JPS5873948A - Ion gun - Google Patents

Ion gun

Info

Publication number
JPS5873948A
JPS5873948A JP17119081A JP17119081A JPS5873948A JP S5873948 A JPS5873948 A JP S5873948A JP 17119081 A JP17119081 A JP 17119081A JP 17119081 A JP17119081 A JP 17119081A JP S5873948 A JPS5873948 A JP S5873948A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ampoule
ion gun
moving
needle
metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP17119081A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS6331889B2 (en
Inventor
Ryuzo Aihara
相原 龍三
Norimichi Anazawa
穴沢 紀道
Masahiko Okunuki
昌彦 奥貫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Nihon Denshi KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd, Nihon Denshi KK filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP17119081A priority Critical patent/JPS5873948A/en
Publication of JPS5873948A publication Critical patent/JPS5873948A/en
Publication of JPS6331889B2 publication Critical patent/JPS6331889B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/26Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field effect ion sources, thermionic ion sources

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain an ion gun which can safely produce field ions stably by providing a moving body which gives compressive breaking force to an ampoule installed in an ampoule-installation space under a vacuum condition, and moving the moving body from outside the ampoule so as to load the ion gun with a reactive metal without making the metal in contact with air. CONSTITUTION:A fine hole 10, until an ampoule 6 is broken, is opened and accelerates exhaustion of an ampoule-installation space 5, and blocked up by a downwardly moving pipe 8 as soon as the ampoule 6 is broken. The pipe 8 moves down until a moving shaft 26 is stopped by a stopper 28. By the process mentioned above, the loading of a liquid metal 2 is finished. Next, production of an ion beam is carried out. The liquid metal 2 flows out from a space 1c, which is formed between the capillary 1a and the needle 1d of an emitter part 1, due to electrostatic force, and reaches the pointed end of the needle 1d after flowing over the surface of the needle 1d. As a result, a conical projection called a tailor corn develops at the pointed end of the needle 1d according to the balance between the surface tension and the electrostatic force of the metal 2, and an ion beam is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は反応性の高い液体金属よりエレクトロハイド
ロダイナミック(BHD)によってフィールドイオンを
発生させるようにしたイオン銃に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an ion gun that generates field ions from a highly reactive liquid metal using electrohydrodynamics (BHD).

イオンマイクロアナライザーなどにおいて、イオンビー
ムを発生させるイオン銃として、液体金属よりRIDに
よりフィールドイオンを発生させるものが提案されてい
る。この種のイオン銃に於いては、特にセシウム等は空
気または空気中の水分等の反応性が高く、空気中におい
て非常に取扱いにくい液体金属を空気等と反応させるこ
となくイオン銃内に安全に導入することが必要である。
As an ion gun for generating an ion beam in an ion microanalyzer, an ion gun that generates field ions using RID from liquid metal has been proposed. In this type of ion gun, cesium, etc., is highly reactive with air or moisture in the air, and liquid metals that are difficult to handle in the air can be safely stored inside the ion gun without reacting with the air. It is necessary to introduce

上記のような反応性金属は真空排気された状態で、ガラ
ス製のアンプルに封入されたものが使用されているが、
従来、実、装置として安全に空気等と反応させることな
く反応性金属を装填できるものはなかった。
The reactive metals mentioned above are used in a vacuum-evacuated state and sealed in glass ampoules.
Until now, there has been no device that can safely load reactive metals without causing a reaction with air or the like.

この発明は、以上のような点に鑑みなされたもので、ア
ンプル収容空間に収容されたアンプルに真空下で圧縮破
壊力を与える移動体を設け、外部から移動させることに
より、空気と接触させることなく反応性金属をイオン銃
に装填し、安全かつ安定してフィールドイオンを発生さ
せることのできるイオン銃を提供することを目的として
いる。
This invention was made in view of the above points, and includes a moving body that applies a compressive breaking force under vacuum to the ampoule housed in the ampoule housing space, and is moved from the outside to bring it into contact with air. The object of the present invention is to provide an ion gun that can safely and stably generate field ions by loading a reactive metal into the ion gun without any problems.

この発明は真空排気された反応性金属のアンプルを収容
し、かつエミッターに接続するアンプル収容空間と、こ
のアンプル収容空間を真空引きする手段と、前記アンプ
ルに圧縮破壊力を与える移動体と、アンプル収容空間の
外側に設けられ念操作部を回転することにより前動移動
体を移動させる機構とを備えたことを特徴″λするイオ
ン銃であ′i る。             ・ 以下、この発明を図面により説明する。第1図はこの発
明の一実施例によるイオン銃を示す垂直断面図、第2図
はその部分拡大図、第3図は第2図のA部の拡大図、第
4図は作動状態を示す部分拡大図である。
The present invention includes an ampoule housing space that houses an evacuated reactive metal ampoule and is connected to an emitter, a means for evacuating the ampoule housing space, a moving body that applies a compressive breaking force to the ampoule, and an ampoule housing space that is connected to an emitter. This ion gun is characterized by having a mechanism for moving a forward movable body by rotating a telescopic operation unit provided outside the storage space.The present invention will be explained below with reference to the drawings. Fig. 1 is a vertical sectional view showing an ion gun according to an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a partially enlarged view thereof, Fig. 3 is an enlarged view of section A in Fig. 2, and Fig. 4 is an operating state. FIG.

図面において、1はキャピラリー/ニードル型+7)E
HDエミッタ一部で、その詳細は第2図および第3図に
示すように、液体金属2のリザーバ2aを形成するキャ
ピラリー1aおよび、このキャピラリー1aの基部1b
にスポット溶接され、かつキャピラリー1aの先端との
間に間隙1cを形成してキャピラリー外に突出するタン
グステン製のニードル1dからなる。
In the drawing, 1 is capillary/needle type +7)E
A part of the HD emitter, the details of which are shown in FIGS. 2 and 3, includes a capillary 1a forming a reservoir 2a of liquid metal 2, and a base 1b of this capillary 1a.
It consists of a tungsten needle 1d that is spot welded to the tip of the capillary 1a and protrudes outside the capillary with a gap 1c formed therebetween.

エミッタ一部1は袋ナツト6により容器4の下端部に固
定され、容器4のアンプル収容空間5と連通している。
The emitter part 1 is fixed to the lower end of the container 4 by a cap nut 6 and communicates with the ampoule receiving space 5 of the container 4.

アンプル収容空間5には液体金属を封^したアンプル6
がアンプルボルダ−7に保持されて収容さi、圧縮破壊
力を与える移動パイプ8によりアンプル破壊用突起9に
向けて抑圧さ、:: れるようになっている。移動パイプ8は容器4内を気密
状態に保って摺動可能とされ、アンプルボルダ−7に固
定されている。容器4の側壁には、アンプル収容空間5
がら真空引きするための細孔10が設けられており、上
端部は7ランジ11に固定されている。
The ampoule storage space 5 contains an ampoule 6 sealed with liquid metal.
is held and housed in the ampoule boulder 7, and is pressed toward the ampoule breaking protrusion 9 by a moving pipe 8 that applies compressive breaking force. The moving pipe 8 is allowed to slide inside the container 4 while keeping it airtight, and is fixed to the ampoule boulder 7. An ampoule storage space 5 is provided on the side wall of the container 4.
A small hole 10 for vacuuming is provided, and the upper end is fixed to a 7 flange 11.

7ランジ11に固定されたフレーム12の先端には、キ
ャピラリー1aの周囲を囲むように熱遮へい板16が設
けられ、その内側に加熱器14が設けられている。加熱
器14は実施例では抵抗型のヒーターより輻射熱で加熱
するものを使用しているが、タングステン線等より発生
する熱電子を加速して衝突させる電子衝撃加熱、あるい
は導電性のよいコイルによる高周波誘導加熱によるもの
であってもよい。
A heat shield plate 16 is provided at the tip of the frame 12 fixed to the 7 langes 11 so as to surround the capillary 1a, and a heater 14 is provided inside the heat shield plate 16. In the embodiment, the heater 14 uses a heater that heats with radiant heat rather than a resistance type heater, but it can also be heated by electron impact heating in which hot electrons generated from a tungsten wire or the like are accelerated and collided with each other, or by high-frequency heating using a highly conductive coil. It may be based on induction heating.

フランジ11は基盤15上に2段に載置された加速管1
6に固定されたフランジ17上に重合されて支持されて
6る。加速管16内はイオン銃室18とされ、各加速管
16間には引出電極19が支持され、エミッタ一部1に
対向して中央部に細孔1八が設けられている。さらに引
出電極19に対向して接地電極(カソード)20が設け
られて基盤15に支持され、その中央部に細孔20aが
細孔19aおよびエミッタ一部1と同軸に設けられてい
る。接地電極20の下側には集束レンズ/偏向系などを
含むイオンプローブ形成用の鏡筒およびイオン銃室18
を真空にするための排気ポートが設けられているが図示
は省略されている。
The flange 11 is the acceleration tube 1 placed on the base 15 in two stages.
6 and supported on a flange 17 fixed to 6. The interior of the acceleration tube 16 is an ion gun chamber 18, an extraction electrode 19 is supported between each acceleration tube 16, and a pore 18 is provided in the center facing the emitter part 1. Further, a ground electrode (cathode) 20 is provided opposite the extraction electrode 19 and supported by the base 15, and a pore 20a is provided in the center thereof coaxially with the pore 19a and the emitter part 1. Below the ground electrode 20, there is a lens barrel for forming an ion probe including a focusing lens/deflection system, etc., and an ion gun chamber 18.
Although an exhaust port for evacuating the air is provided, illustration thereof is omitted.

フラン:)11には、フランジ21を有するケーシング
22が固定されており、7ランジ21にはシリンダ26
を有する7ランジ24が重合され固定されている。シリ
ンダ26内には、カップリング25により、アンプルホ
ルダー7と軸のずれを補償するように連結された移動軸
26が摺動可能に設けられており、スプリング27によ
って上向きに押圧されており、ストッパ28に摺動する
溝29が設けられている。
A casing 22 having a flange 21 is fixed to the flange 11, and a cylinder 26 is fixed to the 7 flange 21.
7 flange 24 having 7 flanges 24 are polymerized and fixed. A moving shaft 26 is slidably provided in the cylinder 26 and connected to the ampoule holder 7 by a coupling 25 so as to compensate for misalignment of the shaft, and is pressed upward by a spring 27. 28 is provided with a sliding groove 29.

移動軸26の上部中央にはめねじ3oが設けられて、お
ねじ31がねしつけられている。おねじ31の上部には
ヘッド62を有するロッド66が設けられ、つまみ64
のスライド壁65を貫通してスライド可能に取付けられ
ている。ヘッド62の下側には溝66が設けられて、ス
ライド壁35に設けられた突起37と係合可能とされて
おり、両者でクラッチを構成している。っまみ64はシ
リンダ26に回転可能に取付けられている。フランジ2
4と移動軸260間にはベローズ68が設けられている
A female thread 3o is provided at the center of the upper part of the moving shaft 26, and a male thread 31 is screwed into the female thread 3o. A rod 66 having a head 62 is provided at the top of the male thread 31, and a knob 64 is provided.
It is attached so that it can slide through the slide wall 65 of. A groove 66 is provided on the lower side of the head 62 and can be engaged with a protrusion 37 provided on the slide wall 35, and both constitute a clutch. The knob 64 is rotatably attached to the cylinder 26. Flange 2
A bellows 68 is provided between the moving shaft 260 and the moving shaft 260.

以上のように構成されたイオン銃において、反応性金属
の入ったアンプル6をアンプルホルタ−7に取付けて容
器4のアンプル収容空間5に収容し、7ランジ11.1
7および21.24を固定する。イオン銃室18が大気
圧の状態では、スプリング27によって移動軸26が上
に押し上げられて、溝36と突起67が離脱した状態に
なって、つまみ64の回転力はおねじ31に伝わらない
ようになっている。
In the ion gun configured as described above, the ampoule 6 containing the reactive metal is attached to the ampoule holter 7 and accommodated in the ampoule storage space 5 of the container 4, and
7 and 21.24 are fixed. When the ion gun chamber 18 is at atmospheric pressure, the moving shaft 26 is pushed upward by the spring 27, and the groove 36 and the protrusion 67 are separated, so that the rotational force of the knob 64 is not transmitted to the male screw 31. It has become.

この状態で排気ポート(図示せず)からイオン銃室18
の真空引きを行うと、ベローズ68が伸びて移動軸26
が降下し、溝66と突起37が係合し、第1図の状態に
なる。この段階で真空引きを行いながら、っまみ64を
回転させると、回転力は突起67から溝36、ヘッド3
2およびロッド66を介しておねじ31に伝えられ、移
動軸26が下降する。
In this state, the ion gun chamber 18 is opened from the exhaust port (not shown).
When the vacuum is applied, the bellows 68 expands and the moving shaft 26
is lowered, and the groove 66 and the protrusion 37 are engaged, resulting in the state shown in FIG. At this stage, when the knob 64 is rotated while vacuuming, the rotational force is transferred from the protrusion 67 to the groove 36 and the head 3.
2 and the rod 66 to the male screw 31, and the moving shaft 26 descends.

移動軸26の下降に伴って移動ノeイブ8も下降し、ア
ンプル6に圧縮力を加える。この場合アンプル6の反対
側は突起9によって支持されているので、この部分に集
中応力がががり、アンプル6は破壊され、封入されてい
た液体金属2がアンプル収容空間5およびエミッタ一部
1のキャピラリーb になる。細孔10はアンプル6が破壊されるまでは開口
してアンプル収容空間5からの排気を促進するが、アン
プル6の破壊とともに、下降する移動パイプ8によって
速断される。移動パイプ8の下降はストッパ28によっ
て移動軸26が停止するまで行われる。
As the moving shaft 26 descends, the moving knob 8 also descends, applying compressive force to the ampoule 6. In this case, since the opposite side of the ampoule 6 is supported by the protrusion 9, the concentrated stress is relieved in this part, the ampoule 6 is broken, and the liquid metal 2 sealed therein is released into the ampoule housing space 5 and the emitter part 1. Becomes capillary b. The pores 10 are open until the ampoule 6 is destroyed to facilitate exhaustion from the ampoule storage space 5, but when the ampoule 6 is destroyed, the pores 10 are quickly cut off by the descending moving pipe 8. The moving pipe 8 continues to descend until the moving shaft 26 is stopped by the stopper 28.

以上により液体金属2の装填を終り、イオンビームの発
生に移る。イオンビームの発生は、まず加熱器14に通
電し□てエミッタ一部1のリザーバ2a4C充、填され
、た液体金属を加熱する。この場合、エミッタ一部1の
キャピラリー1aに温度感知手段を設けて、常に一定温
度となるように加熱を行次いでエミッタ一部1と引出電
極19間に引出電圧を印加し、またエミッタ一部1と接
地電極20の間に加速電圧を印加してニードル1dの先
端に強電界を形成すると、エミッタ一部1のキャピラリ
ー1aとニードル1dの間隙1cより液体金属2が静電
力によって流出して、ニードル1 d’の表面から、そ
の先端に達し、第4図に示すようにニードル1 d”の
先端にティラーコーンと称する円錐状の突起2hが液体
金属20表面張力と静電力とのバランスにより発“生ず
る。この突起2bの先□端は非常に大きな電界強度とな
り、この電界によって金属イオンが電界蒸発してイオン
化し、イオンビーム39が得られる。
With the above steps, loading of the liquid metal 2 is completed, and the process moves on to generating an ion beam. To generate an ion beam, first, the heater 14 is energized to heat the liquid metal filled in the reservoir 2a4C of the emitter part 1. In this case, a temperature sensing means is provided in the capillary 1a of the emitter part 1, and heating is performed so that the temperature is always constant, and then an extraction voltage is applied between the emitter part 1 and the extraction electrode 19. When an accelerating voltage is applied between the ground electrode 20 and the needle 1d to form a strong electric field at the tip of the needle 1d, the liquid metal 2 flows out from the gap 1c between the capillary 1a of the emitter part 1 and the needle 1d due to electrostatic force, and the needle As shown in FIG. 4, a conical protrusion 2h called a tiller cone is generated from the surface of the liquid metal 20 due to the balance between surface tension and electrostatic force. arise. The electric field strength is extremely large at the tip of the protrusion 2b, and the electric field evaporates and ionizes the metal ions, resulting in an ion beam 39.

引出電極19の細孔19aを通過したイオンビーム39
は接地電極20によってさらに加速され、細孔20aか
らイオンプローブ形成用鏡筒υ図示せず)に送られる。
Ion beam 39 passing through the pore 19a of the extraction electrode 19
is further accelerated by the ground electrode 20 and sent from the pore 20a to the ion probe forming lens barrel υ (not shown).

アンプル6により装填される液体金属2は半永久的に使
用できる量とされるが、操作ミス等により再装填するた
めには、7ランジ24を外して前記と同様の操作を行う
The amount of liquid metal 2 loaded in the ampoule 6 can be used semi-permanently, but in order to reload it due to an operational error or the like, remove the 7-lunge 24 and perform the same operation as described above.

なお、以上の実施例では、つまみ64の回転運動を移動
軸26の直線運動に変換する機構として□ねじを使用し
たがカムその他の機構を使用してもよい。またクラッチ
機構としても、上記実施例のものに限定されず、他の構
造のものが使用できる。
In the above embodiment, a □ screw is used as a mechanism for converting the rotational movement of the knob 64 into a linear movement of the moving shaft 26, but a cam or other mechanism may be used. Further, the clutch mechanism is not limited to that of the above embodiment, and other structures may be used.

□さらにアンプル6の破壊手段として、移動パイプ8と
突起9を設けたが、他の構造のものでもよい。
□Moreover, although the movable pipe 8 and the protrusion 9 are provided as means for destroying the ampoule 6, other structures may be used.

本発明において使用可能な反応性金属としては、セシウ
ム、ガリウム、金、アルミニウム、その他の金属があげ
られる。上記実施例はキャピラリー/ニードル型のイオ
ン銃に適用したものであるが、ニードル型、キャピラリ
ー型、その他のEHDによりフィールドイオンを発生さ
せるイオン銃に適用可能である。また本発明はイオンマ
イクロアナライザー、その他あらゆる用途のイオン銃と
して使用することができる。
Reactive metals that can be used in the present invention include cesium, gallium, gold, aluminum, and other metals. Although the above embodiment is applied to a capillary/needle type ion gun, it is also applicable to a needle type, capillary type, or other ion gun that generates field ions using EHD. Further, the present invention can be used as an ion microanalyzer and an ion gun for all other uses.

以上のとおり、本発明によれば、アンプル収容空間に収
容されたアンプルに真空下、で圧縮破壊力を加える移動
体を設け、外部からの回転力により操作できるようにし
たので、簡単な操作で安全かつ確実に、空気と接触させ
ることなく反応性金属を装填することができる。このた
め安全かつ安定してフィールドイオンを発生させること
ができる。
As described above, according to the present invention, a movable body that applies compressive breaking force under vacuum to the ampules housed in the ampoule housing space is provided, and the operation can be performed using an external rotational force, so that the operation can be performed easily. Reactive metals can be loaded safely and reliably without contact with air. Therefore, field ions can be generated safely and stably.

また真空下においてのみ回転力を伝えるクラッチ機構を
設ければ、イオン銃内に空気が存在する場合に、アンプ
ルの破壊を防ぎ、液体金属が空気等と反応するのを防止
することができる。さらに、アンプル破壊前に開口し、
アンプル破壊後に遮断される開口部を設けることにより
、アンプル破壊前は空気を排出し、アンプル破壊後は液
一体金属の蒸発を防止することができる。
Further, by providing a clutch mechanism that transmits rotational force only under vacuum, it is possible to prevent the ampoule from breaking and to prevent the liquid metal from reacting with air or the like when air is present in the ion gun. Furthermore, the ampoule opens before breaking,
By providing an opening that is blocked after the ampoule is broken, air can be exhausted before the ampoule is broken, and evaporation of the liquid metal can be prevented after the ampoule is broken.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例によるイオン銃を示す垂直
断面図、第2図は雪の部分拡大図、第3図は第2図のA
部の拡大図、第4図は作動状態を示す部分拡大図である
。 9.、、、□、:。 各図中、同一符号は同一部分を示し、1はエミッタ一部
、1aはキャピラリー、1 d4’iニー )’ル、2
は液体金属、4は容器、5はアンプル収容空間、6はア
ンプル、7はアンプルホルダー、8は移動パイプ、9は
突起、10は細孔、11.17.21.24はフランジ
、13は熱遮へい板、14は加熱器、15は基盤、16
は加速管、18はイオン銃室、°19は引出電極、20
は接地電極、22はケーシング、23はシリンダ、25
はカップリング、26は移動軸、27はスプリング、2
8はストツノξ、31はおねじ、34はつまみ、36は
溝、37は突起、38ははローズ、39はイオンビーム
である。 代理人 弁理士 柳 原   成 ′1ジ・ 第3図
FIG. 1 is a vertical sectional view showing an ion gun according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a partially enlarged view of snow, and FIG. 3 is an A of FIG.
FIG. 4 is a partial enlarged view showing the operating state. 9. ,,,□,:. In each figure, the same reference numerals indicate the same parts, 1 is part of the emitter, 1a is the capillary, 1 is the emitter, 1 is the capillary, 2 is
is a liquid metal, 4 is a container, 5 is an ampoule storage space, 6 is an ampoule, 7 is an ampoule holder, 8 is a moving pipe, 9 is a protrusion, 10 is a pore, 11.17.21.24 is a flange, 13 is a heat Shielding plate, 14 heater, 15 base, 16
is the acceleration tube, 18 is the ion gun chamber, °19 is the extraction electrode, 20
is a ground electrode, 22 is a casing, 23 is a cylinder, 25
is a coupling, 26 is a moving shaft, 27 is a spring, 2
Reference numeral 8 is a strut horn ξ, 31 is a male screw, 34 is a knob, 36 is a groove, 37 is a protrusion, 38 is a rose, and 39 is an ion beam. Agent Patent Attorney Sei Yanagihara'1 Figure 3

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)真空排気された反応性金属のアンプルを収容し、
かつエミッターに接続するアンプル収容空間と、このア
ンプル収容空間を真空引きする手段と、前記アンプルに
圧縮破壊力を与える移動体と、アンプル収容空間の外側
に設けられた操作部を回転することにより前記移動体を
移動させる機構とを備えたことを特徴−とするイオン銃
(2)真空状態においてのみ操作部の回転により移動体
を移動させるクラッチ機構を備えた特許請求の範囲第1
項記載のイオン銃 (3)アンプルの一部に集中応力を加える突起をアンプ
ル収容空間に備えた特許請求の範囲第1項または第2項
記載のイオン銃        ・(4)アンプル収容
空間はアンプル破壊前には真空引きされ、アンプル破壊
後は遮断されるようにされている特許請求の範囲第1項
ないし第3項のいずれかに記載のイオン銃 (5)移動体を移動させる機構はねじである特許請求の
範囲第1項ないし第4項のいずれかに記載のイオン銃
[Claims] (1) Contains an evacuated reactive metal ampoule;
and an ampoule housing space connected to the emitter, a means for evacuating the ampoule housing space, a movable body that applies a compressive breaking force to the ampoule, and an operating unit provided outside the ampoule housing space to rotate the ampoule housing space. (2) An ion gun characterized by comprising a mechanism for moving a movable body (2) A clutch mechanism for moving the movable body by rotation of an operating part only in a vacuum state Claim 1
(3) The ion gun according to claim 1 or 2, wherein the ampoule housing space is provided with a protrusion that applies concentrated stress to a part of the ampoule. (4) The ampoule housing space is provided with a projection that applies concentrated stress to a part of the ampoule. The mechanism for moving the moving body of the ion gun (5) according to any one of claims 1 to 3, wherein the ion gun is evacuated before the ampoule is evacuated and is shut off after the ampoule is broken. An ion gun according to any one of claims 1 to 4
JP17119081A 1981-10-26 1981-10-26 Ion gun Granted JPS5873948A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17119081A JPS5873948A (en) 1981-10-26 1981-10-26 Ion gun

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17119081A JPS5873948A (en) 1981-10-26 1981-10-26 Ion gun

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5873948A true JPS5873948A (en) 1983-05-04
JPS6331889B2 JPS6331889B2 (en) 1988-06-27

Family

ID=15918670

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17119081A Granted JPS5873948A (en) 1981-10-26 1981-10-26 Ion gun

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5873948A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63502384A (en) * 1986-04-09 1988-09-08 エアー・プロダクツ・アンド・ケミカルズ・インコーポレーテッド evaporator

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS581952A (en) * 1981-06-02 1983-01-07 イオン ビーム システムズ リミテッド Metal vapor supply device for ion source

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS581952A (en) * 1981-06-02 1983-01-07 イオン ビーム システムズ リミテッド Metal vapor supply device for ion source

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63502384A (en) * 1986-04-09 1988-09-08 エアー・プロダクツ・アンド・ケミカルズ・インコーポレーテッド evaporator

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6331889B2 (en) 1988-06-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5188705A (en) Method of semiconductor device manufacture
US5376791A (en) Secondary ion mass spectometry system
US3219435A (en) Method and apparatus for producing metal blocks by electron beams
US6730237B2 (en) Focused ion beam process for removal of copper
US2850225A (en) Pump
JPS61142645A (en) Ion source for combined use by positive and negative polarity
JPS62237650A (en) Metallic ion generating device
US2981823A (en) Production of metals
JPS5873948A (en) Ion gun
EP0066474B1 (en) Dispenser for ion source
US4983845A (en) Apparatus operating with contact ionization for the production of a beam of accelerated ions
JPS6240344Y2 (en)
JPS5873947A (en) Ion gun
JPS6054150A (en) Ion source
JPH0955169A (en) Sample evaporation source for ion source
US4018489A (en) Method for extending cathode life in vidicon tubes
US2736810A (en) Charge receptacles for use in ion source units
JPS62176038A (en) X-ray luminescent device
US2968715A (en) Fusion welding method and apparatus
US4845366A (en) Semiconductor dopant vaporizer
US20240186101A1 (en) Vaporizer, ion source, ion beam irradiation apparatus, and an operating method for a vaporizer
JPS588104B2 (en) Electron gun for heating, melting and drying
CN220335289U (en) Electron beam heating melting equipment
JPH0765762A (en) Electron gun
JPS60112235A (en) Cesium ion source