JPS5885108U - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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JPS5885108U
JPS5885108U JP17975681U JP17975681U JPS5885108U JP S5885108 U JPS5885108 U JP S5885108U JP 17975681 U JP17975681 U JP 17975681U JP 17975681 U JP17975681 U JP 17975681U JP S5885108 U JPS5885108 U JP S5885108U
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JP
Japan
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heating chamber
air guide
high frequency
heating device
frequency
Prior art date
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Application number
JP17975681U
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JPS631122Y2 (ja
Inventor
石村　洋三
一郎 堀
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松下電器産業株式会社
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Publication date
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  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
  • Electric Ovens (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の一実施例を示す高周波加熱装置の側断
面図、第２図は同第１図の要部を示す正断面図、第３図
は従来例を示す高周波加熱装置の側断面図、第４図は同
第３図の要部を示す正断面図である。 ２・・・・・・加熱室、３・・・・・・送風機、４・・
・・・・高周波発生装置、５・・・・・・エアーガイド
、６・・・・・・加熱室側壁、７・・・・・・小孔、１
０・・・・・・照明灯。

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. （１）本体内に設けられた加熱室と、この加熱室内へ高
    周波を供給する高周波発生装置と、前記加熱室内へ供給
    される高周波を攪拌する攪拌羽根と、この攪拌羽根を保
    護するカバーと、前記高周波発生装置を送風機で冷却し
    、この冷却した空気を前記加熱室内へ導しエアーガイド
    と、このエアーガイド内に設けられ、前記加熱室内を照
    明する照明灯とからなり、前記エアーガイドの一部を構
    成する加熱室側壁に照明用の小孔部を広範囲に設け、こ
    の小孔部をエアーガイドで覆った高周波加熱装置。
  2. （２）前記加熱室内に設けられたカバーの上、下にまた
    がって前記加熱室側壁に無数の小孔部を設けた実用新案
    登録請求の範囲第１項記載の高層゛　　波加熱装置。
JP17975681U 1981-12-02 1981-12-02 高周波加熱装置 Granted JPS5885108U (ja)

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JP17975681U JPS5885108U (ja) 1981-12-02 1981-12-02 高周波加熱装置

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JP17975681U JPS5885108U (ja) 1981-12-02 1981-12-02 高周波加熱装置

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JPS5885108U true JPS5885108U (ja) 1983-06-09
JPS631122Y2 JPS631122Y2 (ja) 1988-01-12

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ID=29975735

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51150558U (ja) * 1975-05-27 1976-12-01
JPS53166148U (ja) * 1977-06-02 1978-12-26

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51150558U (ja) * 1975-05-27 1976-12-01
JPS53166148U (ja) * 1977-06-02 1978-12-26

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JPS631122Y2 (ja) 1988-01-12

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