JPS5891181A - Copper-tin alloy plating bath - Google Patents
Copper-tin alloy plating bathInfo
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- JPS5891181A JPS5891181A JP18804081A JP18804081A JPS5891181A JP S5891181 A JPS5891181 A JP S5891181A JP 18804081 A JP18804081 A JP 18804081A JP 18804081 A JP18804081 A JP 18804081A JP S5891181 A JPS5891181 A JP S5891181A
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- copper
- plating bath
- betaine
- tin alloy
- alloy plating
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は銅゛−スズ曾金めつき浴に関するものであり、
光沢のある鋼−スズ合金めつきを得るためのものである
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a copper-tin gold plating bath;
The purpose is to obtain a shiny steel-tin alloy plating.
従来青化銅−スズ酸丁ルカIJ t−主成分とする銅−
スズ合金めつき浴に用いらnる光沢剤としては酒石酸、
クエン酸、サリチル酸等のような有機酸−エチレングリ
コール、フェノール、β−ナフトール、ハイドロキノリ
ン、8−ハイドロキシキノリンのようなアルコール、フ
ェノール類、エチレントリアミン、ピリジン、キノリン
、トリエタノールアミン等のようなアミン窒素化合物類
、ベンゼンスルホン酸、P−トルエンスルホン酸、2.
7−ナフタレンジスルホン酸ナトリウムのようなベンゼ
ンスルホン酸塩誘導体、2−メルカブトベンズチ了ゾー
ル、2−メルカプトベンズイミダゾールのようなイオウ
複素環状化合物、界面活性剤、さらにビスマス、銀、セ
レン、テルル、アンチモンのような金属化付物等が知ら
nているが、こ扛らは単独添加したものも、−″4x曾
添加したものも半光沢乃至は無光沢状のめつきとなりや
すく、また光沢があっても使用可能な電流密度範囲が狭
いなどの問題点が多く、工業的に使用することは困難で
あった。Conventional copper bronze-stannate diluka IJ t-copper as main component-
Brighteners used in tin alloy plating baths include tartaric acid,
Organic acids such as citric acid, salicylic acid, etc. - Alcohols such as ethylene glycol, phenol, β-naphthol, hydroxyquinoline, 8-hydroxyquinoline, phenols, amines such as ethylenetriamine, pyridine, quinoline, triethanolamine, etc. Nitrogen compounds, benzenesulfonic acid, P-toluenesulfonic acid, 2.
Benzene sulfonate derivatives such as sodium 7-naphthalenedisulfonate, sulfur heterocyclic compounds such as 2-mercaptobenzthiol, 2-mercaptobenzimidazole, surfactants, and also bismuth, silver, selenium, tellurium, Metallic additives such as antimony are known, but when they are added alone or when -4x is added, they tend to produce a semi-glossy or matte finish, and they also reduce gloss. Even if there were, there were many problems such as a narrow usable current density range, making it difficult to use it industrially.
本発明は上記問題点を改善するため寮験と研究を行って
きた結果をもとに、光沢性のある良好な輪−スズ合金め
つi t’artyとする特殊な光沢剤t含む背比銅−
スズ酸了ルカリ系の銅−スズ付会めつき浴を提供するこ
とを目的とするものである。The present invention is based on the results of dormitory experiments and research conducted in order to improve the above-mentioned problems. Copper-
The object of the present invention is to provide a copper-tin plating bath based on stannic acid and alkali.
本発明は背比銅−スズ酸アルカリ系の銅−スズ付会めつ
感温において、チオシアン酸塩およびベタイン化合物を
併用添加することによシ、またはこnにさらにニッケル
塩、鉛塩を添加することによシ工業的に利用可能な光沢
のある銅−スズ付会めつき浴を得ようとするものである
。The present invention utilizes a copper-tin alkali thermosensor system by adding a thiocyanate and a betaine compound in combination, or by adding a nickel salt or a lead salt to this. By doing so, the objective is to obtain a shiny copper-tin plating bath that can be used industrially.
ここにいうチオシアン酸塩とは、背比銅−スズ酸アルカ
リ系の銅−スズ付会めつき浴に可溶のものであnばよ(
、特にチオシアン酸ナトリウムであることが好ましい、
このチオシアン酸塩を単独で使用した場曾でも一応光沢
効果があるが、使用可能な電流密度範囲が狭いなどの問
題点が残る。The thiocyanate referred to here is one that is soluble in a copper-tin alkali plating bath.
, particularly preferably sodium thiocyanate,
Although the use of this thiocyanate alone produces a certain gloss effect, problems such as a narrow usable current density range remain.
しかし、ベタイン化付物と併用することによシ使用可能
な電流密度範囲が著しく拡大するものであることt本発
明はハルセル試験を繰返して光沢状態等を観察し、膨大
な添加剤の光沢効果を検討した結果到達したものである
。However, when used in combination with a betaine additive, the usable current density range is significantly expanded.The present invention has repeatedly conducted Hull cell tests to observe the gloss state, etc. This is what we arrived at after considering the following.
ここにいうベタイン化合物とは、ベタイン、トリメチル
ベタイン、トリメチル−C−デシル−d−ベタイン等が
用いらnる。The betaine compound mentioned here includes betaine, trimethylbetaine, trimethyl-C-decyl-d-betaine, and the like.
本発明の浴へのチオシアン酸塩の添加量としては、10
〜60 fi/lであることが好ましい。101/を以
下であると光沢効果があられ庇ないし、また6 0 I
I/1t−超えると高、低電流密度部分よりくもりを生
ずる。最も好ましくはm〜559/lであることがよい
。The amount of thiocyanate added to the bath of the present invention is 10
~60 fi/l is preferred. If it is less than 101/, the gloss effect will not be overshadowed, and if it is less than 60 I
If it exceeds I/1t-, clouding occurs in the high and low current density areas. Most preferably, it is m to 559/l.
ベタイン化合物の添加量としては0.05〜811/l
であることが好まし。0.05,9/A未満であると光
沢効果があられれないし、また811/lf超えても光
沢効果の増大は望めない、最も好ましくは、0゜08〜
’II/lであることがよい以上のように背比銅−スズ
酸了ルカリ系のm−スズ付会めつき浴において、チオシ
アン酸塩およびベタイン化付物を併用添加することによ
り、工業的に利用可能な光沢ある銅−スズ付会めつき浴
が得らnるが、これに、さ・らにニッケル塩または鉛塩
を添加すると、46電流密度部分が特に光沢効果が高め
らn1光沢電流密度範囲が広くなるものである。The amount of betaine compound added is 0.05 to 811/l
It is preferable that If it is less than 0.05.9/lf, the gloss effect cannot be obtained, and even if it exceeds 811/lf, no increase in the gloss effect can be expected.Most preferably, from 0.08 to
'II/l is preferable.As mentioned above, by adding thiocyanate and betainate adduct together in the m-tin plating bath of the copper-stannic acid and alkali system, industrial A bright copper-tin plating bath is obtained which can be used for the 46 current density area, but if nickel salts or lead salts are added to this bath, the brightening effect is particularly enhanced in the 46 current density area. The current density range is widened.
ここにいうニッケル塩とは硫酸ニッケル、塩化ニッケル
、クエン酸ニッケル、酢酸ニッケル、シアン化ニッケル
カリウム等であり、その添加量は金属塩として20〜t
oom/Aの添加範囲である、°め惧g7を以下だと効
果に乏しく、100 m171以上としても光沢効果の
増大は望めない。The nickel salts referred to here include nickel sulfate, nickel chloride, nickel citrate, nickel acetate, nickel potassium cyanide, etc., and the amount added is 20 to 20 tons as a metal salt.
If the addition range of oom/A is less than 7 degrees, the effect will be poor, and even if it is more than 100 m171, no increase in the gloss effect can be expected.
鉛塩としては、酢酸塩、硫酸鉛、硝酸鉛、クエン酸鉛な
どの無機酸塩及びフェノールスルホン酸などのような有
機酸塩などが用いられ、その添加量は無機酸塩が鉛塩と
して1〜12−/ Lである。As lead salts, inorganic acid salts such as acetate, lead sulfate, lead nitrate, and lead citrate, and organic acid salts such as phenolsulfonic acid are used. ~12-/L.
有機酸塩は鉛塩として1〜10mルtである。添加範囲
外だと光沢効果があられ肚ない。The amount of the organic acid salt as a lead salt is 1 to 10 ml. If it is added outside the range, the gloss effect will be unbearable.
次に本発明のめつき浴のめつき条件等について述べると
、浴温45〜65℃程度であることがよい、陽極として
は、水溶性陽極が望ましく空気攪拌を用いnばより効果
がある。Next, regarding the plating conditions of the plating bath of the present invention, the bath temperature is preferably about 45 to 65 DEG C. As the anode, a water-soluble anode is preferable, and air stirring is more effective.
以下実施例により本発明をさらに詳細に説明する。The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below.
実施例−1
スズ酸ナトリウム 1001/を背比
ナトリウム 28 、51/を背比銅
11 、51/を水酸化ナト
リウム 101/Lチオシ丁ン酸ナ
トリウム 4097Lベタイン
31/L上記のようにめっき浴’e
astし、浴温60C1PH13,5,陽極としてカー
ボン板を用い空気攪拌でめっきを行なうと銀白色の光沢
めつ亀が0.5〜4A/dfII)11.fi密度範囲
に得らn大。Example-1 Sodium stannate 1001/ to sodium 28, 51/ to copper 11, 51/ to sodium hydroxide 101/L sodium thiositinate 4097L betaine
31/L Plating bath as above
plating with air agitation using a carbon plate as an anode at a bath temperature of 60C1PH13.5, resulting in a silvery white gloss of 0.5-4A/dfII)11. n large obtained in the fi density range.
実施例−2
スズ酸ナトリウム 1051/を背比ナ
トリウム 301/を背比銅
121/L水酸化ナトリウム
101/Lチオシ丁ン酸ナトリウム
351/lベタイン
2゜51/を硫酸ニッケル(金楓塩として)
80m1/L上記のようにめっき浴を調製し、浴温
55℃、PH13,5,陽極としてカーボン板を用い空
気攪拌でめっきを行なうと銀白色の光沢めっきが0.5
〜5ム/ ds”の電流密度範@iK得られた。Example-2 Sodium stannate 1051/sodium 301/sodium copper
121/L Sodium hydroxide 101/L Sodium thiositate 351/L Betaine
2゜51/ as nickel sulfate (as gold maple salt)
80ml/L A plating bath was prepared as described above, the bath temperature was 55°C, the pH was 13.5, a carbon plate was used as an anode, and plating was performed with air stirring, resulting in a silvery white glossy plating of 0.5%.
A current density range of ~5 μm/ds” was obtained.
以上述べてきたように本発明によnば光沢電流密度範曲
が広く長期安定性にすぐnlまた均一な光沢が得られる
という極めて優秀なめつ自浴で工業的にも利用しうるも
のである。As described above, the present invention is an extremely excellent eye bath that has a wide gloss current density range, long-term stability, and uniform gloss, and can be used industrially. .
なお本発明は、種々の浴において実施できることはもち
ろんのこと、光沢剤についても本発明の範囲内において
適宜組付せて使用できることはいうまでもない・
以上
出願人 株式会社第二精工舎
代理人 弁理士最上 務It goes without saying that the present invention can be practiced not only in various baths, but also in combination with brighteners as appropriate within the scope of the present invention.Applicant Daini Seikosha Co., Ltd. Patent Attorney Mogami
Claims (2)
浴において、チオシアン酸塩およびベタイン化合物を添
加したことを@徴とする銅−スズ合金めつき浴。(1) A copper-tin alloy plating bath based on a copper cronide-stannic acid alkali system, characterized by the addition of a thiocyanate and a betaine compound.
つき浴において、チオシアン酸塩、ベタイン化合物およ
びニッケル塩tたは鉛塩を添加したことを特徴とする銅
−スズ合金めつき浴。(2) A copper-tin alloy plating bath characterized in that a thiocyanate, a betaine compound, and a nickel salt or a lead salt are added to the copper-tin alloy plating bath based on a copper-stannate alkali system. .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18804081A JPS5891181A (en) | 1981-11-24 | 1981-11-24 | Copper-tin alloy plating bath |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18804081A JPS5891181A (en) | 1981-11-24 | 1981-11-24 | Copper-tin alloy plating bath |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5891181A true JPS5891181A (en) | 1983-05-31 |
Family
ID=16216615
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18804081A Pending JPS5891181A (en) | 1981-11-24 | 1981-11-24 | Copper-tin alloy plating bath |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5891181A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60114589A (en) * | 1983-11-02 | 1985-06-21 | デグツサ・アクチエンゲゼルシヤフト | Alkaline cyanide bath for electrodepositing original or lustrous copper tin alloy coating |
JPH02107795A (en) * | 1988-10-14 | 1990-04-19 | Tohoku Ricoh Co Ltd | Copper-tin alloy plating bath |
US6372117B1 (en) | 1999-12-22 | 2002-04-16 | Nippon Macdermid Co., Ltd. | Bright tin-copper alloy electroplating solution |
-
1981
- 1981-11-24 JP JP18804081A patent/JPS5891181A/en active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60114589A (en) * | 1983-11-02 | 1985-06-21 | デグツサ・アクチエンゲゼルシヤフト | Alkaline cyanide bath for electrodepositing original or lustrous copper tin alloy coating |
US4565608A (en) * | 1983-11-02 | 1986-01-21 | Degussa Aktiengesellschaft | Alkaline cyanide bath for electrolytic deposition of copper-tin-alloy coatings |
US4605474A (en) * | 1983-11-02 | 1986-08-12 | Gerd Hoffacker | Alkaline cyanide bath for electrolytic deposition of copper-tin-alloy coatings |
JPH02107795A (en) * | 1988-10-14 | 1990-04-19 | Tohoku Ricoh Co Ltd | Copper-tin alloy plating bath |
JPH0413434B2 (en) * | 1988-10-14 | 1992-03-09 | Tohoku Riko Kk | |
US6372117B1 (en) | 1999-12-22 | 2002-04-16 | Nippon Macdermid Co., Ltd. | Bright tin-copper alloy electroplating solution |
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