JPS59106007U - 膜厚変化測定装置 - Google Patents

膜厚変化測定装置

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JPS59106007U
JPS59106007U JP7283U JP7283U JPS59106007U JP S59106007 U JPS59106007 U JP S59106007U JP 7283 U JP7283 U JP 7283U JP 7283 U JP7283 U JP 7283U JP S59106007 U JPS59106007 U JP S59106007U
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JP
Japan
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film thickness
thickness change
measuring device
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康朝 藤森
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株式会社東芝
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  • Measuring Frequencies, Analyzing Spectra (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は、膜厚変化によって信号が変化していく例を示
した図、第2図は本考案の一実施例を示す概要図である
。 1・・・レーザ発振器、L・・・レーザ光、4・・・検
出器、14・・・信号処理部。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 光源と、この光源から発せられた照明光を多層膜へ導く
    光学系と、多層膜から反射もしくは透過゛してくる光を
    検出する検出器と、この検出器より出力された信号を測
    定開始時から現時点までの信−号からほぼ同期を求め上
    記現時点から直前め1周期までの信号を抽出しこの抽出
    した信号の位相おくれを相関法で検出してくり返し数を
    位相おくれとから膜厚変化を求める処理をする処理部を
    備えることを特徴とする膜厚変化測定装置。
JP7283U 1983-01-06 1983-01-06 膜厚変化測定装置 Granted JPS59106007U (ja)

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JPH0119041Y2 JPH0119041Y2 (ja) 1989-06-02

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5396867A (en) * 1977-02-03 1978-08-24 Toshiba Corp Monitoring apparatus for cvd film thickness
JPS5555520A (en) * 1978-10-20 1980-04-23 Hitachi Ltd Method of controlling thickness of film

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5396867A (en) * 1977-02-03 1978-08-24 Toshiba Corp Monitoring apparatus for cvd film thickness
JPS5555520A (en) * 1978-10-20 1980-04-23 Hitachi Ltd Method of controlling thickness of film

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JPH0119041Y2 (ja) 1989-06-02

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