLu (when C5=OpF) ---7
,8nsecKHL ----0
,11nsec/pFKLH---0,01nsec
/pF In FIG. 5, the output load capacitance dependence of the propagation delay time of the level converter of the embodiment of FIG.
Output capacitance dependence KHL, KLH of pt and u, respectively
It can be seen that this has been improved.

また、第34図のレベル変換器221は、下記の理由に
より希望の特性を得ることがで軽る。
Further, the level converter 221 shown in FIG. 34 is easy to obtain desired characteristics for the following reason.

(1)上述した如く、トランジスタQ1゜IQllのベ
ース・エミッタ間電圧■BE、o、vI111:llに
関し、電源電圧Vcc+抵抗R,5,MO8FET M
、1−−−M2Oのチャンネル・コンダクタンスβ。お
よびしきい値電圧Vtu、ダイオードDI4の順方向電
圧■8.に対応して、MOS FET M、、−−−−
M、、の比W/L4:設定することにより、レベル変換
器221の入力スレッシュホールドiK圧を0.6ボル
トと4.4ボルトの開の2.5ボルトに設定することが
できる。
(1) As mentioned above, regarding the base-emitter voltage ■BE, o, vI111:ll of the transistor Q1゜IQll, the power supply voltage Vcc + resistor R, 5, MO8FET M
, 1---channel conductance β of M2O. and threshold voltage Vtu, forward voltage of diode DI4 8. Corresponding to MOS FET M,,---
By setting the ratio W/L4 of M, , the input threshold iK pressure of the level converter 221 can be set to 2.5 volts between 0.6 volts and 4.4 volts.

(2)出力負荷容量Cxを放電と充電を実行する出力ト
ランジスタQIOIQ11は出力抵抗の小さなバイポー
ラ・トランジスタにより構成されているため、スイッチ
ング動作速度もしくは伝播遅延時間およびその出力容量
依存性を小さくすることがで終る。
(2) Since the output transistor QIOIQ11 that discharges and charges the output load capacitance Cx is composed of a bipolar transistor with small output resistance, it is possible to reduce the switching operation speed or propagation delay time and its dependence on the output capacitance. It ends with

(3)駆動トランジスタQl+のベースと内部論理ブロ
ック21の出力との間にはMOS FET Mlにより
構成された高入力インピーダンス回路が接続されている
ため、MOS FET M、、のデートから内部論理ブ
ロック21の0MO8−NANDデート211の出力に
流入する電流を無視で軽るレベルまで低減することかで
終、0MO8−NAND?−4211+7)Nf−+ン
*ルMO8FETの比W/Lの着しい増大を防止するこ
とがどbる。
(3) Since a high input impedance circuit constituted by the MOS FET Ml is connected between the base of the drive transistor Ql+ and the output of the internal logic block 21, the internal logic block 21 is The end result is to reduce the current flowing into the output of the 0MO8-NAND date 211 to a level where it can be ignored. -4211+7) It is difficult to prevent the ratio W/L of the Nf-+n* MO8FET from increasing.

(4)高入力インピーダンス回路のMOS FET M
、、、 M、2. M+31i3人力OR論理を実行す
るため、レベル変換器221の論理処理機能が向上する
(4) MOS FET M with high input impedance circuit
,,,M,2. Since the M+31i3 manual OR logic is executed, the logic processing function of the level converter 221 is improved.

(5) 2つの駆動トランジスタQIIQ2゜もAND
論理を実行するため、レベル変換器/221の論理処理
機能がさらに向上する。
(5) Two drive transistors QIIQ2゜ are also ANDed.
To perform the logic, the logic processing capabilities of the level converter/221 are further enhanced.

(6) トランジスタQI OI Q I l I Q
 l 3 j Q l 4 t Q2oはクランプド・
トランジスタであるため、その蓄積時間を小さくするこ
とができる。
(6) Transistor QI OI Q I l I Q
l 3 j Q l 4 t Q2o is clamped
Since it is a transistor, its storage time can be reduced.

(7)イネーブル信号ENをローレベルとすることによ
りレベル変換器221の出力トランジスタQ、。、Q、
2が同時にオフとなって出力端子OUT、がフローティ
ング状態となり、この出力端子OUT、と他の図示しな
い論理回路の出力端子とを接続した並列運転に際し、こ
の出力端子OUT。
(7) The output transistor Q of the level converter 221 by setting the enable signal EN to a low level. ,Q,
2 are turned off at the same time, and the output terminal OUT becomes a floating state, and during parallel operation in which this output terminal OUT and the output terminal of another logic circuit (not shown) are connected, this output terminal OUT.

の信号レベルを内部論理ブロック21の出力と無関係と
することができる。
The signal level of the internal logic block 21 can be made independent of the output of the internal logic block 21.

第36図は本発明の他の実施例によるレベル変換器22
1の回路例を示し、その出力端子0UT1はオープン・
コレクタ出力形の他のTTLレベル論理用半導体集積回
路装置IC’の出力端子と共通接続され、この共通接続
点は2キロオームの負荷抵抗RIOQを介して5ボルト
の電源電圧Vccに接続されている。
FIG. 36 shows a level converter 22 according to another embodiment of the invention.
1 is shown, and its output terminal 0UT1 is open.
It is commonly connected to the output terminal of another collector output type semiconductor integrated circuit device IC' for TTL level logic, and this common connection point is connected to a 5 volt power supply voltage Vcc via a 2 kilohm load resistor RIOQ.

オープン・コレクタ出力形のTTLレベル回路装置II
c’は、特に限定されないが、ショットキ・バリア・ダ
イオードD++D2tDitマルチ・エミッタ・トラン
ジスタQ40? クランプド・トランジスタQ4+乃至
Q、4.抵抗R4゜乃至R1,、PN接合ダイオードD
4により構成されている。しかし、出力トランジスタQ
43のコレクタはオープン・コレクタ出力として出力端
子としての43番端子に接続される一方、回路装置IC
’の内部においてはいかなる回路素子も電源電圧Vcc
と等出力トランジスタQ43のコレクタとの間に接続さ
れていない。
Open collector output type TTL level circuit device II
c' is, but is not limited to, a Schottky barrier diode D++D2tDit multi-emitter transistor Q40? Clamped transistors Q4+ to Q, 4. Resistance R4° to R1, PN junction diode D
4. However, the output transistor Q
The collector of No. 43 is connected to the No. 43 terminal as an output terminal as an open collector output, while the collector of circuit device IC
' Any circuit element inside the power supply voltage Vcc
and the collector of equal output transistor Q43.

第36図のレベル変換器221においても、回路装置I
Cの内部においていかなる回路素子も電源電圧Vccと
出力トランジスタQIOのコレクタとの間に接続されて
いない点を除けば、第34図のレベル変換器221と全
く同様に形成されている。
In the level converter 221 of FIG. 36, the circuit device I
The level converter 221 is formed exactly the same as the level converter 221 shown in FIG. 34, except that no circuit element is connected between the power supply voltage Vcc and the collector of the output transistor QIO.

かくして、回路装置ICの出力端子と回路装置IC″の
出力端子とは、いわゆるワイヤード・OR回路の形態に
接続されている。また、イネーブル信号ENをローレベ
ルとすることによりレベル変換器221の出力トランジ
スタQIOを強制的にオフせしめ、出力端子0UTlの
レベルを内部論理ブロック21の出力と無関係にするこ
とができる。
In this way, the output terminal of the circuit device IC and the output terminal of the circuit device IC'' are connected in the form of a so-called wired OR circuit.Furthermore, by setting the enable signal EN to a low level, the output terminal of the level converter 221 is Transistor QIO can be forcibly turned off to make the level of output terminal 0UTl independent of the output of internal logic block 21.

第37図は、本発明の実施例による論理用半導体集積回
路装置ICの半導体チップ表面における各回路ブロック
のレイアウトを示している。
FIG. 37 shows the layout of each circuit block on the surface of the semiconductor chip of the logic semiconductor integrated circuit device IC according to the embodiment of the present invention.

半導体チップ300の中央部(破線l。に囲まれた領域
)には0M03回路(純CMO3回路、又は準CMO8
回路)によって構成された内部論理ブロック21が配線
され、半導体チップ300の上辺部(破線l、によって
囲まれた領域)には第31図の入力レベル変換器(内部
が斜線を施された三角形で示す)が複数個さらに第34
図の出力レベル変換器(内部が白の三角形で示す)が複
数個それぞれ交互に配置され、同様に半導体チップ30
0の右辺部(破線12によって囲まれた領域)、下辺部
(破線l、によって囲まれた領域)、左辺部(破線ρ、
によって囲まれた領域)にはそれぞれ第31図の入力レ
ベル変換器が複数個さらに第34図の出力レベル変換器
が複数個交互に配置されている。
A 0M03 circuit (pure CMO3 circuit or quasi-CMO8
An internal logic block 21 configured by a circuit) is wired, and an input level converter (inside a hatched triangle) shown in FIG. ) is the 34th
A plurality of output level converters shown in the figure (indicated by white triangles) are arranged alternately, and the semiconductor chip 30 is similarly arranged.
0's right side (area surrounded by broken line 12), lower side (area surrounded by broken line l), left side (broken line ρ,
A plurality of input level converters shown in FIG. 31 and a plurality of output level converters shown in FIG. 34 are alternately arranged in each of the areas (enclosed by).

上辺部Q1の上には入力レベル変換器の個数に対応した
個数の入力用ポンディングパッド(太い実線の四角形で
示す)と出力レベル変換器の個数に対応した個数の出力
用ポンディングパッド(細い実線の四角形で示す)とが
配置され、各入力レベル変換器の入力部は各入力用ポン
ディングパッドと対面し、各入力レベル変換器の出力部
は内部論理ブロック21と対面し、各出力レベル変換器
の入力部は内部論理ブロック21と対面し、各出力レベ
ル変換器の出力部は各出力用ポンディングパッドと対面
している。
Above the upper side Q1, there are a number of input bonding pads (indicated by thick solid rectangles) corresponding to the number of input level converters, and a number of output bonding pads (indicated by thin rectangles) corresponding to the number of output level converters. ) are arranged, the input part of each input level converter faces each input bonding pad, the output part of each input level converter faces the internal logic block 21, and each output level The input of the converter faces the internal logic block 21, and the output of each output level converter faces the respective output bonding pad.

右辺部l、の右の複数の入力用ポンディングパッドと複
数の出力用ポンディングパッド、下辺部13の下の複数
の入力用ポンディングパッドと複数の出力用ポンディン
グパッド、左辺部a4の左の複数の入力用ポンディング
パッドと複数の出力用ポンディングパッドは、上辺部1
1の場合と同様に配置されている。
A plurality of input padding pads and a plurality of output padding pads on the right side of the right side part l, a plurality of input padding pads and a plurality of output padding pads under the lower side part 13, and a plurality of input padding pads and a plurality of output padding pads on the left side of the left side part a4. The plurality of input padding pads and the plurality of output padding pads are located on the upper side 1.
They are arranged in the same way as in case 1.

右辺部12.下辺部13部左辺部14内の入力レベル変
換器の入・出力部の方位と出力レベル変換器の入・出力
部の方位とはそれぞれ、上辺部l。
Right side part 12. The orientation of the input/output part of the input level converter in the left side part 14 of the lower side part 13 and the orientation of the input/output part of the output level converter are respectively the upper part l.

の場合と同様である。The same is true for .

電源電圧Vccを供給するための電源用ポンディングパ
ッド30は半導体チップ300の四つのエッヂ1部のう
ち少なくともひとつに配置され、接地電位点に接続する
ための接地用ポンディングパッド31は上記四つのエッ
ヂ部のうち少なくともひとつに配置されている。
A power supply bonding pad 30 for supplying the power supply voltage Vcc is disposed on at least one of the four edges of the semiconductor chip 300, and a grounding pad 31 for connecting to the ground potential point is located at one of the four edges. It is arranged in at least one of the edge parts.

かかる第37図に示したレイアウトの半導体チップ30
0の裏面は、第38図の金属リードフレームLpのタブ
リードL丁の表面に物理的かつ電気的に密着して接続さ
れる。
A semiconductor chip 30 having the layout shown in FIG.
The back surface of 0 is physically and electrically closely connected to the surface of tab lead L of metal lead frame Lp in FIG. 38.

第38図のリードフレームLpにおいては、このリード
フレームLpは半導体チップ300の右上部に対応した
リード部分り、〜L1st1わく部分Lot斜線を付し
たダム部分Loを有している。しかし、実際は半導体チ
ップの右下部、左下部、左上部に対応した部分について
もこれと同様であるため、リードフレームLpは斜線を
付したダム部分によってわく部分り。、リード部分り、
〜L64゜タブリードし↑が互いに連結された構造の金
属被加工薄板である。
In the lead frame Lp shown in FIG. 38, this lead frame Lp has a lead portion corresponding to the upper right portion of the semiconductor chip 300, a dam portion Lo marked with diagonal lines, and a frame portion Lot. However, in reality, the same applies to the portions corresponding to the lower right, lower left, and upper left portions of the semiconductor chip, so the lead frame Lp is framed by the diagonally shaded dam portions. , lead part,
~L64° Tab lead ↑ is a metal workpiece thin plate with a structure in which they are connected to each other.

半導体チップ300の裏面がタブリードLtの表面に接
続された後に、下記のボンディングワイヤ(例えば金線
又はアルミニウム線など)の配線が行なわれる。
After the back surface of the semiconductor chip 300 is connected to the front surface of the tab lead Lt, the following bonding wire (for example, gold wire or aluminum wire) is wired.

市販のワイヤボンデイン装置を用いることにより、ワイ
ア15により電源用ポンディングパッド30とリード部
分Ls<とが電気的に接続され、さらに順次して、ワイ
ア16により入力用パッドとリード部り、とが、ワイア
I17により出力用パッドとリード部分り、とが、ワイ
アl、により入力パッドとリード部分L7とが、ワイア
l、により出力用パッドとリード部分l、とが、ワイア
11゜により入力用パッドとリード部分り、とか、ワイ
アff111により接地用ポンディングパッドとタブリ
ードしTとの間がそれぞれ電気的に接続される。
By using a commercially available wire bonding device, the power supply bonding pad 30 and the lead portion Ls< are electrically connected by the wire 15, and the input pad and the lead portion Ls< are sequentially connected by the wire 16. The wire I17 connects the output pad to the lead portion L7, the wire I connects the input pad to the lead portion L7, the wire L connects the output pad to the lead portion L, and the wire 11° connects the input pad to the lead portion L7. The pad and lead portion, or the wire ff111, electrically connects the grounding pad and the tab lead T, respectively.

上述のワイアの配線が完了した後のリードフレームLr
と半導体チップ300とは樹脂封止用の金型に納入され
、リードフレームLpのダム部り。
Lead frame Lr after the above wire wiring is completed
The semiconductor chip 300 is delivered to a mold for resin sealing, and is placed in the dam portion of the lead frame Lp.

の内側に液状の樹脂が注入される。かかるダム部Loは
その外部に樹脂が流出することをさまたげる。かかる樹
脂が固化した後、一体の構造となったリードフレームL
Fと半導体チップ300と樹脂とは金型から取り出され
、さらにフレス機械等によってダム部Loを除去するこ
とにより各リード部分り、−L、、の間が電気的に分離
されることがで鰺る。
Liquid resin is injected inside. This dam portion Lo prevents the resin from flowing out to the outside. After the resin solidifies, the lead frame L becomes an integral structure.
F, the semiconductor chip 300, and the resin are taken out from the mold, and the dam part Lo is removed by a fress machine or the like, thereby electrically separating the lead parts L, -L, and the like. Ru.

固化樹脂の外部に突出した各リードL I−L s −
1、よ必要に応じて下側にまげられ、第39図の完成図
に示すように回腸301によって封止された論理用半導
体集積回路装置ICが完成する。同図に示すように、か
かる回路装置ICは半導体チップ300より発生する熱
を封止構造外部に積極的に逃がすための特別な放熱フィ
ンを具備していない。
Each lead L I-L s − protruding from the solidified resin
1. The logic semiconductor integrated circuit device IC is completed, which is folded downward as necessary and sealed by the ileum 301 as shown in the completed view of FIG. As shown in the figure, this circuit device IC does not have a special heat dissipation fin for actively dissipating heat generated from the semiconductor chip 300 to the outside of the sealing structure.

もし、かかる放熱フィンを取りつげると、回路装置11
cのコストが不所望に増大する。
If such heat dissipation fins are installed, the circuit device 11
The cost of c increases undesirably.

また、半導体チップの封止方法としては、上述の樹脂封
止方法のほかに、セラミック封正方法と金属ケースを用
いる方法が考えられるが、回路装置11cのコストの点
から考えると、上述の樹脂封止方法が最も有利である。
Further, as a method for sealing the semiconductor chip, in addition to the above-mentioned resin sealing method, a ceramic sealing method and a method using a metal case can be considered, but from the viewpoint of the cost of the circuit device 11c, the above-mentioned resin sealing method is considered. The sealing method is the most advantageous.

第37図乃至第39図の図面を用いた実施例による論理
用半導体集積回路装置ICにおいては、入力バッファ2
0としての入力レベル変換器201 e 202−X−
−−2On、”)総数が18−50.内部論理ブロック
21としてのCMOSゲー)グー1゜212−−−−2
11の総数が200〜1530.出力バラ7y30とし
ての出力レベル変換器221゜222−−−−22輪の
総数が18〜50と半導体チップ300が大規模半導体
集積回路装置となっているにもかかわらず、下記の理由
により回路装置ICを放熱フィン・レス構造とすること
ができた6すなわち、内部論理ブロック21としての各
CMOSデー)211,212−−−−211のゲート
当たりの消費電力は0.039ミリワツトと極めて小さ
いため、ゲート数200〜1530の内部論理ブロック
21全体の消費電力は7.8〜59゜67ミリワ・2F
と極めて小さい。第31図の実施例による入力バッ77
20としての各入力レベル変換器201,202・−−
−2Onは多くのバイポーラ・トランジスタを含んでい
るので、各変換器1個当りの消費電力は2.6ミリワツ
トと大きく、変換器数18〜50の入力バッファ20全
体の消費電力は46.8〜130ミリワツトと大きい。
In the logic semiconductor integrated circuit device IC according to the embodiment using the drawings of FIGS. 37 to 39, the input buffer 2
Input level converter 201 e 202-X- as 0
--2On,") Total number is 18-50. CMOS game as internal logic block 21) Goo 1゜212----2
The total number of 11 is 200-1530. Output level converter 221゜222 as output rose 7y30---Even though the total number of 22 wheels is 18 to 50 and the semiconductor chip 300 is a large-scale semiconductor integrated circuit device, the circuit device is not suitable for the following reasons. The power consumption per gate of each CMOS data (211, 212) 211, 212 (211) as the internal logic block 21 is extremely small at 0.039 milliwatts. The power consumption of the entire internal logic block 21 with 200 to 1530 gates is 7.8 to 59°67 milliwatts/2F.
and extremely small. Input buffer 77 according to the embodiment of FIG.
Each input level converter 201, 202 as 20...
-2On contains many bipolar transistors, so the power consumption per converter is as high as 2.6 milliwatts, and the total power consumption of the input buffer 20 with 18 to 50 converters is 46.8 to It is large at 130 milliwatts.

第34図の実施例による出力バッ7ア20としての各出
力レベル変換器221,222−−−−22mも多くの
バイポーラ・トランジスタを含んでいるので、各変換器
1個当りの消費電力は3.8ミリワツトと大きく、変換
器数18〜5oの出力バッ7ア22全体の消費型カバ6
8.4〜190 S +7ワツトと大きい。
Since each output level converter 221, 222--22m as an output buffer 20 according to the embodiment of FIG. 34 also includes many bipolar transistors, the power consumption per each converter is 3. .8 milliwatts, large output buffer 7 with 18 to 5 converters 22, consumption type cover 6
8.4 to 190 S +7 watts, which is large.

上述のデータがち、変換器数18の入力バッフ720、
ゲート数200の内部論理ブロック21゜変換器数18
の出力バッファ22の回路装置■cにおいては、第37
図の半導体チップ表面の中央部1oでは全体の6.4パ
ーセントの熱が発生されるのに対し、較辺部j2+t’
LILl ρ1合計で93.6パーセントの熱が発生さ
れる。
Input buffer 720 with the above data, 18 converters,
21° internal logic block with 200 gates and 18 converters
In the circuit device (c) of the output buffer 22, the 37th
In the central part 1o of the semiconductor chip surface in the figure, 6.4% of the total heat is generated, whereas in the comparative part j2+t'
A total of 93.6 percent of the heat is generated.

また、変換器50の入力バッファ20.デート数153
0の内部論理ブロック21.変換器数50の出力バラ7
722の回路装置ICにおいては、第37図の半導体チ
ップ表面の中央部10では全体の15.8パーセントの
熱が発生され、各辺部ρ目ρ21131 L合計で84
.2パーセントの熱が発生される。
Also, the input buffer 20 . of the converter 50 . Number of dates: 153
0 internal logic block 21. Output rose 7 with 50 converters
In the circuit device IC of No. 722, 15.8% of the total heat is generated in the central portion 10 of the semiconductor chip surface shown in FIG.
.. Two percent heat is generated.

ところで、第37図に示すようにわずかの熱を発生する
内部論理ブロック21はチップの中央部β。に配置され
大量の熱を発生する入カバン7720と出カバ・27ア
22とはチップの各辺部I I?112.1.、Lに配
置されるため、第38図がら各辺部11.L、L−Lの
大量の熱はタブリードLTと接地用リードとしてのリー
ド部分り、を介して回路装置ICの外部(特にプリント
基板にICが実装今れた場合、プリント基板のアースラ
イン)に取り出されるぽかりではなく、多数のボンディ
ングワイアと各リード部分L2−−−−L、、とを介し
て回路装置ICの外部(特にプリント基板にICが実装
された場合、プリント基板の信号ラインと電源ライン)
に取り出されることができる。
By the way, as shown in FIG. 37, the internal logic block 21 that generates a small amount of heat is located in the central portion β of the chip. The input bag 7720 and the output cover 27a 22, which are placed on the sides and generate a large amount of heat, are located on each side of the chip. 112.1. , L, so each side 11., as shown in FIG. A large amount of heat from L and L-L is transferred to the outside of the circuit device IC (especially when the IC is mounted on a printed circuit board, the ground line of the printed circuit board) via the tab lead LT and the lead part as a grounding lead. Instead of a gap that is taken out, the external part of the circuit device IC (especially when the IC is mounted on a printed circuit board, the signal line of the printed circuit board and power line)
can be taken out.

上記実施例とは反対にチップの中央部l。に大量の熱を
発生する入力バッ7ア20と出カバン7ア22を配置し
、中央部12oの周辺に内部論理ブロック21を配置し
た場合は、中央部10の大量の熱が回路装置ICの外部
に容易に取り出されないことが、本発明者による計算よ
り確認された。
In contrast to the above embodiments, the central part l of the chip. If the input bag 7a 20 and the output bag 7a 22, which generate a large amount of heat, are arranged in the central part 12o, and the internal logic block 21 is arranged around the central part 12o, a large amount of heat in the central part 10 will be transferred to the circuit device IC. It has been confirmed through calculations by the inventor that it is not easily taken out.

上記の理由により、上記実施例の回路装置ICを放熱フ
ィン・レス構造とすることができた。また、かかる回路
装置ICを樹脂封止構造としだため、ICのコストを大
幅に低減することが可能となった。
For the above reasons, the circuit device IC of the above embodiment was able to have a structure without heat dissipation fins. In addition, since the circuit device IC has a resin-sealed structure, it has become possible to significantly reduce the cost of the IC.

第40図は、第37図乃至第39図の図面を用いた実施
例による論理用半導体集積回路装置ICと他のTTLレ
ベルの論理用半導体集積回路装置401.402−−−
−4On、501乃至505゜600とをプリント基板
に実装することにより構成された電子システムのブロッ
クグイ7グラムを示している。
FIG. 40 shows a logic semiconductor integrated circuit device IC according to an embodiment using the drawings of FIGS. 37 to 39 and other TTL level logic semiconductor integrated circuit devices 401, 402 ---
-4On, 501 to 505°600 are mounted on a printed circuit board to form a block diagram of an electronic system.

同図において、TTLレベルの出力を有する装置401
,402−=4Onの各出力は回路装置ICの入力IN
、、IN、−−−−INnにそれぞれ供給され、回路装
置ICの出力はTTL入カシカレベル置501−−−−
505の入力に供給されている。
In the figure, a device 401 having TTL level output
, 402-=4On, each output is the input IN of the circuit device IC.
, , IN, ---INn, respectively, and the output of the circuit device IC is the TTL input level position 501 ---
505 input.

さらに、回路装置ICの出力OUT、と装置600の出
力とが共通接続されることにより、同装置IC,600
は並列運転を実行する。
Furthermore, by commonly connecting the output OUT of the circuit device IC and the output of the device 600, the device IC, 600
executes parallel operation.

回路装置ICの入力バッ7ア20と出力バッ7ア22と
に大量に発生する熱はプリント基板のアースライン、電
源ライン、入力信号ライン、出力信号ラインに放散され
ることができる。
A large amount of heat generated in the input buffer 20 and output buffer 22 of the circuit device IC can be dissipated to the ground line, power supply line, input signal line, and output signal line of the printed circuit board.

また、出力バラ7722に供給されるイネーブル信号E
Nをローレベルに設定するとその出力。
Also, the enable signal E supplied to the output rose 7722
When N is set to low level, its output.

UTl−0UT2−−−−OUTII+は70−ティン
グ状態となり、装置501,502,503の入力レベ
ルは装置600の出力レベルによって設定される。
UTl-0UT2---OUTII+ is in the 70-ting state, and the input levels of devices 501, 502, 503 are set by the output level of device 600.

また、入力バッ7ア2oと装置401.402−−−−
40nとの開のインターフェースで高速度が得られ、内
部論理ブロック21と入力バッ7y20との間のインタ
ーフェースで高速度が得られ、出力バッファ22の内部
論理ブロック21との開のインターフェースで高速度が
得られ、装置5o1−−・505と出力バッファ20と
の開のインターフェースでも高速度が得られる。
In addition, the input buffer 7 2o and the device 401.402---
40n provides a high speed, an interface between the internal logic block 21 and the input buffer 7y20 provides a high speed, and an open interface with the internal logic block 21 of the output buffer 22 provides a high speed. Thus, even with an open interface between the devices 5o1--505 and the output buffer 20, high speeds can be obtained.

[効果] 以上の実施例によれば、下記の如く理由より、好ましい
効果を得ることができる。
[Effects] According to the above embodiments, favorable effects can be obtained for the following reasons.

(1)入力レベル変換器201の出力容量Csの充電も
しくは放電を実行する出方トランジスタをバイポーラ・
トランジスタによって構成することにより、MOS  
FETと比較してバイポーラ・トランジスタは小さな素
子寸法でもその出力抵抗が小さくその電流増幅率が大き
く、大きな充電電流もしく1.は放電電流が得られると
いう作用により、入力レベル変換器の伝播遅延時間およ
びその出方容量依存性を小さくすることができる。
(1) The output transistor that charges or discharges the output capacitance Cs of the input level converter 201 is a bipolar transistor.
By configuring with transistors, MOS
Compared to a FET, a bipolar transistor has a small output resistance and a large current amplification factor even with a small element size, and a large charging current or 1. Due to the effect that a discharge current can be obtained, the propagation delay time of the input level converter and its output capacitance dependence can be reduced.

(2)入力レベル変換器201においては、飽和領域に
駆動されるバイポーラ・トランジスタのベースとコレク
タとの開には多数キャリア動作を実行するショットキ・
バリア・ダイオードが接続されているため、コレクタ層
からベース層中への少数キャリアの注入を低減できるた
め、その蓄積時間をホーくすることができる。  ゛ (3)好ましい実施例にょる入力レベル変換器201に
おいては、高入力インピーダンスおよび電圧増幅機能を
有するMOSバッフ1を介して駆動トランジスタQ2の
ベース信号又はコレクタ信号が充電用パイポτう出力ト
ランジスタの、のベースに伝達する5ことにより、この
MOSバッファの高入力インピーダンスおよび電圧増幅
機能の作用により、出力トランジスタQ、の動作速度が
向上される。
(2) In the input level converter 201, a Schottky transistor that performs majority carrier operation is used to connect the base and collector of the bipolar transistor driven into the saturation region.
Since the barrier diode is connected, the injection of minority carriers from the collector layer into the base layer can be reduced, so that the accumulation time can be shortened. (3) In the input level converter 201 according to the preferred embodiment, the base signal or collector signal of the drive transistor Q2 is connected to the charging pipette τ of the output transistor via the MOS buffer 1 having a high input impedance and a voltage amplification function. , the operating speed of the output transistor Q is improved due to the high input impedance and voltage amplification function of this MOS buffer.

(4)好ましい実施例に上る入力レベル変換器20」に
おいては、入力端子IN、と駆動トランジスタQ2との
開1こはPNPエミ・ン夕・7オロワ・トランジスタQ
、とPN接合ダイオードD4とを接続することにより、
入力レベル変換器201の入力スレッシュホールド電圧
を適正に設定できるばかりでなく、PNP)ランジスタ
Q、の電流増幅作用によりそのベースにおける入力イン
ピーダンスが向上するため、入力端子IN、に接続され
るTTLレベルの信号源の出方インピーダンスの影響を
低減することがでトる。
(4) In the preferred embodiment of the input level converter 20, the connection between the input terminal IN and the drive transistor Q2 is a PNP emitter transistor Q.
By connecting , and the PN junction diode D4,
Not only can the input threshold voltage of the input level converter 201 be appropriately set, but also the input impedance at the base of the PNP transistor Q is improved due to the current amplification effect of the transistor Q, so that the TTL level voltage connected to the input terminal IN is improved. It is possible to reduce the influence of the output impedance of the signal source.

(5)出力レベル変換器221の出力負荷容量C×の充
電もしくは放電を実行する出力トランジスタをバイポー
ラ・トランジスタによって構成することにより、MOS
  FETと比較してバイポーラ・トランジスタは小さ
な素子寸法でもその出力抵抗が小さくその電流増幅率が
大きく、大きな充電電流もしくは放電電流が得られると
いう作用により、出力レベル変換器の伝播遅延時間およ
びその出力容量依存性を小さくすることができる。
(5) MOS
Compared to a FET, a bipolar transistor has a small output resistance and a large current amplification factor even with a small element size, and a large charging or discharging current can be obtained, which reduces the propagation delay time of an output level converter and its output capacitance. Dependency can be reduced.

(6)出力レベル変換器221においては、飽和領域に
駆動されるバイポーラ・トランジスタのベースとコレク
タとの間には多数キャリナ動作を実行するショットキ・
バリア・ダイオードが接続されているため、コレクタ層
からベース層中への少数キャリアの注入を低減でとるた
め、その蓄積時間を小さくすることができる。
(6) In the output level converter 221, a Schottky transistor that performs multiple carrier operation is connected between the base and collector of the bipolar transistor driven into the saturation region.
Since the barrier diode is connected, the injection of minority carriers from the collector layer into the base layer can be reduced, so that the accumulation time can be reduced.

(7)好ましい実施例による出力レベル変換器221に
おいては、内部論理ブロック21の出力と駆動トランジ
スタQ I +のベースとの開には高入力インピーダン
スMO8回路を接続することにより、このMO8回路の
MOS FETのゲートから内部論理ブロック21の出
力に流入する電流を無視できるレベルまで低減すること
ができるため、内部論理ブロック21の出力回路の集積
密度の低下およびスイッチング速度の低下を防止するこ
とができる。
(7) In the output level converter 221 according to the preferred embodiment, by connecting a high input impedance MO8 circuit between the output of the internal logic block 21 and the base of the drive transistor Q I +, the MOS of this MO8 circuit is Since the current flowing from the gate of the FET to the output of the internal logic block 21 can be reduced to a negligible level, it is possible to prevent a reduction in the integration density and switching speed of the output circuit of the internal logic block 21.

(8)好ましい実施例による出力レベル変換器221に
おいては、高入力インピーダンスMO8回路に内部論理
ブロック21の複数の出力信号を論理処理する機能をも
たせることにより、マスタースライス方式又はゲートア
レイ方式の論理用半導体集積回路装置ICの設計の自由
度を向上することができる。
(8) In the output level converter 221 according to the preferred embodiment, the high input impedance MO8 circuit is provided with a function of logically processing a plurality of output signals of the internal logic block 21. The degree of freedom in designing the semiconductor integrated circuit device IC can be improved.

(9)好ましい実施例による出力レベル変換器221に
おいては、イネーブル信号ENによって出力端子OUT
、を70−ティング状態に制御するための制御回路が配
置されているため、この出力端子OUT、と他の論理回
路の出力端子とが共通接続された場合に、この共通出力
端子のレベルを他の論理回路の出力によって設定するこ
とができる。
(9) In the output level converter 221 according to the preferred embodiment, the output terminal OUT is
, is arranged in a 70-ting state, so when this output terminal OUT and the output terminal of another logic circuit are commonly connected, the level of this common output terminal is can be set by the output of the logic circuit.

(10)好ましい実施例によれば、純cMos回路又は
準CMO8回路によって構成することによりその消費電
力が低減された内部論理ブロック21を半導体チップ表
面の中央部に配置し、複数のバイポーラ・トランジスタ
を含みその消費電力の大きな入力レベル変換器201−
−−一と出力レベル変換器221とを半導体チップ表面
の周辺部に配置することにより、熱放散が容易となった
ため、論理用半導体集積回路装置ICを放電フィン・レ
ス構造としそのコストを低減することができた。
(10) According to a preferred embodiment, the internal logic block 21, whose power consumption is reduced by being configured with a pure CMOS circuit or quasi-CMO8 circuit, is arranged in the center of the semiconductor chip surface, and a plurality of bipolar transistors are arranged in the center of the semiconductor chip surface. Input level converter 201- with high power consumption
-- By arranging the output level converter 221 and the output level converter 221 at the periphery of the semiconductor chip surface, heat dissipation is facilitated, so the logic semiconductor integrated circuit device IC is made to have a discharge finless structure to reduce its cost. I was able to do that.

(11)好ましい実施例によれば、論理用半導体集積回
路装置ICを樹脂封止構造としたため、そのコストを低
減することができた。
(11) According to the preferred embodiment, since the logic semiconductor integrated circuit device IC has a resin-sealed structure, its cost can be reduced.

(12)一方、入力レベル変換器201の入力端子IN
、はMOS FETのデートに印加されるのではなくシ
ラットキ・バリア・グイオードD1のカソードもしくは
PNP)ランジスタQ、のベースに印加されているため
、入力端子IN、に印加されるサージ電圧に対する破壊
強度を向上することができた。
(12) On the other hand, the input terminal IN of the input level converter 201
, is not applied to the date of the MOS FET, but is applied to the cathode of the Siratchi barrier gate D1 or the base of the PNP transistor Q, so that the breakdown strength against the surge voltage applied to the input terminal IN, I was able to improve.

以上本発明者によってなさKた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、本発明の上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on examples, it should be noted that the present invention is not limited to the above-mentioned examples and can be modified in various ways without departing from the gist of the invention. Not even.

例えば、第6図においては、入力バッファ20のレベル
変換器201,202−−一−2OnはECL−CMO
Sレベル変換を実行し、出力バッ7ア22のレベル変換
器221.222−=22mは0MO8−ECLレベル
変換を実行するように構成することも可能である。この
ためには、入力バッファ20.内部論理ブロック21.
出力バッ7ア22をグランドレベルと負の電源電圧−V
EEで動作させれば良いことは言うまでもない。さらに
同様に、第6図においては、入力バッファ20のレベル
変換器201,202=−2Onはi2L−CMOSレ
ベル変換を実行し、出力バッ7ア22のレベル変換器2
21.222−−−−22mは0MO8−i2Lレベル
変換を実行するように構成することも可能である。
For example, in FIG. 6, the level converters 201, 202--1-2On of the input buffer 20 are ECL-CMO
It is also possible to perform S level conversion and the level converters 221.222-=22m of output buffer 22 to perform 0MO8-ECL level conversion. For this purpose, an input buffer 20. Internal logic block 21.
The output buffer 22 is connected to the ground level and the negative power supply voltage -V.
Needless to say, it is better to operate with EE. Similarly, in FIG. 6, the level converters 201 and 202=-2On of the input buffer 20 perform i2L-CMOS level conversion, and the level converters 201 and 202 of the output buffer 22 perform i2L-CMOS level conversion.
21.222--22m can also be configured to perform 0MO8-i2L level conversion.

さらに、第14図乃至第21図、第23図乃至第26図
、第29図乃至第30図の実施例において、第31図の
PNP・エミッタ・7オロワ・トランジスタQ4.PN
接合ダイオードD2を付加しても良い。
Furthermore, in the embodiments of FIGS. 14 to 21, FIGS. 23 to 26, and FIGS. 29 to 30, the PNP emitter seven-lower transistor Q4 of FIG. P.N.
A junction diode D2 may be added.

また、MOS FETの比W/Lの公魚りを3としてい
るのは、MOS FETのチャンネル長りを3μmとし
ているためであり、現在ホトリソグラフィーの改良によ
りこのチャンネル長しは2μm、1.5μmさらに1μ
顛以下に微細化が進められ、これに対応して比W/Lの
公魚しは小さくなるであろう。
In addition, the reason why the ratio W/L ratio of MOS FET is set to 3 is because the channel length of MOS FET is 3 μm.Currently, with improvements in photolithography, this channel length can be increased to 2 μm, 1.5 μm, and even more. 1μ
As miniaturization progresses to the next level, the difference in the ratio W/L will become smaller.

また、この微細化に伴ってバイポーラ・トランジスタの
素子寸法の縮小化を進められ、回路内の抵抗の抵抗値の
変更も生じるであろう。
Further, along with this miniaturization, the element dimensions of bipolar transistors will continue to be reduced, and the resistance values of resistors in the circuit will also change.

また封止樹脂301よりの多数のリードL、−−−−L
 s 4の取り出し方法も第39図の実施例に限定され
ない。封止樹脂301の外形を長方形ではなくほぼ正四
角形とし、全4辺から多数のリードヒビ−−L−s4を
取り出す方が、リードフレームLTと回路装置ICの小
型化に適切であり、プリント基板上での実装密度が向上
される。
Also, a large number of leads L, ----L from the sealing resin 301
The method for taking out s4 is also not limited to the embodiment shown in FIG. 39. It is more suitable for miniaturizing the lead frame LT and the circuit device IC to make the outer shape of the sealing resin 301 almost square rather than rectangular and to take out a large number of lead cracks - L-s4 from all four sides. The packaging density will be improved.

[利用分野] 以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
を論理用半導体集積回路装置に適用した場合について説
明したが、それに限定されるものではない。
[Field of Application] In the above description, the invention made by the present inventor was mainly applied to a logic semiconductor integrated circuit device, but the present invention is not limited thereto.

例えば、半導体チップ上には入力バッ7ア20゜内部論
理ブロック21.出力バッ7ア22だけではなく、必要
に応じてバイポーラ・アナログ回路。
For example, on a semiconductor chip there may be an input buffer 20° internal logic block 21 . Not only the output buffer 7 but also the bipolar analog circuit as required.

MOS・アナログ回路、PチャンネルMO8・ロジ・ン
ク、NチャンネルMO8−ロジックt 121Jjl路
、ECL回路のいずれかが半導体チップ上に配置される
ことも可能であることは言うまでもない。
It goes without saying that any one of the MOS/analog circuit, the P-channel MO8-logic circuit, the N-channel MO8-logic circuit, and the ECL circuit can be arranged on the semiconductor chip.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に先立って本願発明者によって検討され
たところの論理用半導体集積回路装置ICのブロック図
を示し、 第2図は本発明に先立って本癲1発明者によって検討さ
れた入力バッファの回路図を示し、第3図は第2図の入
力バッファの伝播遅延時間の出力容量依存性を示し、 第4図は本発明に先立って本願発明者によって検討され
た出力バッ7アの回路図を示し、第5図は第4図の出力
パラ7Tの伝播遅延時間の出力負荷容量依存性を示し、 第6図は本発明の実施例による論理用半導体集積回路装
置のブロック図を示し、 第7図と第8図とは第6図の回路装置のCMO8−NA
NDデート211の回路例を示し、第9図と第10図と
は第6図の回路装置CMO8−,NORゲート21Qの
回路例を示し、第11図と第12図とは第6図の回路装
置の内部論理ブロック21内のCMO8−R−37リツ
プ・70ツブの回路例を示し、 第13図は第6図の回路装置の内部論理ブロック21内
のCMO3・ゲーテイドR−37リツプ・フロップの回
路例を示し、 第14図乃至第31図は本発明の実施例による入力バッ
ファ20のレベル変換器201の種々の回路図を示し、 第32図乃至第34図および第36図は本発明の実施例
による出力バラ7721のレベル変換器221の種々の
回路図を示し、 第35図は第1と第2の伝播遅延時間tp)It、y 
tpLllを定義するための入出力の波形図を示し第3
7図は本発明の実施例による論理用半導体集積回路装置
の半導体チップ表面における各回路ブロックのレイアラ
Fを示し、 第38図は本発明の実施例による論理用半導体集積回路
装置の半導体チップのリードフレームLFのタブリード
Ltへの接続およびボンディングワイアの接続の状態を
示す構造図を示し、第39図は本発明の実施例による回
路装置の樹脂封止後の完成図を示し、 第409図は本発明の実施例による回路装置と他の回路
装置とをプリント基板に実装することにより構成された
電子システムのブロックグイ7グラムを示している。 第14図 第16図 2と 第18図 第15図 、ムリ 第17図 第19図 第20図 にす 第22図 一シヱ 第24図 26/ 第21図 Aり 第23図 第25図 第32図 2ad 第33図 第34図 第35図 作所高崎工場内
FIG. 1 shows a block diagram of a logic semiconductor integrated circuit device IC that was studied by the inventor of the present invention prior to the present invention, and FIG. 3 shows the output capacitance dependence of the propagation delay time of the input buffer shown in FIG. 2, and FIG. 5 shows the output load capacitance dependence of the propagation delay time of the output para7T in FIG. 4, and FIG. 6 shows a block diagram of a logic semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention. , Figures 7 and 8 are CMO8-NA of the circuit device in Figure 6.
9 and 10 show circuit examples of the circuit device CMO8- and NOR gate 21Q shown in FIG. 6, and FIGS. 11 and 12 show the circuit example of the circuit shown in FIG. FIG. 13 shows a circuit example of a CMO8-R-37 lip-70 flip-flop in the internal logic block 21 of the device, and FIG. 14 to 31 show various circuit diagrams of the level converter 201 of the input buffer 20 according to embodiments of the present invention, and FIGS. Various circuit diagrams of the level converter 221 of the output rose 7721 according to the embodiment are shown, and FIG. 35 shows the first and second propagation delay times tp) It, y
The third section shows the input/output waveform diagram for defining tpLll.
FIG. 7 shows the layerer F of each circuit block on the surface of the semiconductor chip of the semiconductor integrated circuit device for logic according to the embodiment of the present invention, and FIG. 38 shows the lead of the semiconductor chip of the semiconductor integrated circuit device for logic according to the embodiment of the present invention. A structural diagram showing the connection of the frame LF to the tab lead Lt and the connection of the bonding wire is shown, FIG. 39 shows a completed diagram of the circuit device according to the embodiment of the present invention after being sealed with resin, and FIG. 7 shows a block diagram of an electronic system configured by mounting a circuit device according to an embodiment of the invention and other circuit devices on a printed circuit board. Fig. 14 Fig. 16 Fig. 2 and Fig. 18 Fig. 15, it is impossible Fig. 17 Fig. 19 Fig. 20 32 Figure 2ad Figure 33 Figure 34 Figure 35 Inside the Takasaki factory

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、半導体集積回路装置は; (1)CMOSレベルで動作する内部論理ブロック(2
1)と、 (2)その入力端子にTTLレベルの如き他の論理レベ
ルの入力信号が供給されることによりその出力端子に上
記内部論理ブロック(21)の入力信号としてのCMO
Sレベルの出力信号を取り出すための入力レベル変換器
(201)とを具備してなり、 (3)上記入力レベル変換器(201)の出力容量(C
8)の充電もしくは放電を実行するだめの該変換器(2
01)の出力トランジスタはバイポーラ・トランジスタ
によって構成されたことを特徴とする半導体集積回路装
置。
[Claims] 1. A semiconductor integrated circuit device includes: (1) an internal logic block (2) that operates at a CMOS level;
1) and (2) CMO as an input signal of the internal logic block (21) at its output terminal by supplying an input signal of another logic level such as TTL level to its input terminal.
(3) an output capacitance (C) of the input level converter (201);
8) for performing charging or discharging of the converter (2).
A semiconductor integrated circuit device characterized in that the output transistor of item 01) is constituted by a bipolar transistor.
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IT19352/84A IT1173161B (en) 1983-01-31 1984-01-27 SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT WITH TTL INPUT AND OUTPUT LEVELS AND CMOS INTERNAL LOGIC LEVELS
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US06/575,567 US4689503A (en) 1983-01-31 1984-01-31 Level conversion circuitry for a semiconductor integrated circuit utilizing bis CMOS circuit elements
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HK308/89A HK30889A (en) 1983-01-31 1989-04-13 A semiconductor integrated circuit
HK306/89A HK30689A (en) 1983-01-31 1989-04-13 A semiconductor integrated circuit
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US07/845,136 US5245224A (en) 1983-01-31 1992-03-03 Level conversion circuitry for a semiconductor integrated circuit
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55147009A (en) * 1979-04-27 1980-11-15 Nat Semiconductor Corp Wide band cmos class *a* amplifier

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55147009A (en) * 1979-04-27 1980-11-15 Nat Semiconductor Corp Wide band cmos class *a* amplifier

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6304069B1 (en) 2000-01-26 2001-10-16 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Low power consumption multiple power supply semiconductor device and signal level converting method thereof

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