JPS5877008U - 抵抗体パタ−ンの位置ずれ検査マスク - Google Patents

抵抗体パタ−ンの位置ずれ検査マスク

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Publication number
JPS5877008U
JPS5877008U JP17111781U JP17111781U JPS5877008U JP S5877008 U JPS5877008 U JP S5877008U JP 17111781 U JP17111781 U JP 17111781U JP 17111781 U JP17111781 U JP 17111781U JP S5877008 U JPS5877008 U JP S5877008U
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JP
Japan
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pattern
resistor
resistor pattern
inspection mask
misalignment inspection
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Application number
JP17111781U
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Inventor
千葉 賢一
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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  • Adjustable Resistors (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図aは抵抗体パターン群の平面図、第1図すは抵抗
体パターン個片のずれ状態の拡大平面図。 第2図aおよびbは本考案による抵抗体パターン群のず
れ検査マスクの平面図および部分拡大平面図。 1.11・・・・・・小孔、2・・・・・・絶縁基板、
3・・・・・・抵抗体パターン、4・・・・・・透明薄
板、5・・・・・・(検査用の)正常パターン、6・・
・・・・位置ずれ許容範囲パターン、7・・・・・・(
抵抗体パターンの)位置ずれ検査マスク。

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. (1)中心孔を基準にして絶縁基板上に形成した円弧状
    の抵抗体パターンと、前記抵抗体パターンと相対する位
    置に複数の円弧状の抵抗体パターンと一致する整合パタ
    ーンと、前記整合パターン外周に密接形成された抵抗体
    パターンの位置ずれ許容パターンとを設けたことを特徴
    とする抵抗体の位置ずれ検査マスク。
  2. (2)前記整合パターンと位置ずれ許容パターンとを色
    別したことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第(1
    )項記載の抵抗体の位置ずれ検査マス々
JP17111781U 1981-11-17 1981-11-17 抵抗体パタ−ンの位置ずれ検査マスク Pending JPS5877008U (ja)

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JPS5877008U true JPS5877008U (ja) 1983-05-24

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ID=29963059

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