JPS59118900A - 電解研摩液 - Google Patents
電解研摩液Info
- Publication number
- JPS59118900A JPS59118900A JP22989182A JP22989182A JPS59118900A JP S59118900 A JPS59118900 A JP S59118900A JP 22989182 A JP22989182 A JP 22989182A JP 22989182 A JP22989182 A JP 22989182A JP S59118900 A JPS59118900 A JP S59118900A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- hydrochloric acid
- electrolytic polishing
- electropolishing
- soln
- Prior art date
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- Granted
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- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はステンレス鋼、軟鋼、炭素鋼、或いはアルミニ
ウムやアルミニウム合金等に対する電解研摩液に関し、
更に詳述すると、ピッチングを生じることなく、高い研
摩効率においてこれら金属を良好に電解研摩し得る電解
研摩液に関する。
ウムやアルミニウム合金等に対する電解研摩液に関し、
更に詳述すると、ピッチングを生じることなく、高い研
摩効率においてこれら金属を良好に電解研摩し得る電解
研摩液に関する。
近年、原子力産業の発展に伴ない、その廃棄物の処理が
問題視されており、放射線で汚染された金属部品の廃棄
処理も同様に問題となっている。
問題視されており、放射線で汚染された金属部品の廃棄
処理も同様に問題となっている。
従来、このような放射線で汚染された金属部品の処理法
としては、金属部品の放射線汚染部分が通常その表面か
ら十数μｍ−数十μｍの部分に集中しているため、該金
属部品に対して電解研摩を行ない、表面十数μｍ−数十
μｍの部分を電解的に溶解除去することにより、放射線
汚染部分を金属部品から除染する方法が知られている。
としては、金属部品の放射線汚染部分が通常その表面か
ら十数μｍ−数十μｍの部分に集中しているため、該金
属部品に対して電解研摩を行ない、表面十数μｍ−数十
μｍの部分を電解的に溶解除去することにより、放射線
汚染部分を金属部品から除染する方法が知られている。
しかしながら、従来のこの種の電解研摩法に用いられて
いる電解研摩液はリン酸−硫酸系のものが多いが、この
リン酸−硫酸系の電解研摩液は酸濃度が高く、廃液処理
上、液管理上などに問題がある上、研摩効率が低く、ま
た研摩速度も小さいため、経済的にかつ能率良く処理を
行なうことが困難である等の問題を有する。
いる電解研摩液はリン酸−硫酸系のものが多いが、この
リン酸−硫酸系の電解研摩液は酸濃度が高く、廃液処理
上、液管理上などに問題がある上、研摩効率が低く、ま
た研摩速度も小さいため、経済的にかつ能率良く処理を
行なうことが困難である等の問題を有する。
本発明者は上記事情に鑑み、研摩効率が高く、研摩速度
の大きい電解研摩液につき鋭意検討を行なった結果、塩
酸を主剤とし、これにエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール、グリセリン等の多価アルコールを添加し
た電解研摩液が上記目的を達成するものであることを知
見した。
の大きい電解研摩液につき鋭意検討を行なった結果、塩
酸を主剤とし、これにエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール、グリセリン等の多価アルコールを添加し
た電解研摩液が上記目的を達成するものであることを知
見した。
即ち、塩酸を単独で用いたものは、特に低温。
高電流密度において電解研摩処理した場合、金属部品表
面にピッチングが生じ易く、また電解研摩面がかなり荒
れたものになるが、塩酸にエチレングリコール、ポリエ
チレングリコール、グリセリンといった多価アルコール
を添加すると、電解研摩面の荒れが軒減し、良好な研摩
面が得られると共に、低温或いは高電流密度で処理を行
なってもピッチングが生ぜず、かつ通常９０％以上とい
う高い研摩効率を有し、研摩速度も大きく、このため能
率良く経済的に電解研摩作業を行なうことができ、更に
廃液処理、液管理などの面でも問題が少ないことを知見
し、従って塩酸に前記多価アルコールを添加した電解研
摩液が放射線汚染された金属部品の処理などに好適に用
いることができることを見い出したものである。
面にピッチングが生じ易く、また電解研摩面がかなり荒
れたものになるが、塩酸にエチレングリコール、ポリエ
チレングリコール、グリセリンといった多価アルコール
を添加すると、電解研摩面の荒れが軒減し、良好な研摩
面が得られると共に、低温或いは高電流密度で処理を行
なってもピッチングが生ぜず、かつ通常９０％以上とい
う高い研摩効率を有し、研摩速度も大きく、このため能
率良く経済的に電解研摩作業を行なうことができ、更に
廃液処理、液管理などの面でも問題が少ないことを知見
し、従って塩酸に前記多価アルコールを添加した電解研
摩液が放射線汚染された金属部品の処理などに好適に用
いることができることを見い出したものである。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明に係る電解研摩液は、塩酸と多価アルコールとを
含有してなるものであり、ステンレス鋼。
含有してなるものであり、ステンレス鋼。
軟鋼、炭素鋼やアルミニウム、アルミニウム合金などの
電解研摩に好適に使用することができる。
電解研摩に好適に使用することができる。
ここで、電解研摩液中の塩酸濃度は特に制限されないが
、塩酸濃度が低すぎたり高すぎ九すするとピッチングが
生じる場合があるので、濃塩酸（３６％ＨＣｚ ）とし
て２５〜９０％（客員％、以下同じ）、より望ましくは
３０〜５０％とすることが好ましい。
、塩酸濃度が低すぎたり高すぎ九すするとピッチングが
生じる場合があるので、濃塩酸（３６％ＨＣｚ ）とし
て２５〜９０％（客員％、以下同じ）、より望ましくは
３０〜５０％とすることが好ましい。
また、多価アルコールとしては、エチレングリコール、
ポリエチレングリコール、グリセリン等が好適に′使用
でき、またプロピレングリコール。
ポリエチレングリコール、グリセリン等が好適に′使用
でき、またプロピレングリコール。
ポリプロピレングリコールなども使用し得、これらの１
種又は２種以上を組み合せて用いることができる。多価
アルコールの濃度は必ず【５も制限されないが、０．１
〜２０％、より望ましくは０．２〜５％とすることが好
ましく、多価アルコール量が少ないとその効果が有効に
発揮されない。また、多価アルコール量が多すぎても特
に問題はないが、コスト面から上記範囲とすることが好
適である。
種又は２種以上を組み合せて用いることができる。多価
アルコールの濃度は必ず【５も制限されないが、０．１
〜２０％、より望ましくは０．２〜５％とすることが好
ましく、多価アルコール量が少ないとその効果が有効に
発揮されない。また、多価アルコール量が多すぎても特
に問題はないが、コスト面から上記範囲とすることが好
適である。
本発明の電解研摩液を用いて電解研摩する場合、浴温度
Ｆｉ室温でもよく、加熱してもよい。本発明の電解研摩
液は、塩酸に多価アルコールを添加しであることにより
、室温でもピッチングを生ぜず、支障なく研摩し得るも
のである。しかしながら、室温で操作１〜だ場合、その
研摩効率は従来のリン酸−硫酸系電解研摩液に比べて十
分高いものであるが、更に研摩効率を高める上からは３
０℃以上で操作することがより望ましい。なお、液温の
上限は特に制限されないが、塩化水素ガスの発生等の点
から８０℃、特に６０℃とする・ことが積重しい。
Ｆｉ室温でもよく、加熱してもよい。本発明の電解研摩
液は、塩酸に多価アルコールを添加しであることにより
、室温でもピッチングを生ぜず、支障なく研摩し得るも
のである。しかしながら、室温で操作１〜だ場合、その
研摩効率は従来のリン酸−硫酸系電解研摩液に比べて十
分高いものであるが、更に研摩効率を高める上からは３
０℃以上で操作することがより望ましい。なお、液温の
上限は特に制限されないが、塩化水素ガスの発生等の点
から８０℃、特に６０℃とする・ことが積重しい。
また、陽（ゲ電流密糺も制限されないが、通常５ Ａ
／ ｄ ｎ１以上であり、陽極電流密度が低いと電解研
摩時間が長くなるため好ましくない。なお、塩酸を１ｐ
独で用いた場合、陽極電流密度が高すぎるとピッチング
が生じ易いが、本発明の電解研摩液は陽ＦｊＸ電流密瓜
がｖ、〈てもピッチングが生じ細く、２０〜３０ Ａ／
ｄｙｒｒ’の高電流密度でも支障なく操作し得る。
／ ｄ ｎ１以上であり、陽極電流密度が低いと電解研
摩時間が長くなるため好ましくない。なお、塩酸を１ｐ
独で用いた場合、陽極電流密度が高すぎるとピッチング
が生じ易いが、本発明の電解研摩液は陽ＦｊＸ電流密瓜
がｖ、〈てもピッチングが生じ細く、２０〜３０ Ａ／
ｄｙｒｒ’の高電流密度でも支障なく操作し得る。
而［、て、本発明に係る電解研摩液によればζピッチン
グの発生が抑止され、ざらつきの少ない良好な電解研摩
面を与える。従って、放射線で汚染された金属部品を処
理するような場合、ピッチングが生じると表面数十μの
汚染部分を越えて除去不要な部分までも電解的に溶解す
ることになるが、本発明の電解研摩液はピッチングが抑
制されるので、除去が必要な表面汚染部分のみを効果的
に電解研摩し得るものである。
グの発生が抑止され、ざらつきの少ない良好な電解研摩
面を与える。従って、放射線で汚染された金属部品を処
理するような場合、ピッチングが生じると表面数十μの
汚染部分を越えて除去不要な部分までも電解的に溶解す
ることになるが、本発明の電解研摩液はピッチングが抑
制されるので、除去が必要な表面汚染部分のみを効果的
に電解研摩し得るものである。
更に、本発明の電解研摩液は、研摩効率が高く、研摩速
度も大きいので、能率的に電解研摩作業を？ｊなうこと
ができる。しかも、本発明によれば高電流密度で研摩を
行なうことができるため、この点でも有利なものである
。また、上記したように研摩効率が高いので、同一の金
属溶解１゛を達成するのに必要な電気量が少なくなり、
経済的メリットが大きいものである。更に、本発明の電
解研摩液は比較的低温でも操作でき、作業性の良いもの
であると共に、リン酸−硫酸系の電解研摩液に比較して
酸濃度が低く、廃水処理や液管理などでの問題も少ない
上、種々の金Ｆ４素材に対する適応範囲も広い等の特長
を有するものである。
度も大きいので、能率的に電解研摩作業を？ｊなうこと
ができる。しかも、本発明によれば高電流密度で研摩を
行なうことができるため、この点でも有利なものである
。また、上記したように研摩効率が高いので、同一の金
属溶解１゛を達成するのに必要な電気量が少なくなり、
経済的メリットが大きいものである。更に、本発明の電
解研摩液は比較的低温でも操作でき、作業性の良いもの
であると共に、リン酸−硫酸系の電解研摩液に比較して
酸濃度が低く、廃水処理や液管理などでの問題も少ない
上、種々の金Ｆ４素材に対する適応範囲も広い等の特長
を有するものである。
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明す
るが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない
、。
るが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない
、。
〔実施例１〜８．比較例１，２〕
下記組成の電解研摩液を調製し、下記東件において試料
（ＳＵＳ−３１６、ｌｄｍ’）を電解研摩し２、研摩−
串、研摩速度、研摩厚、研摩効率、研摩面の状態を８周
べた。その結果を第１表に示す。
（ＳＵＳ−３１６、ｌｄｍ’）を電解研摩し２、研摩−
串、研摩速度、研摩厚、研摩効率、研摩面の状態を８周
べた。その結果を第１表に示す。
液組成
濃塩酸（３６％） ２４ Ｊ ｍｌｓＮｌ表に示
す添加物 第１表に示す量水
残１ ０００ ｍｌ 研摩条件 浴 温 ４０℃陽陽極泥流
密 １０ Ａ／ｄｎ？研摩時間
１０分 第１表 また、ｓｉ塩Ｋｍ ３５０ ｍｌ／Ｌ Ｋ １７１２表
に示す添加物を添加した電解研摩液を用い、上記と同様
にして電解研摩を行った場合の試料（ＳＵＳ−３１６）
研摩面の荒さを測定した。結果を第２表に示す。
す添加物 第１表に示す量水
残１ ０００ ｍｌ 研摩条件 浴 温 ４０℃陽陽極泥流
密 １０ Ａ／ｄｎ？研摩時間
１０分 第１表 また、ｓｉ塩Ｋｍ ３５０ ｍｌ／Ｌ Ｋ １７１２表
に示す添加物を添加した電解研摩液を用い、上記と同様
にして電解研摩を行った場合の試料（ＳＵＳ−３１６）
研摩面の荒さを測定した。結果を第２表に示す。
第２表
〔実か（ｌｉ ｆｉｌ ９〜１３．比較例３〜７〕下記
川成の）Ｉｔ電解研摩液用い、第３表に示す種々の素＋
１’（ｌｄガ？）に下記糸ｆｌ：においてｔＰＪ、解研
摩を７／ｆ！ｉ Ｌ、、ｌ”４ ｉへ溶出ｈ１．研摩速
度、研摩厚、研摩効率を調べた。
川成の）Ｉｔ電解研摩液用い、第３表に示す種々の素＋
１’（ｌｄガ？）に下記糸ｆｌ：においてｔＰＪ、解研
摩を７／ｆ！ｉ Ｌ、、ｌ”４ ｉへ溶出ｈ１．研摩速
度、研摩厚、研摩効率を調べた。
液組成
ｆＡ塩酸（３６％） ３５０ ｍｌエチレングリコ
ール ４ｍ象 １０００社 研摩条件 浴 温 ４０’Ｃ陽極電流密度
１０ Ａ／ｄｒｒｌ研摩時間 １０
分 比較のため、リン酸７５％、硫ｍ２５％の組成の電解研
摩液を用い、同様の電解研摩試験を行なった。
ール ４ｍ象 １０００社 研摩条件 浴 温 ４０’Ｃ陽極電流密度
１０ Ａ／ｄｒｒｌ研摩時間 １０
分 比較のため、リン酸７５％、硫ｍ２５％の組成の電解研
摩液を用い、同様の電解研摩試験を行なった。
結果を第３表に示す。
第３表
なお、実施例に係る電）ケ〒イσｆ摩液でアルミニウム
５０８３を処理した場合、浸漬だけで帆９９０１ ｆ？
ｌ出（研摩厚１２μｍ）シた。
５０８３を処理した場合、浸漬だけで帆９９０１ ｆ？
ｌ出（研摩厚１２μｍ）シた。
〔実施例１４，１５、比較例８，９〕
第４表及び第５表にそれぞれ示す組成の電解研１゛ｎぐ
用いて前記実施例と同様の実験を行なった。
用いて前記実施例と同様の実験を行なった。
なお、第４表の結果はＤｉ解条件が浴温２０’Ｃ。
陽極電流密践１０Ａ／ｄｍ’ であシ、第５表の結果は
’ｉｌｌ； ｔ’ｌ１条件が浴温４０°Ｃ１陽極電流密
匿３２ 、５ Ａ／ｄｍ’であ−る。
’ｉｌｌ； ｔ’ｌ１条件が浴温４０°Ｃ１陽極電流密
匿３２ 、５ Ａ／ｄｍ’であ−る。
第４表
８ｔ＜ ５表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、塩酸と多価アルコールとを含有してなることを特徴
とする電解研摩液。 ２− 多価フルコールがエチレングリコール、ポリエ
チレングリコール、又はグリセリンである特許請求の範
囲第１項記載の電解研摩液。 ３、塩酸濃度が濃塩酸として２５〜９０容量％であり、
多価アルコール濃度が０．１〜２０容量％である特許請
求の範囲第１項又は第２項記載の電解研摩液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22989182A JPH0249480B2 (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | Denkaikenmaeki |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22989182A JPH0249480B2 (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | Denkaikenmaeki |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59118900A true JPS59118900A (ja) | 1984-07-09 |
| JPH0249480B2 JPH0249480B2 (ja) | 1990-10-30 |
Family
ID=16899334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22989182A Expired - Lifetime JPH0249480B2 (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | Denkaikenmaeki |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0249480B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107904652A (zh) * | 2017-12-01 | 2018-04-13 | 马鞍山市鑫龙特钢有限公司 | 一种碳素钢电抛光的方法 |
| US10240249B2 (en) * | 2016-12-02 | 2019-03-26 | Pacesetter, Inc. | Use of nonafluorobutanesulfonic acid in a low pH etch solution to increase aluminum foil capacitance |
| CN110318091A (zh) * | 2019-07-03 | 2019-10-11 | 中广核核电运营有限公司 | 去污组合物及其制备方法和待去污件的去污方法 |
| CN110373707A (zh) * | 2019-07-03 | 2019-10-25 | 岭东核电有限公司 | 去污方法及其应用 |
-
1982
- 1982-12-27 JP JP22989182A patent/JPH0249480B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10240249B2 (en) * | 2016-12-02 | 2019-03-26 | Pacesetter, Inc. | Use of nonafluorobutanesulfonic acid in a low pH etch solution to increase aluminum foil capacitance |
| US20190177871A1 (en) * | 2016-12-02 | 2019-06-13 | Pacesetter, Inc. | Use Of Nonafluorobutanesulfonic Acid In A Low PH Etch Solution To Increase Aluminum Foil Capacitance |
| US11230794B2 (en) | 2016-12-02 | 2022-01-25 | Pacesetter, Inc. | Use of nonafluorobutanesulfonic acid in a low PH etch solution to increase aluminum foil capacitance |
| CN107904652A (zh) * | 2017-12-01 | 2018-04-13 | 马鞍山市鑫龙特钢有限公司 | 一种碳素钢电抛光的方法 |
| CN110318091A (zh) * | 2019-07-03 | 2019-10-11 | 中广核核电运营有限公司 | 去污组合物及其制备方法和待去污件的去污方法 |
| CN110373707A (zh) * | 2019-07-03 | 2019-10-25 | 岭东核电有限公司 | 去污方法及其应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0249480B2 (ja) | 1990-10-30 |
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