JPS59108042A - 親水性ポリウレタンフォ−ムの製造方法 - Google Patents
親水性ポリウレタンフォ−ムの製造方法Info
- Publication number
- JPS59108042A JPS59108042A JP21753782A JP21753782A JPS59108042A JP S59108042 A JPS59108042 A JP S59108042A JP 21753782 A JP21753782 A JP 21753782A JP 21753782 A JP21753782 A JP 21753782A JP S59108042 A JPS59108042 A JP S59108042A
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- polyurethane foam
- hydrophilic
- polymer
- ethylene oxide
- plasma
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- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の分野）
本発明は、ポリウレタンフォームを製造した後に、その
骨格表面を気体や液体で処理し、表面で化学反応を起こ
させることによって、親水性を付与された親水性ポリウ
レタンフォームの製造方法に関するものである。
骨格表面を気体や液体で処理し、表面で化学反応を起こ
させることによって、親水性を付与された親水性ポリウ
レタンフォームの製造方法に関するものである。
（従来技術の説明）
従来より、親水性ポリウレタンフォームは存在してい九
が、これらは特殊なポリオールを使用することによって
親水性・を付与したものであった。
が、これらは特殊なポリオールを使用することによって
親水性・を付与したものであった。
具体的にはエチレンオキサイドを開環重合して作られた
ポリエーテルポリオールを用い几ポリエーテル系のポリ
ウレタンフォームである。しかし、このポリオールは結
晶性が強く、軟質ポリウレタンフォームの製造に適した
高分子量のものは、常温では固体であり、このポリオー
ルを用いてワンショット法でポリウレタンフォームを製
造することは困難である。故に現在製造されている親水
性７オームは、ブレポリマー法によって製造され九もの
、もしくはエチレンオキサイドが７０％以下のポリオー
ルを用いたものである。よって、コストが高かったり、
親水性が十分でないという欠点や、ポリオールが限定さ
れるために、ポリウレタンフォームの諸、性質も限定さ
れるという欠点がある。
ポリエーテルポリオールを用い几ポリエーテル系のポリ
ウレタンフォームである。しかし、このポリオールは結
晶性が強く、軟質ポリウレタンフォームの製造に適した
高分子量のものは、常温では固体であり、このポリオー
ルを用いてワンショット法でポリウレタンフォームを製
造することは困難である。故に現在製造されている親水
性７オームは、ブレポリマー法によって製造され九もの
、もしくはエチレンオキサイドが７０％以下のポリオー
ルを用いたものである。よって、コストが高かったり、
親水性が十分でないという欠点や、ポリオールが限定さ
れるために、ポリウレタンフォームの諸、性質も限定さ
れるという欠点がある。
（発明の目的）
本発明は、ポリウレタンフォームへの後処理で親水性を
与えることによって、従来の親水性フオームの諸性質が
限定されるという欠点を改善した親水性フオームの製造
方法に関するものである。
与えることによって、従来の親水性フオームの諸性質が
限定されるという欠点を改善した親水性フオームの製造
方法に関するものである。
（発明の構成）
本発明でいうポリウレタンフォームは、連通気泡の軟質
ポリウレタンフォームであれば、ポリエーテル系でも、
ポリエステル系でもよく、その密度、セルサイズには制
限はない。
ポリウレタンフォームであれば、ポリエーテル系でも、
ポリエステル系でもよく、その密度、セルサイズには制
限はない。
エチレンオキサイドは、次のような反応を起す。
Ｒ−ｃｏ、ｏＨ＋ （ＣＨ２） ２０ → Ｒ−Ｃ−
０−（ＯＨ２） ２−ＯＨ１ Ｒ−ＮＨｚ＋（（３Ｈ１）２０ − Ｒ−Ｎ−（（ｌ
Ｈ２）２−ＯＨＱ Ｈ０（ＣＨ２）２ ＯＨ 上記の反応によって、ポリウレタンフォームの分子鎖に
、親水性の水酸基が出来、ポリウレタンフォームの骨格
表面が親水性となって、親水性ポリウレタンフォームが
作られる。エチレンオキサイドは、爆発性のきわめて高
い危険な気体であるので、実際に使用する場合は、ＣＯ
２などで１０％〜６０形の濃度に稀釈して使用するのが
適当である。又、温度は２０”Ｃ〜８０”Ｏ，圧力は１
ａｔｍ 〜１５ａｔｍ、時間は２ｈｒ〜２４ｈｒ程度が
適当である。
０−（ＯＨ２） ２−ＯＨ１ Ｒ−ＮＨｚ＋（（３Ｈ１）２０ − Ｒ−Ｎ−（（ｌ
Ｈ２）２−ＯＨＱ Ｈ０（ＣＨ２）２ ＯＨ 上記の反応によって、ポリウレタンフォームの分子鎖に
、親水性の水酸基が出来、ポリウレタンフォームの骨格
表面が親水性となって、親水性ポリウレタンフォームが
作られる。エチレンオキサイドは、爆発性のきわめて高
い危険な気体であるので、実際に使用する場合は、ＣＯ
２などで１０％〜６０形の濃度に稀釈して使用するのが
適当である。又、温度は２０”Ｃ〜８０”Ｏ，圧力は１
ａｔｍ 〜１５ａｔｍ、時間は２ｈｒ〜２４ｈｒ程度が
適当である。
次に、ノンポリマーフォーミングプラズマ（Ｎｏｎ−ｐ
ｏｌｙｍｅｒ−ｆｏｍｉｎｇ−ｐｌａｓｍａ ）を用い
て処理する方法について説明する。プラズマの反応機構
については、学術的にも明らかではないが、うνカルが
分子鎖に働゛きかけて、たとえば水素の引きぬき反応の
ような反応を起こすと考えられている。酸素に例をとれ
ば、下のような反応機構で、水酸基が出来る。Ｒ−ＣＨ
２＋Ｏ−−（ＲＣＨｚ−ｏｒＲ−）＋０Ｈ−（ＲＣＨｚ
−ｏｒＲ−）＋ＯＨ−−ＲＣＨｚＯＨｏｒＲＯＥこれに
よって、ポリウレタンフォームは親水性となる。プラズ
マ発生装置の条件は、装置の規模や極板間の距離によっ
て異ってくるので限定できないが、気体の圧力は、ｏ、
ｓ ｔｏｒｒ〜５ ｔｏｒｒ程度が適当であると思われ
る。
ｏｌｙｍｅｒ−ｆｏｍｉｎｇ−ｐｌａｓｍａ ）を用い
て処理する方法について説明する。プラズマの反応機構
については、学術的にも明らかではないが、うνカルが
分子鎖に働゛きかけて、たとえば水素の引きぬき反応の
ような反応を起こすと考えられている。酸素に例をとれ
ば、下のような反応機構で、水酸基が出来る。Ｒ−ＣＨ
２＋Ｏ−−（ＲＣＨｚ−ｏｒＲ−）＋０Ｈ−（ＲＣＨｚ
−ｏｒＲ−）＋ＯＨ−−ＲＣＨｚＯＨｏｒＲＯＥこれに
よって、ポリウレタンフォームは親水性となる。プラズ
マ発生装置の条件は、装置の規模や極板間の距離によっ
て異ってくるので限定できないが、気体の圧力は、ｏ、
ｓ ｔｏｒｒ〜５ ｔｏｒｒ程度が適当であると思われ
る。
ポリマーフオーミングプラズ、？ （Ｐｏｌｙｍｅｒ−
ｆｏｒｍｉｎｇ−ｐｌａｓｍａ ） を用いて処理し
た場合にはプラズマで七ツマ−を直接活性化（二重結合
の開裂など）して、それが重合したり（プラズマインデ
ュースドポリメリゼ−！／ ヨ：／ Ｐｌａｓｍａ−
１ｎｄｕｏｅｄ−ｐｏｌｙｌｌｌｅｒ：ＬＺａｔｉ、Ｏ
ｎ）普通の方法では重合しない例えばメタン、エタンな
どが重合したり（プラズマポリメリゼーションＰｌａ８
１１１ａ−ｐｏｌｙｍｅｒｉＺａｔｉＯｎ ）すること
によって、ポリウレタンフォーム骨格表面をコー・トす
る。ポリマーフォーミングプラズマにより得られるポリ
マーは、通常の重合法で得られたものと組成が若干異り
、高度に橋かけした無定形物となり、モノマー組成より
水素含有量が低く、酸素含有量が高くなる。そこで、酸
素の含有量の高い気体、もしくは、酸素を混合し良気体
をプラズマ状態にしてポリウレタンフォームの骨格をコ
ートする仁とによって１親水性ポリウレタンフオームが
得られる。
ｆｏｒｍｉｎｇ−ｐｌａｓｍａ ） を用いて処理し
た場合にはプラズマで七ツマ−を直接活性化（二重結合
の開裂など）して、それが重合したり（プラズマインデ
ュースドポリメリゼ−！／ ヨ：／ Ｐｌａｓｍａ−
１ｎｄｕｏｅｄ−ｐｏｌｙｌｌｌｅｒ：ＬＺａｔｉ、Ｏ
ｎ）普通の方法では重合しない例えばメタン、エタンな
どが重合したり（プラズマポリメリゼーションＰｌａ８
１１１ａ−ｐｏｌｙｍｅｒｉＺａｔｉＯｎ ）すること
によって、ポリウレタンフォーム骨格表面をコー・トす
る。ポリマーフォーミングプラズマにより得られるポリ
マーは、通常の重合法で得られたものと組成が若干異り
、高度に橋かけした無定形物となり、モノマー組成より
水素含有量が低く、酸素含有量が高くなる。そこで、酸
素の含有量の高い気体、もしくは、酸素を混合し良気体
をプラズマ状態にしてポリウレタンフォームの骨格をコ
ートする仁とによって１親水性ポリウレタンフオームが
得られる。
〈第１実施例〉
エチレンオキサイドによる処理
ガス：エチレンオキサイド２０％、二酸化炭素８０％
温度：６０°Ｃ
圧カニ １．２ ａｔｍ
時間：１２ｈｒ
オートクレーブ内を６０’ｒｏｒｒ まで減圧し、その
後上記の混合ガスを入れる。取り出した後、空気を吹き
つけてポリウレタンフォーム内のガスを除去した。
後上記の混合ガスを入れる。取り出した後、空気を吹き
つけてポリウレタンフォーム内のガスを除去した。
く第２実施例〉
ノンポリマーフォーミングプラズマによる処理ガス：酸
素 圧カニ Ｉ Ｔｏｒｒ 極板間の距Ｎ ： ５０ ｔｍ 電圧： ５８０Ｖ 電流： ２３０ ｍＡ 時間： ２ ｍｉｎ プラズマ発生装置内部をあらかじめ、１×１０−６’ｒ
ｏｒｒ まで減圧し、そこに酸素を、圧力がＩ Ｔｏｒ
ｒになるまで送って、プラズマを発生させた。
素 圧カニ Ｉ Ｔｏｒｒ 極板間の距Ｎ ： ５０ ｔｍ 電圧： ５８０Ｖ 電流： ２３０ ｍＡ 時間： ２ ｍｉｎ プラズマ発生装置内部をあらかじめ、１×１０−６’ｒ
ｏｒｒ まで減圧し、そこに酸素を、圧力がＩ Ｔｏｒ
ｒになるまで送って、プラズマを発生させた。
実施例
−・ポリマーフォーミングプラズマによる処理ガス：エ
チレンオキサイド２０％、二酸化炭素８０％ 以下は第２実施例に同じ。
チレンオキサイド２０％、二酸化炭素８０％ 以下は第２実施例に同じ。
（発明の効果）
第１実施例については、ポリウレタンフォーム片（２０
ｆｆＸ２０ｆｌ×１０頭） を水に浮かべ、水没までに
要する時間の変化で、その効果を評価した。
ｆｆＸ２０ｆｌ×１０頭） を水に浮かべ、水没までに
要する時間の変化で、その効果を評価した。
ＯポリウレタンフォームＡ
処理前 ２分１２秒 処理後 ６秒
ＯポリウレタンフォームＢ
処理前 １ｈｒ以上 処理後 １分１５秒第２実施例
、第６実施例については、フィルムに水滴をたらした時
の接触角の変化で評価した。
、第６実施例については、フィルムに水滴をたらした時
の接触角の変化で評価した。
第２実施例
ポリウレタンフィルムＣ
処理前 ８６．６° 処理後 ５０．６゜ポリウレタ
ンフィルムＤ 処理前 ９０．６° 処理後 ４ａ５゜実施例 ポリウレタンフィルムＣ 処理前 ８６．６° 処理後 ４２．７゜ポラノウレ
タンフィルムＤ 処理前 ９０．６° 処理後 ４１．９゜接触角の測
定に訃いては、１０マイクロリツトルのシリンジでフィ
ルム上に水滴を落し、１分後の接触角を測定した。
ンフィルムＤ 処理前 ９０．６° 処理後 ４ａ５゜実施例 ポリウレタンフィルムＣ 処理前 ８６．６° 処理後 ４２．７゜ポラノウレ
タンフィルムＤ 処理前 ９０．６° 処理後 ４１．９゜接触角の測
定に訃いては、１０マイクロリツトルのシリンジでフィ
ルム上に水滴を落し、１分後の接触角を測定した。
以上の結果より、エチレンオキサイド及びプラズマによ
る表面処理により、有効に親水性ポリウレタンフォーム
を製造することが出来る。
る表面処理により、有効に親水性ポリウレタンフォーム
を製造することが出来る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 ポリウレタンフォームを製造した後、その骨格表
面に処理をほどこすことによって、親水性を付与する親
水性ポリウレタンフォームの製造方法。 ２、 ポリウレタンフォームをエチレンオキサイドで処
理することによって親水性を特徴する特許請求の範囲第
１項記載の、親水性ポリウレタンフォームの製造方法。 ３、 ポリウレタンフォームの表面を、ノンポリマーフ
ォーミングプラズマによって改質し、親水性を特徴する
特許請求の範囲第１項記載の、親水性ポリウレタンフォ
ームの製造方法。 ４、 ポリウレタンフォームを、ポリマーフォーミ謀 ングプフズマ中で保持し、骨格表面にポリマーコーティ
ングを施すことによって、親水性を特徴する特許請求の
範囲第１項記載の、親水性ポリウレタンフォームの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21753782A JPS59108042A (ja) | 1982-12-10 | 1982-12-10 | 親水性ポリウレタンフォ−ムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21753782A JPS59108042A (ja) | 1982-12-10 | 1982-12-10 | 親水性ポリウレタンフォ−ムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59108042A true JPS59108042A (ja) | 1984-06-22 |
| JPH0410502B2 JPH0410502B2 (ja) | 1992-02-25 |
Family
ID=16705801
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21753782A Granted JPS59108042A (ja) | 1982-12-10 | 1982-12-10 | 親水性ポリウレタンフォ−ムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59108042A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110408073A (zh) * | 2019-08-28 | 2019-11-05 | 广东中良环保工程有限公司 | 一种发泡材料的表面处理方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54161674A (en) * | 1978-06-12 | 1979-12-21 | Bridgestone Corp | Production of hydrophilic synthetic resin foam |
| JPS5516003A (en) * | 1978-06-26 | 1980-02-04 | Agency Of Ind Science & Technol | Production of molding of vinyl chloride resin |
| JPS5722691A (en) * | 1980-07-17 | 1982-02-05 | Sekisui Chem Co Ltd | Carrier particle for tissue culture |
-
1982
- 1982-12-10 JP JP21753782A patent/JPS59108042A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54161674A (en) * | 1978-06-12 | 1979-12-21 | Bridgestone Corp | Production of hydrophilic synthetic resin foam |
| JPS5516003A (en) * | 1978-06-26 | 1980-02-04 | Agency Of Ind Science & Technol | Production of molding of vinyl chloride resin |
| JPS5722691A (en) * | 1980-07-17 | 1982-02-05 | Sekisui Chem Co Ltd | Carrier particle for tissue culture |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110408073A (zh) * | 2019-08-28 | 2019-11-05 | 广东中良环保工程有限公司 | 一种发泡材料的表面处理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0410502B2 (ja) | 1992-02-25 |
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