JPS59138045A - 質量分析装置 - Google Patents
質量分析装置Info
- Publication number
- JPS59138045A JPS59138045A JP58010879A JP1087983A JPS59138045A JP S59138045 A JPS59138045 A JP S59138045A JP 58010879 A JP58010879 A JP 58010879A JP 1087983 A JP1087983 A JP 1087983A JP S59138045 A JPS59138045 A JP S59138045A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- ions
- measured
- target
- magnetic field
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/14—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers
- H01J49/142—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers using a solid target which is not previously vapourised
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は内部標準物質を被測定試料と区別してターゲッ
ト上に載置させた質量分析装置に関する。
ト上に載置させた質量分析装置に関する。
質量分析装置は被測定試料をイオン化し、該イオンを例
えは磁場に導入して、質量電荷比に対応したスペクトル
を得る装置である。さて、被測定試料をイオン化する場
合、該被測定試料に、例えば、ポリエチレングリコール
の如き内部標準物質を混入している。この内部標準物質
の混入により、被測定試料のピークと内部標準物質のピ
ークとが入ったスペクトルを得、内部標準物質のピーク
を被測定試料の質量数決定の基準としている。 所で、
被測定試料に依りイオン化し易いものとしにくいものが
あり、又、その程度も区々であることから、如何なる被
測定試料にも一定量の内部標準物質を混入させていたの
では、被測定試料に依り、被測定試料のピークと内部標
準物質のピークの出方に大きな差が現われ、測定出来な
いものがある。
えは磁場に導入して、質量電荷比に対応したスペクトル
を得る装置である。さて、被測定試料をイオン化する場
合、該被測定試料に、例えば、ポリエチレングリコール
の如き内部標準物質を混入している。この内部標準物質
の混入により、被測定試料のピークと内部標準物質のピ
ークとが入ったスペクトルを得、内部標準物質のピーク
を被測定試料の質量数決定の基準としている。 所で、
被測定試料に依りイオン化し易いものとしにくいものが
あり、又、その程度も区々であることから、如何なる被
測定試料にも一定量の内部標準物質を混入させていたの
では、被測定試料に依り、被測定試料のピークと内部標
準物質のピークの出方に大きな差が現われ、測定出来な
いものがある。
そこで、従来では、内部標準物質の混入量を適宜変化さ
せ、その都度スペクトルを取って、適正な混入量を決定
している。しかし、このような操作は非常に厄介であり
、また、この操作に多大な時間が浪費されてしまう。又
この様な操作過程で、被測定試料が内部標準物質により
汚染されてしまい、経済上でも大きな問題がある。
せ、その都度スペクトルを取って、適正な混入量を決定
している。しかし、このような操作は非常に厄介であり
、また、この操作に多大な時間が浪費されてしまう。又
この様な操作過程で、被測定試料が内部標準物質により
汚染されてしまい、経済上でも大きな問題がある。
本発明はこの様な点に鑑みてなされたもので、加速した
イオ、ン又は、加速したイオンをガスに衝突させること
により発生した高速中性粒子等の粒子をターゲット上に
載置された試料に衝突させ、生じたイオンを質量電荷比
により分析する様にした装置において、前記ターゲット
上に標準試料と被測定試料とを区別して置き、前記加速
した粒子が該標準試料と被測定試料とを交互に夫々適宜
な時間衝突する様に、前記加速したイオンを偏向する手
段と、夫々の試料に粒子が衝突される時間を変化させる
手段とを設けた新規な質量分析装置を提供するものであ
る。
イオ、ン又は、加速したイオンをガスに衝突させること
により発生した高速中性粒子等の粒子をターゲット上に
載置された試料に衝突させ、生じたイオンを質量電荷比
により分析する様にした装置において、前記ターゲット
上に標準試料と被測定試料とを区別して置き、前記加速
した粒子が該標準試料と被測定試料とを交互に夫々適宜
な時間衝突する様に、前記加速したイオンを偏向する手
段と、夫々の試料に粒子が衝突される時間を変化させる
手段とを設けた新規な質量分析装置を提供するものであ
る。
第１図は本発明の一実施例を示した質量分析装置の概略
図である。図中１は適宜に排気されたイオン化室で、上
部及び側部に各々孔２ａ、２ｂが開けられている。３は
イオン銃〈例、アルゴン銃）で、該イオン銃から割出さ
れたイオンは前記イオン化室の孔２ａを通過して、該イ
オン化室の適宜位置に配置されたターゲット４上に塗布
された試料に衝突する。該ターゲット上には第２図に示
す様に、表面を二つの区域に等分する様に線状の仕切体
５が取り付けられており、該二つの区域に夫々被測定試
料６と内部標準物質（以後標準試料と称す）７が塗布さ
れている。該試料がイオンの衝撃を受け、出て来たイオ
ンは前記孔２ｂを通って加速スリット８で加速され、磁
場９で質量電荷比に応じて分離される。該磁場９の磁場
強度を変化することによって、掃引磁場に対応した質量
電荷比のイオンが検出器１０で検出される。該検出器の
信号は増幅器１１で増幅され、レコーダ１２に記録され
る。図中１３は偏向器で、パルス発生器１４からのパル
ス信号により、前記イオン銃３がらのイオンを偏向させ
、イオンを、前記被測定試料６と標準試料７とを交互に
適宜な時間衝撃させる。１５は該パルス発生器からのパ
ルス信号の振幅、パルス幅、周期をコントロールする制
御回路である。
図である。図中１は適宜に排気されたイオン化室で、上
部及び側部に各々孔２ａ、２ｂが開けられている。３は
イオン銃〈例、アルゴン銃）で、該イオン銃から割出さ
れたイオンは前記イオン化室の孔２ａを通過して、該イ
オン化室の適宜位置に配置されたターゲット４上に塗布
された試料に衝突する。該ターゲット上には第２図に示
す様に、表面を二つの区域に等分する様に線状の仕切体
５が取り付けられており、該二つの区域に夫々被測定試
料６と内部標準物質（以後標準試料と称す）７が塗布さ
れている。該試料がイオンの衝撃を受け、出て来たイオ
ンは前記孔２ｂを通って加速スリット８で加速され、磁
場９で質量電荷比に応じて分離される。該磁場９の磁場
強度を変化することによって、掃引磁場に対応した質量
電荷比のイオンが検出器１０で検出される。該検出器の
信号は増幅器１１で増幅され、レコーダ１２に記録され
る。図中１３は偏向器で、パルス発生器１４からのパル
ス信号により、前記イオン銃３がらのイオンを偏向させ
、イオンを、前記被測定試料６と標準試料７とを交互に
適宜な時間衝撃させる。１５は該パルス発生器からのパ
ルス信号の振幅、パルス幅、周期をコントロールする制
御回路である。
斯くの如き装置において、制御回路１５は、パルス発生
器１４から第３図（ａ）に示す様なパルス信号、即ち、
該信号の山の部分でイオン銃３がらのイオンが被測定試
料６を衝撃し、谷の部分で標準試料７を衝撃する様な振
幅で、該山の部分の長さと谷の部分の長さが等しい（Ｔ
Ｏ）パルス信号が偏向器１３に供給される様にパルス発
生器１４をコン１〜ロールづる。該偏向器は該パルス信
号に従って、山の部分によりイオン銃３からのイオンを
山の部分の長さに対応した時間被測定試料６に衝突さゼ
、谷の部分により談合の部分の長さに対応した時間標準
試料７に衝突させる。このパルス信号の周期は高速なの
で、前記被測定試料６と標準試料７から発生ずる夫々の
イオンは実質的に一緒に孔２ｂを通過し、加速スリット
８を介して磁場９に入り、質量電荷比に応じて分離され
、検出器１０に検出される。そして、該検出信号（スペ
クトル）はレコーダ１２に記録される。さて、オペレー
タは該スペクトルを見て、前記パルス信号の山の長さと
谷の長さを制御回路１５によりコントロールする。即ち
、パルス信号の山の長さと谷の長さを適宜にコントロー
ルすることにより、イオンが被測定試料に衝突する時間
と標準試料に衝突する時間をコントロールし、被測定試
料からのビークのレベルと標準試料からのビークのレベ
ルとが大略等しくなる様にする。例えば第４図（ａ ）
に示す様に、前記レコーダ１２に記録されたスペクトル
中、被測定試料からのビークＰａが標準試料からのビー
クＰｂに比べ著しく小さく、之のレベル差があった場合
、該ビークｐａとｐｂのレベルが大略等しくなる様なパ
ルス信号、即ち、第３図（ｂ）に示す様な山の長さがＴ
ａ（＞Ｔｏ）、谷の長さがＴｂ （＜Ｔｏ ）のパル
ス信号がパルス発生器１４から偏向器１３に供給される
様に制御回路１５により該パルス発生器をコントロール
する。而して、第３図（ｂ ）の如きパルス信号により
イオンは交互にＴａに対応した時間被測定試料６を、Ｔ
ｂに対応した時間標準試料７を衝撃するので、結果的に
、第４図（ｂ）に示す如き、被測定試料６からのビーク
Ｐａ′と標準試料７からのビークＰｂ′とのレベルが大
略等しいスペクトルを得ることが出来る。
器１４から第３図（ａ）に示す様なパルス信号、即ち、
該信号の山の部分でイオン銃３がらのイオンが被測定試
料６を衝撃し、谷の部分で標準試料７を衝撃する様な振
幅で、該山の部分の長さと谷の部分の長さが等しい（Ｔ
Ｏ）パルス信号が偏向器１３に供給される様にパルス発
生器１４をコン１〜ロールづる。該偏向器は該パルス信
号に従って、山の部分によりイオン銃３からのイオンを
山の部分の長さに対応した時間被測定試料６に衝突さゼ
、谷の部分により談合の部分の長さに対応した時間標準
試料７に衝突させる。このパルス信号の周期は高速なの
で、前記被測定試料６と標準試料７から発生ずる夫々の
イオンは実質的に一緒に孔２ｂを通過し、加速スリット
８を介して磁場９に入り、質量電荷比に応じて分離され
、検出器１０に検出される。そして、該検出信号（スペ
クトル）はレコーダ１２に記録される。さて、オペレー
タは該スペクトルを見て、前記パルス信号の山の長さと
谷の長さを制御回路１５によりコントロールする。即ち
、パルス信号の山の長さと谷の長さを適宜にコントロー
ルすることにより、イオンが被測定試料に衝突する時間
と標準試料に衝突する時間をコントロールし、被測定試
料からのビークのレベルと標準試料からのビークのレベ
ルとが大略等しくなる様にする。例えば第４図（ａ ）
に示す様に、前記レコーダ１２に記録されたスペクトル
中、被測定試料からのビークＰａが標準試料からのビー
クＰｂに比べ著しく小さく、之のレベル差があった場合
、該ビークｐａとｐｂのレベルが大略等しくなる様なパ
ルス信号、即ち、第３図（ｂ）に示す様な山の長さがＴ
ａ（＞Ｔｏ）、谷の長さがＴｂ （＜Ｔｏ ）のパル
ス信号がパルス発生器１４から偏向器１３に供給される
様に制御回路１５により該パルス発生器をコントロール
する。而して、第３図（ｂ ）の如きパルス信号により
イオンは交互にＴａに対応した時間被測定試料６を、Ｔ
ｂに対応した時間標準試料７を衝撃するので、結果的に
、第４図（ｂ）に示す如き、被測定試料６からのビーク
Ｐａ′と標準試料７からのビークＰｂ′とのレベルが大
略等しいスペクトルを得ることが出来る。
尚、本発明はイオン銃から割出されたイオン〈例アルゴ
ンイオン〉をガスチャンバでガス（例アルゴン）と衝突
させ、電荷交換反応で高速中性粒子を発生させ、これを
試料に照射する様にしたイオン化法を有する質量分析装
置にも応用出来る。
ンイオン〉をガスチャンバでガス（例アルゴン）と衝突
させ、電荷交換反応で高速中性粒子を発生させ、これを
試料に照射する様にしたイオン化法を有する質量分析装
置にも応用出来る。
当然の事乍ら、この場合、イオン銃とガスチャンバの間
に偏向器が配置される。
に偏向器が配置される。
本発明によれば、被測定試料が如何なる種類のものでも
、非常に簡単に内部標準物質（標準試料）のピークを基
準として被測定試料の質量数を決定出来る。又、被測定
試料に内部標準物質（標準試料）を混入させる必要がな
いので、被測定試料の汚染の問題が無くなり、又は操作
上も非常に楽になった。
、非常に簡単に内部標準物質（標準試料）のピークを基
準として被測定試料の質量数を決定出来る。又、被測定
試料に内部標準物質（標準試料）を混入させる必要がな
いので、被測定試料の汚染の問題が無くなり、又は操作
上も非常に楽になった。
第１図は質量分析装置の概略図、第２図はターゲットの
イオン衝撃面を表わしたもの、第３図及び第４図は本発
明の詳細な説明を補足するために用いた図である。 １：イオン化室、３：イオン銃、４：ターゲット、６：
被測定試料、７：内部標準物質（標準試料）８：加速ス
リット、９：！ｌ場、１０：検出器、１２：レコーダ、
１３：偏向器、１４：パルス発生器、１５：制御回路。 特許出願人 日本電子株式会社 代表者 伊藤 −夫 第２図 第４図（ａ） 第４図（ｂ）
イオン衝撃面を表わしたもの、第３図及び第４図は本発
明の詳細な説明を補足するために用いた図である。 １：イオン化室、３：イオン銃、４：ターゲット、６：
被測定試料、７：内部標準物質（標準試料）８：加速ス
リット、９：！ｌ場、１０：検出器、１２：レコーダ、
１３：偏向器、１４：パルス発生器、１５：制御回路。 特許出願人 日本電子株式会社 代表者 伊藤 −夫 第２図 第４図（ａ） 第４図（ｂ）
Claims (1)
- 加速したイオン又は、加速したイオンをガスに衝突させ
ることにより発生した高速中性粒子等の粒子をターゲッ
ト上に載置された試料に衝突させ、生じたイオンを質量
電荷比により分析する様にした装置において、前記ター
ゲット上に標準試料と被測定試料とを区別して置き、前
記加速した粒子が該標準試料と被測定試料とを交互に夫
々適宜な時間衝突する様に、前記加速したイオンを偏向
する手段と、夫々の試料に粒子が衝突される時間を変化
させる手段とを設けたことを特徴とする質量分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58010879A JPS59138045A (ja) | 1983-01-26 | 1983-01-26 | 質量分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58010879A JPS59138045A (ja) | 1983-01-26 | 1983-01-26 | 質量分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59138045A true JPS59138045A (ja) | 1984-08-08 |
Family
ID=11762607
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58010879A Pending JPS59138045A (ja) | 1983-01-26 | 1983-01-26 | 質量分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59138045A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0335157A (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-15 | Shimadzu Corp | 飛行時間型質量分析装置 |
-
1983
- 1983-01-26 JP JP58010879A patent/JPS59138045A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0335157A (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-15 | Shimadzu Corp | 飛行時間型質量分析装置 |
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