JPS59111079A - プラズマ測定装置 - Google Patents

プラズマ測定装置

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Publication number
JPS59111079A
JPS59111079A JP57221540A JP22154082A JPS59111079A JP S59111079 A JPS59111079 A JP S59111079A JP 57221540 A JP57221540 A JP 57221540A JP 22154082 A JP22154082 A JP 22154082A JP S59111079 A JPS59111079 A JP S59111079A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plasma
ray
detectors
image forming
image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57221540A
Other languages
English (en)
Inventor
Makoto Shiho
諒 志甫
Hironobu Kimura
博信 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Japan Atomic Energy Agency
Original Assignee
Toshiba Corp
Japan Atomic Energy Research Institute
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Japan Atomic Energy Research Institute filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP57221540A priority Critical patent/JPS59111079A/ja
Publication of JPS59111079A publication Critical patent/JPS59111079A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/0006Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature
    • H05H1/0012Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature using electromagnetic or particle radiation, e.g. interferometry
    • H05H1/005Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature using electromagnetic or particle radiation, e.g. interferometry by using X-rays or alpha rays

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は核融合装置のプラズマを測定する装置に関する
一般に核融合装置は真空容器内にプラズマを形成してこ
のプラズマ中で核融合反応をおこなうように構成されて
いる。ところで、上記プラズマには種々の不安定性がち
シ、このプラズマの形状が変形してその一部が真空容器
の内面に接触し、プラズマが急激に減少するいわゆるデ
ィスラプションが発生する。そして、このディスラプシ
ョンが発生するとプラズマが消滅して核融合反応が停止
するばかシでなく、真空容器やプラズマ封じ込め用の磁
石を損傷する等の不具合があった。このような不具合を
防止するにはプラズマの状態を常に把握し、プラズマを
正確に制御することが必要となるが、従来このプラズマ
の形状等を総合的に把握する適当な装置がなく、プラズ
マ全体の形状等を正確に把握することができなかった。
本発明は以上の事情にもとづいてなされたもので、その
目的とするところはプラズマ全体の形状等を把握するこ
とができるプラズマ測定装置を得ることにある。
以下本発明を図面に示す一実施例にしたがって説明する
。図中1は核融合装置の真空容器であって、この真空容
器1内にはプラズマ2が形成されるように構成されてい
る。そして、この真空容器1の一部には計測ポート3が
形成され、この計測ポート3に続いて真空箱4が設けら
れている。そして、この計測ポート3および真空箱4内
は前記真空容器1内と同様に高真空に排気されている。
そして、上記計測ポート3内にはX線結像機構Aが設け
られている。このX線結像機構JはたとえばX線不透過
性材料からなる遮蔽板6にピンホールすなわち小孔7を
形成したものである。そして、上記真空容器1内に形成
されるプラズマ2の各部から放射されたX線はこの小孔
7を通って真空箱4の後壁8の内面にプラズマ4全体の
像を結像するように構成されている。なお、この真空箱
4の後壁8は上記小孔7を中心とする球面状をなしてい
る。そシテ、この後壁8の内面すなわちプラズマ2のX
線像の結像面に沿って多数のX線検出器9 a。
9bp9c・・・9nが配列されている。これら放射線
検出器9a、9b、9c・・・9nはPINフォトダイ
オード等を用いたもので、X線を電気信号に変換し、ま
たその時間応答性がμsec以下のものである。そして
、これらX線検出器9a、9b19c・・・9nからの
信号はそれぞれ増幅器10 a。
10 b p 10 c・・・10nに送られ、その信
号を増幅し、さらにとれら増幅器10 a p 10 
b ploc・・・10nからの信号はアナログ・デジ
タル変換器11 a 、 1 l b 、 11 c 
−1I n (以下A/D変換器と称す)に送られ、羊
れぞれデジタル信号に変換される。なお、これらA/D
変換器11 m 、 11 b p 11 c −1I
 nは精度が12ビツト、変換時間が5μsec以下の
ものが使用される。そして、これらめ変換器l l a
 p 1lbp11c・・・llnでデジタル化された
信号はそれぞれパックアメモリ12を介して信号処理回
路13に送られる。この信号処理回路13は上記X線検
出器9 a + 9 b p 9 c・・・9nからの
信号にもとづいてプラズマ2の断面形状等を求め、これ
をCRT等の表示器14に表示するように構成されてい
る。
以上の如く構成された本発明の一実施例は真空容器1内
のプラズマ2から放射されたX線はX線結像機構互の小
孔7を通って結像され、このX線の像はX線検出器9 
& 19 b 、 9.c−9nで検出され、信号処理
回路13で処理されてプラズマ2の形状等が求められる
。この場合、プラズマ2から放射されるX線はプラズマ
2中全透過するので、このプラズマ2内部で発生したX
線も外部に放射される。よって、たとえばX線検出器9
aで検出するX線はプラズマ2中の(La)の部分から
放射されたX線、X線検出器9bで検出するX線はプラ
ズマ2の(Lb )の部分で生じたX線量、X線検出器
9cで検出するX線はプラズマ2の(Lc )の部分か
ら放射されるX線量。
X線検出器9nで検出するX線はプラズマ2の(Ln 
)の部分で生じたX線量である。したがって、各X線検
出器9a、9b、9c・・・9nで受けるX線量はその
X線検出器9a、9b、9c・・・9nとX線結像機構
りの小孔7とを結んだ直線の延長線がプラズマ2を横切
る部分の長さであるので、各X線検出器9 a r 9
 b 、 9 c −9nで検出するX線の強さからこ
のプラズマ2の断面形状を求めることができるものであ
る。また、プラズマ2は通常高速で回転しているので、
とのプラズマ2の回転速度や位相を磁気グローブで検出
してプラズマ2の回転位置を求めればどの位置からプラ
ズマを見た像であるかを判別でき、また少しずつ時間を
ずらしてプラズマ2の像を求めればプラズマ2を全方向
から測定することができる。なお、プラズマ2は上述の
如く高速回転しているため、1回の測定時間をあまシ長
くすると解像力が低下する不具合を生じるので、プラズ
マ20回転周期をT、X線検出器9a。
9b、9c・・・9nの数をNとしたとき、1回の測定
時間はTハ以下であるととが好ましく、パソファメモリ
ではT/N以下の時間で信号を分割することが好ましい
。また、上記のX線結像機構玉は小孔7すなわちピンホ
ールを用いたものであるから構造が簡単であシ、またピ
ント等の調整も不要である。また、このX線結像機構互
およびX線検出器9a、9b、9c・・・9nは真空箱
4内に収容されているので、硬Xiも減衰することなく
これらX線検出器9a、9b、9c・・・9nに達する
ので測定精度も向上する。
なお、本発明は上記の一実施例には限定されない。
たとえばX線結像機構は必らずしも上記の如きものに限
らず、たとえばX線不透過性の多数のリング部を同心状
に配置してX線を1点に集光するいわゆるフレネルゾー
ンプレート等ヲ用いたものでもよい。
また、X&9検出器等は必らずしも真空箱内に収容しな
くてもよい。
さらに、各X線検出器からの信号にょシプラズマの断面
形状を求める手段は必らずしも上記のものに限らず超音
波断層撮影や透過性放射線による断層撮影で用いられて
いる方式たとえば「特開昭50−49988号公報」に
記載されている如き方式その他の方式を用いることもで
きる。
上述の如く本発明は内部にプラズマが形成される真空容
器の一部にX線結像機構を設け、このX線結像機構の結
像面に多数のX線検出器を設け、これらX線検出機構か
らの信号にもとづいてプラズマの形状を算出する信号処
理回路を設けたものである。したがって、プラズマの断
面形状その他プラズマ全体の形状”ta合的に把握する
ことができ、プラズマを容易かつ正確に制御することが
できる等その効果は犬である。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の一実施例の概略構成図である。 1・・・真空容器、2・・・プラズマ、3・・・計測ポ
ート、4・・・真空箱、王・・・X線結像機構、6・・
・遮蔽板、7・・・小孔、9a、9b F 9cm9n
=・X線検出器、13・・・信号処理回路。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  内部にプラズマを形成する真空容器の一部に
    設けられ上記プラズマから放射されるX線の像を形成す
    るX線結像機構と、このX線結像機構の結像面に沿って
    配列された多数のX線検出器と、これらX線検出器から
    の信号を受は上記プラズマの形状を算出する信号処理回
    路とを具備したことを特徴とするプラズマ測定装置。
  2. (2)前記X線結像桟構はX線不透過性材料で形成され
    た遮蔽部材に形成された小孔を備えたものであることを
    特徴とする特許 囲第1項記載のプラズマ測定装置。
  3. (3)前記X線結像機構および前記X線検出器は内部が
    真空に排気された真空箱内に収容されていることを特徴
    とする前記特許請求の範囲第1項記載のプラズマ測定装
    置。
JP57221540A 1982-12-17 1982-12-17 プラズマ測定装置 Pending JPS59111079A (ja)

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JP57221540A JPS59111079A (ja) 1982-12-17 1982-12-17 プラズマ測定装置

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JPS59111079A true JPS59111079A (ja) 1984-06-27

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ID=16768315

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JP57221540A Pending JPS59111079A (ja) 1982-12-17 1982-12-17 プラズマ測定装置

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JP (1) JPS59111079A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04303599A (ja) * 1991-03-29 1992-10-27 Shibaura Eng Works Co Ltd プラズマの診断方法
JP2007136044A (ja) * 2005-11-22 2007-06-07 Fujinon Corp 内視鏡の処置具起立装置
KR20150060383A (ko) * 2013-11-26 2015-06-03 한국전기연구원 X―ray 다중에너지 필터를 이용한 플라즈마 이온 분포 측정 방법 및 그 시스템

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JP2007136044A (ja) * 2005-11-22 2007-06-07 Fujinon Corp 内視鏡の処置具起立装置
KR20150060383A (ko) * 2013-11-26 2015-06-03 한국전기연구원 X―ray 다중에너지 필터를 이용한 플라즈마 이온 분포 측정 방법 및 그 시스템

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