JPS591204B2 - 接触式硫酸製造用転化器における反応ガスの冷却装置 - Google Patents
接触式硫酸製造用転化器における反応ガスの冷却装置Info
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- JPS591204B2 JPS591204B2 JP383280A JP383280A JPS591204B2 JP S591204 B2 JPS591204 B2 JP S591204B2 JP 383280 A JP383280 A JP 383280A JP 383280 A JP383280 A JP 383280A JP S591204 B2 JPS591204 B2 JP S591204B2
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- gas
- reaction gas
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- sulfuric acid
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
- B01J8/04—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
- B01J2208/00008—Controlling the process
- B01J2208/00017—Controlling the temperature
- B01J2208/00106—Controlling the temperature by indirect heat exchange
- B01J2208/00265—Part of all of the reactants being heated or cooled outside the reactor while recycling
- B01J2208/00274—Part of all of the reactants being heated or cooled outside the reactor while recycling involving reactant vapours
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
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- B01J2208/00008—Controlling the process
- B01J2208/00017—Controlling the temperature
- B01J2208/00327—Controlling the temperature by direct heat exchange
- B01J2208/00336—Controlling the temperature by direct heat exchange adding a temperature modifying medium to the reactants
- B01J2208/00353—Non-cryogenic fluids
- B01J2208/00371—Non-cryogenic fluids gaseous
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- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は接触式硫酸製造用転化器における反応ガスの冷
却装置に関する。
却装置に関する。
従来の接触式硫酸製造装置においては、転化器内の触媒
層で生じた高温のＳＯ３ガスは、転化器内に低温の冷却
用ガスを直接吹込むことにより冷却されていたが、この
場合ＳＯ３包有ガスと冷却用ガスとの混合を十分なもの
とするには、第１図に示すように、冷却用ガスを分散状
態で吹込むために冷却用ガスの導入管の先端部に分散装
置１を設けたり、転化器内にじゃま板を設ける必要があ
った。
層で生じた高温のＳＯ３ガスは、転化器内に低温の冷却
用ガスを直接吹込むことにより冷却されていたが、この
場合ＳＯ３包有ガスと冷却用ガスとの混合を十分なもの
とするには、第１図に示すように、冷却用ガスを分散状
態で吹込むために冷却用ガスの導入管の先端部に分散装
置１を設けたり、転化器内にじゃま板を設ける必要があ
った。
また第１図に示す一段接触式硫酸製造装置では、転化器
２内の触媒層は４層になっており、最上部の第１触媒層
３から出るＳ ０３ 含有高温ガスは、転化器２外部の
熱交換器４に通されるが、この熱交換器は第１触媒層３
の高さに設置されていて非常に高いため、その支持がや
っかいである上に保守が困難なものであった。
２内の触媒層は４層になっており、最上部の第１触媒層
３から出るＳ ０３ 含有高温ガスは、転化器２外部の
熱交換器４に通されるが、この熱交換器は第１触媒層３
の高さに設置されていて非常に高いため、その支持がや
っかいである上に保守が困難なものであった。
なお、５はエコノマイザである。
本発明は、上記のような実情に鑑みてなされ、分散装置
やじゃま板を取付けなくてもガス混合を十分になし得、
しかも熱交換器の設置位置を低くしてその据付けや保守
を容易になし得る、転化器における反応ガスの冷却装置
を提供するものである０ 以下、本発明を図示実施例により具体的に説明する。
やじゃま板を取付けなくてもガス混合を十分になし得、
しかも熱交換器の設置位置を低くしてその据付けや保守
を容易になし得る、転化器における反応ガスの冷却装置
を提供するものである０ 以下、本発明を図示実施例により具体的に説明する。
第２図に示す一段接触式硫酸製造装置において、Ｓ０２
をＳＯ３に転化する縦長の転化器１１は、底部から頂部
にかけて甚ぶ４つの区割室、すなわち第１区側室１２、
第２区側室１３、第３区側室１４および第４区側室１５
からなる。
をＳＯ３に転化する縦長の転化器１１は、底部から頂部
にかけて甚ぶ４つの区割室、すなわち第１区側室１２、
第２区側室１３、第３区側室１４および第４区側室１５
からなる。
これら区割室１２，１３，１４，１５はそれぞれ転化触
媒層１６．１７，１８．１９を有する。
媒層１６．１７，１８．１９を有する。
そして最下部の第１区側室１２には触媒層１６の上の位
置に原料ガス供給管２０が配設され、同区割室１２から
第２区側室１３に、第２区側室１３から第３区側室１４
に、第３区側室１４から第４区側室１５にそれぞれ反応
ガス回送管２１，２２，２３が配設され、さらに最上部
の第４区側室１５には触媒層１９の下の位置からエコノ
マイザ２４に至る転化ガス排出管２５が配設されている
。
置に原料ガス供給管２０が配設され、同区割室１２から
第２区側室１３に、第２区側室１３から第３区側室１４
に、第３区側室１４から第４区側室１５にそれぞれ反応
ガス回送管２１，２２，２３が配設され、さらに最上部
の第４区側室１５には触媒層１９の下の位置からエコノ
マイザ２４に至る転化ガス排出管２５が配設されている
。
また各反応ガス回送管２１，２２．２３において、管の
ガス出口部はそれぞれ触媒４１６，１７．１８の下に位
置し、管のガス入口部は触媒層１６，１７．１８の上に
位置する。
ガス出口部はそれぞれ触媒４１６，１７．１８の下に位
置し、管のガス入口部は触媒層１６，１７．１８の上に
位置する。
第１区側室１２から第２区側室１３に至る下部反応ガス
回送管２１には熱交換器２６が設けられている。
回送管２１には熱交換器２６が設けられている。
この熱交換器２６は地上に直接据付けられている。
また他の２本の中部反応ガス回送管２２および上部反応
ガス回送管２３には、それぞれ冷却用ガス供給管２７．
２８が接続されている。
ガス回送管２３には、それぞれ冷却用ガス供給管２７．
２８が接続されている。
上記構造の転化器において、原料ガス供給管２０から第
１区側室１２にＳＯ□含有ガスが供給されて第１触媒層
１６を下向きに通過する。
１区側室１２にＳＯ□含有ガスが供給されて第１触媒層
１６を下向きに通過する。
ここでＳＯ２から８０３への転化に伴って発生する熱に
よって、反応ガスが列温されるが、同ガスは第１区側室
１２から出て熱交換器２６により所要温度に冷却され、
第２区側室１３に回送される。
よって、反応ガスが列温されるが、同ガスは第１区側室
１２から出て熱交換器２６により所要温度に冷却され、
第２区側室１３に回送される。
第２区側室１３内にて反応ガスはその触媒層１７を下向
きに通過し、これに含まれる未転化ガスが転化される。
きに通過し、これに含まれる未転化ガスが転化される。
第２区側室１３から出た反応ガスは、中部反応ガス回送
管２２によって第３区側室１４に回送されるが、同回送
管２２には冷却用ガス供給管２γから低温の冷却用ガス
が供給されているため、反応ガスは同回送管２２内にお
いて冷却用ガスとよく混合されて所要温度に冷却される
。
管２２によって第３区側室１４に回送されるが、同回送
管２２には冷却用ガス供給管２γから低温の冷却用ガス
が供給されているため、反応ガスは同回送管２２内にお
いて冷却用ガスとよく混合されて所要温度に冷却される
。
こうして冷却された反応ガスは、第３区側室１４内にて
その触媒層１８をやはり下向きに通過し、未転化ガスが
転化される。
その触媒層１８をやはり下向きに通過し、未転化ガスが
転化される。
同様にして第３区側室１４から出た反応ガスは、上部反
応ガス回送管２３内において間管２３に供給される冷却
用ガスにより冷却され、第４区側室１５に回送される。
応ガス回送管２３内において間管２３に供給される冷却
用ガスにより冷却され、第４区側室１５に回送される。
こうして反応ガス中の未転化ガスが同区割室１５にてほ
ぼ完全に転化される。
ぼ完全に転化される。
転化ガスはその排出管２５をよって同区割室１５からエ
コノマイザ２４に導かれて冷却され、ここから製品ＳＯ
３として取出される。
コノマイザ２４に導かれて冷却され、ここから製品ＳＯ
３として取出される。
以上の次第で、本発明によれば、原料供給管が最下部の
区割室に配設されるとともに、転化ガス排出管が最上部
の区割室に配設され、熱交換器が最下部の反応ガス回送
管に設けられているので、熱交換器の据付は作業が極め
て簡単となり、また器内の熱交換管の取換え等の保守作
業も容易なものとなり、さらにガス導管の長さも短くで
きてそれに伴う保温材や支持材も節減でき、したがって
装置自体をコンパクトなものにできる。
区割室に配設されるとともに、転化ガス排出管が最上部
の区割室に配設され、熱交換器が最下部の反応ガス回送
管に設けられているので、熱交換器の据付は作業が極め
て簡単となり、また器内の熱交換管の取換え等の保守作
業も容易なものとなり、さらにガス導管の長さも短くで
きてそれに伴う保温材や支持材も節減でき、したがって
装置自体をコンパクトなものにできる。
また他の反応ガス回送管には冷却用ガス供給管が接続さ
れているので、反応ガスの冷却を反応ガス回送管内にお
ける冷却用ガスとの混合によってなし得、そのためガス
分散装置やじゃま板等を取付ける必要がなくて、設備費
の点で極めて有利である。
れているので、反応ガスの冷却を反応ガス回送管内にお
ける冷却用ガスとの混合によってなし得、そのためガス
分散装置やじゃま板等を取付ける必要がなくて、設備費
の点で極めて有利である。
第１図は従来例を示す硫酸製造装置の概要図、第２図は
本発明の実施例を示す硫酸製造装置の概要図である。 １１・・・・・・転化器、１２，１３，１４，１５・・
・・・・区割室、１６，１７，１８．１９・・・・・・
触媒層、２０・・・・・・原料ガス供給管、２１．２２
，２３・・・・・・反応ガス回送管、２５・・・・・・
転化ガス排出管、２６・・・・・・熱交換器、２７，２
８・・・・・・冷却用ガス供給管。
本発明の実施例を示す硫酸製造装置の概要図である。 １１・・・・・・転化器、１２，１３，１４，１５・・
・・・・区割室、１６，１７，１８．１９・・・・・・
触媒層、２０・・・・・・原料ガス供給管、２１．２２
，２３・・・・・・反応ガス回送管、２５・・・・・・
転化ガス排出管、２６・・・・・・熱交換器、２７，２
８・・・・・・冷却用ガス供給管。
Claims (1)
- １ 接触式硫酸製造装置にてＳＯ２をＳＯ３に転化する
縦長の転化器１１が、縦方向に盤びかっ触媒層１６，１
γ、１８．１９を内装した複数の区割室１２，１３，１
４，１５からなり、最下部の区割室１２に原料ガス供給
管２０が配設されるとともに最上部の区割室１５に転化
ガス排出管２５が配設され、上下に隣接する区割室にま
たがってそれぞれ反応ガス回送管２１，２２．２３が配
設され、最下部の区割室１２からその上の区割室１３に
至る最下部の反応ガス回送管２１に熱交換器２６が設け
られ、他の反応ガス回送管２２．２３に冷却用ガス供給
管２７．２８が接続されていることを特徴とする、接触
式硫酸製造用転化器における反応ガスの冷却装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP383280A JPS591204B2 (ja) | 1980-01-16 | 1980-01-16 | 接触式硫酸製造用転化器における反応ガスの冷却装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP383280A JPS591204B2 (ja) | 1980-01-16 | 1980-01-16 | 接触式硫酸製造用転化器における反応ガスの冷却装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56100110A JPS56100110A (en) | 1981-08-11 |
| JPS591204B2 true JPS591204B2 (ja) | 1984-01-11 |
Family
ID=11568162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP383280A Expired JPS591204B2 (ja) | 1980-01-16 | 1980-01-16 | 接触式硫酸製造用転化器における反応ガスの冷却装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS591204B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5244642A (en) * | 1992-06-18 | 1993-09-14 | The Chemithon Corporation | Method for conditioning flue gas |
-
1980
- 1980-01-16 JP JP383280A patent/JPS591204B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56100110A (en) | 1981-08-11 |
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