JPS5893293A - 光増幅器 - Google Patents

光増幅器

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Publication number
JPS5893293A
JPS5893293A JP56190723A JP19072381A JPS5893293A JP S5893293 A JPS5893293 A JP S5893293A JP 56190723 A JP56190723 A JP 56190723A JP 19072381 A JP19072381 A JP 19072381A JP S5893293 A JPS5893293 A JP S5893293A
Authority
JP
Japan
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layer
conductor
good
light
surrounded
Prior art date
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Pending
Application number
JP56190723A
Other languages
English (en)
Inventor
Michitaka Osawa
通孝 大沢
Masafumi Oki
大木 雅史
Nobuaki Kabuto
展明 甲
Soichi Sakurai
桜井 宗一
Fumio Inoue
文夫 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP56190723A priority Critical patent/JPS5893293A/ja
Publication of JPS5893293A publication Critical patent/JPS5893293A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/12Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto
    • H01L31/14Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto the light source or sources being controlled by the semiconductor device sensitive to radiation, e.g. image converters, image amplifiers or image storage devices

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  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
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  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、入射光学像をさらに明るい塚とし。
て出力づる光増幅器、特に輝度、コントラスト。
特性が向上された光増器に関ゴるものである。
光源から出る光をより強い光に変換したり、11、赤外
線紫外線あるいはX線のような不可視光イ取あるいは暗
い可視光像を明るい可視光像に変換するものを一般には
光増幅器と呼ぶ。従妹、光増幅器は真空管により実現さ
れてきたが、最近、光導電膜とELセルとの和み合せに
より固体だけで直接光を増幅づる固体光増幅器(5ol
idstate light amplifier −
+以下SS LAと略′1)が研究されている。
第1図に8SIAの構造を示ゴ。第1図において1はガ
ラス板、2は透明電極、3は光2S電膜、)4は不透明
層、5はEL層、6は電源(交流あるいは自流)である
。以下第1図を用いて動作を説明ゴる。入射光により、
第1図の光導電膜6は光の強さに応じて抵抗値が変化ゴ
る。(一般に光が強くあたった箇1ツ1は抵抗値が小さ
い)11[こわは撮像前の光導電膜と同一の動作を行な
う。。
づなわち、光学像が光4電膜の場放1的な抵抗値の変化
という形で光導電膜−ヒに再現される。このとき、EL
と光導電jIQは電源6に対し直列に接続されており、
光導電膜の抵抗値の変化はEI、。
に印加される市、圧の変化となる。′1なわち、1つL
の発光強要の変化となるわけで、入射光学像は、ELの
発光強度の場nI的な変化となってlI)現される。よ
って光2s市、膜に光感度の良好でかつ抵抗値変化ψ1
λ囲(ダイナミックレンジ)の大きな材料な用いわば、
3ぐわた光増幅器が実現できる。
次に第1図においてろで示した不透明層につ。
いて説1明する。不透明層は、一般に合成樹脂中に11
(炭煤)を混合したものが使わわ、EL。
の発光による光が光導電膜に達つしないような働きをゴ
る。不透明層がない場合には8SLAは帰。
還増幅器における正帰還現象と同様な状態に陥いる。ゴ
なわちELの発光により光導電膜の抵。
抗値がさらに低下しさらにELが発光する、と、0いう
形jルをELのNMが飽和づるまで行なわわる。このよ
うに不透明層は8SIAにとって重要な要素を占めてい
るが、反面、光の利用率から(・けば満足のいくもので
はない。そわば、BLの発光した光の約50%が不透明
層に吸収さねでしまい、出力されないからである。
また不透明層の電気伝導IKは方向によらず同一である
ため、lI!ii衣間の電気的クロストークによるコン
トラスト低下も無視′セきない。   。
本発明の目的は、上記した従妹技術の欠点ななくし、光
の利用率を向上させた光増幅器を提供づることにル2る
本発明は電気伝導性がよく光の反射特性の艮好な物憫(
例テはアルミ膜)をアイランド(島)秋とし、その周辺
を光吸収の良好な絶縁体でかへこった構造力・らなる層
な、従妹の不透明層のか4わりに挿入し、+14を度の
向上、コントラストの向。
上を図るようにしたものである。
第2図、第3図に本発明の一実施例を示づ。。
第1図と同一のものは同−二酢号を付けである。(1゜
第2図は従妹の5SIAと同様に本発明の断面図を示し
、第6図は第2図における不透明層に相等。
づる部分なぬき出したものである。第2図において7は
電気導電部、8は絶縁部を示づ。
第2図において入射光学像を光導電股上で抵抗の変化と
して再現づる庫裡は同じであるが従来の不透明層におけ
る動作が異なる。つまり、光導電股上に+fJ現し1だ
光学像を、電気導伝部7゜でサンブリンクされ゛未形と
なり、BL層に情報として伝達される。市、気導伝部の
一画面中の数、−個あたりの大きさは、サンブリンクに
よる画質劣化が目立たない程度あわばよい。また、電気
導伝部の周囲を絶縁部8で囲いそわそわの電・気導伝部
7はお互いに電気的には絶縁状態が保。
たわる。′1なわち、電気導伝部に接ゴる光導電5膜の
情報は、電気導伝部の電気抵抗が小さいために完全にE
L部に伝達される。
上記のごとく、光導電膜の情報は、電気導伝。
部でサンブリンクさねその後EL部に完全に伝。
遅さねると同時に、周囲の絶縁部のために画素、。
間でのクロストークは者しく数置される。ゴな。
わちコントラストの改善に大きな効果がある。
また、電気導伝部を光の反射率の高い物質で形成してい
るため、El、で発光した光はけは完全に前方に出力さ
れるため、出力光が増加ゴる。
さらに、電気的作用と光学的作用とが相乗し、コントラ
ストの向上が期待できる。
また、本発明は電気導伝部とカラーELを絹みあわせマ
トリックヌ状に配置づることによりカラー化も容易に達
成できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従妹のSS、r、Aの断面図、第2図は本発明
の一実施例を示づ断面図、第6図は第2図の電気導伝部
と絶縁部の構造を具体的に示した斜・親図である。 3は光導電膜 4は不透明層 5はBL層 7は電気導伝部 8は絶縁部 什刊シ人#卯半 諮 m イ+l  d=才 3 図 −443−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 エレクトロルミネセンス(EL )層と光導電膜などの
    多層構造からなる光増幅器において、ELr。 層と光4蛋膜との[…に、1画累分相当あるいは。 そわ以下の大きさの、電気伝導性がよ(光の反射特性の
    良好な物質をアイランド状に挿入し、前記ランドの周囲
    を光吸収性の良好な絶縁体で力こったことを特徴とする
    光増幅器。    1.(
JP56190723A 1981-11-30 1981-11-30 光増幅器 Pending JPS5893293A (ja)

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JP56190723A JPS5893293A (ja) 1981-11-30 1981-11-30 光増幅器

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JPS5893293A true JPS5893293A (ja) 1983-06-02

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ID=16262736

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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