JPS586793B2 - Bright palladium electroplating bath - Google Patents

Bright palladium electroplating bath

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Publication number
JPS586793B2
JPS586793B2 JP53115040A JP11504078A JPS586793B2 JP S586793 B2 JPS586793 B2 JP S586793B2 JP 53115040 A JP53115040 A JP 53115040A JP 11504078 A JP11504078 A JP 11504078A JP S586793 B2 JPS586793 B2 JP S586793B2
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JP
Japan
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palladium
electroplating bath
group
sodium
brightener
Prior art date
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JP53115040A
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Japanese (ja)
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JPS5467528A (en
Inventor
ジヨン・マーチン・デンバー
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Oxy Metal Industries Corp
Original Assignee
Oxy Metal Industries Corp
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/50Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals
    • C25D3/52Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals characterised by the organic bath constituents used

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はパラジウムを電気メッキする技術に関する、こ
の目的には、多数のメッキ浴が提案された。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to the technique of electroplating palladium; a number of plating baths have been proposed for this purpose.

代表的浴は、たとえば米国特許第3580820号、第
3933602号、および第3972787号に開示さ
れている。
Representative baths are disclosed, for example, in US Pat. Nos. 3,580,820, 3,933,602, and 3,972,787.

前記の特許は、たとえば、パラジウム ジーまたはテト
ラーアミン ハロゲン化物、パラジウムー尿素 亜硫酸
塩錯化物、パラジウム ジ亜硝酸塩錯化物、パラジウム
テトラミン亜硝酸塩または硫酸塩錯化物またはパラジウ
ムアミン亜硫酸塩錯化物を含む系が述べられている。
Said patents describe, for example, systems comprising palladium di- or tetraamine halides, palladium-urea sulfite complexes, palladium dinitrite complexes, palladium tetramine nitrite or sulfate complexes or palladium amine sulfite complexes. ing.

望ましいことは、パラジウムの光沢を改良することであ
る。
What is desirable is to improve the gloss of palladium.

mた望ましくは、通常アルカリ性条件下で通常受動化さ
れている鉄、コバルトまたはニッケル基質上の光沢メッ
キに使用できるパラジウム電気メッキ浴を技術的に利用
することである。
It is also desirable to utilize palladium electroplating baths which can be used for bright plating on normally passivated iron, cobalt or nickel substrates, usually under alkaline conditions.

今回、浴の田値を4.5〜12に調節すれば、可溶性パ
ラジウム塩としての形態のパラジウム、第1種光沢剤お
よび第2種有機光沢剤を含む水性浴から、パラジウムの
光沢メッキ層が得られることが発見されたのである。
In this case, by adjusting the temperature value of the bath to 4.5 to 12, a bright plating layer of palladium can be obtained from an aqueous bath containing palladium in the form of a soluble palladium salt, a type 1 brightener, and a type 2 organic brightener. It has been discovered that it can be obtained.

パラジウムは、本発明の電気メッキ浴になんらかの電着
可能の形で供給される。
Palladium is provided in some electrodepositable form to the electroplating bath of the present invention.

浴の安定性は、尿素またはアミン錯化物のような2価パ
ラジウム錯化物を使用すれば改善される。
Bath stability is improved by using divalent palladium complexes such as urea or amine complexes.

適当な実例は、塩化物、亜硝酸塩または亜硫酸塩を有す
るパラジウム アミン錯化物である。
Suitable examples are palladium amine complexes with chlorides, nitrites or sulfites.

メッキ浴のパラジウム含有量は0.1〜5 0g/lの
範囲内にある。
The palladium content of the plating bath is in the range 0.1-50 g/l.

ストライクメッキを得るためには、1〜5g/lの濃度
が好1しくは約10g/lである。
To obtain strike plating, a concentration of 1 to 5 g/l is preferably about 10 g/l.

第1種と第2種ニッケル光沢剤とは、F.A.Lowe
nheim著:Modern Electroplat
ing第2版、1963年発行、272ページおよびM
etal Finishing Guidebook&
Directory42版1974年発行、358ペー
ジに述べられている。
The first type and second type nickel brighteners are F. A. Lowe
Written by nheim: Modern Electroplat
ing 2nd edition, published 1963, 272 pages and M
etal Finishing Guidebook &
Directory 42 edition published in 1974, page 358.

この第1種光沢剤は、不飽和結合がスルホン基に関して
α−またはβ一位置にある一般的に不飽和スルホン化化
合物である。
This type 1 brightener is generally an unsaturated sulfonated compound in which the unsaturated bond is in the α- or β-position with respect to the sulfone group.

これら化合物は式: A.−SO3−B を有し、式中のA4は置換普たは非置換アリルまたはア
ルキル基で、Bは、アルカリ金属、アンモニウムまたは
アミンであるMまたは炭素原子6個以下のアルキル基で
あるRを有する−OH,−OR、−OM、−NH2、>
NH、−H、−Rである。
These compounds have the formula: A. -SO3-B, where A4 is a substituted or unsubstituted allyl or alkyl group, and B is an alkali metal, ammonium, or amine, or R is an alkyl group having up to 6 carbon atoms. -OH, -OR, -OM, -NH2,>
They are NH, -H, and -R.

第2種有機光沢剤は、一般に不飽和またはカルボニル有
機化合物である。
Type 2 organic brighteners are generally unsaturated or carbonyl organic compounds.

実例は>C=O、>C=C<、一C≡N,>C=N−、
一C≡C一、>N−C=S、−N=N一を含む化合物で
ある。
Examples are >C=O, >C=C<, -C≡N, >C=N-,
It is a compound containing 1C≡C1, >N-C=S, -N=N1.

この種化合物は、上記のMetal Finishin
gGnindebookの360ページに表示してある
This kind of compound is the above-mentioned Metal Finishing compound.
It is displayed on page 360 of gGnindebook.

個々の光沢剤濃度は0.001〜25g/lの範囲にあ
る。
The individual brightener concentrations range from 0.001 to 25 g/l.

いくつかの化合物が第1種および第2種光沢剤両者の記
述中にみとめられる。
Several compounds are found in the description of both Type 1 and Type 2 brighteners.

これら化合物は、単独でも使用できるが、どちらかの種
類の第2の異種化合物を使用するとき、特に改良された
成果が得られる。
Although these compounds can be used alone, particularly improved results are obtained when a second, heterogeneous compound of either type is used.

電気メッキ溶液のpHは、安定性の問題を回避するため
に、4.5〜12の値を保持しなければならぬ。
The pH of the electroplating solution must be kept at a value between 4.5 and 12 to avoid stability problems.

特に約6.5の値が望ましいストライクメッキには、約
4.5〜7.0の値が選ばれる。
For strike plating, where a value of about 6.5 is particularly desirable, a value of about 4.5 to 7.0 is selected.

通常の電気メッキ用には約7〜10が好ましく、約8.
0〜9.0の値が現在は最適である。
About 7-10 is preferred for normal electroplating, and about 8.
Values between 0 and 9.0 are currently optimal.

PH値の調節には、水酸化アンモニウムまた塩酸のよう
にこの目的に通常用いられる非反応性の酸または塩基を
加えて行なう。
Adjustment of the pH value is carried out by adding non-reactive acids or bases commonly used for this purpose, such as ammonium hydroxide or hydrochloric acid.

水酸化アンモニウムを使用すると、バラジウム アミン
錯化物の安定性促進を助け、一方塩酸は溶液電導度を高
め、それによって陰極における水素発生を極少化する。
The use of ammonium hydroxide helps promote stability of the palladium amine complex, while hydrochloric acid increases solution conductivity, thereby minimizing hydrogen evolution at the cathode.

他の通常使用される無害pH調節剤もまた利用できるが
、前者のほうが、その二重機能の故に望ましいものであ
る。
Although other commonly used non-toxic pH adjusting agents are also available, the former is preferred because of its dual function.

陰極の水素形成見込をさらに減少させるために、一般に
電導性塩の附加量を含1せることか望ましい。
To further reduce the potential for hydrogen formation at the cathode, it is generally desirable to include an additional amount of conductive salt.

パラジウム電気メッキに正規に用いる通常使用されると
の電導性塩類でも、本発明の浴に使用できるが、現在好
ましい電導塩は、塩化アンモニウムである。
Although any of the commonly used conductive salts normally used in palladium electroplating may be used in the baths of the present invention, the currently preferred conductive salt is ammonium chloride.

また、塩化物陰イオンは、溶液の電導度を改善するのに
、アンモニウムの存在はパラジウム アミン錯化物の安
定性を高める。
The chloride anion also improves the conductivity of the solution, while the presence of ammonium increases the stability of the palladium amine complex.

附加化合物として、部分中和リン酸塩化合物のようなも
のが、それらの電導性と緩衝性のために使用できる。
As adjunct compounds, such as partially neutralized phosphate compounds can be used for their conductive and buffering properties.

特別に有効と判明した一つの化合物はアンモニウム 1
水素リン酸塩である。
One compound that has been found to be particularly effective is ammonium 1
Hydrogen phosphate.

本発明の浴は、また金属光沢剤およびキレート要素のよ
うな添加剤を含1せて改造できる。
The baths of this invention can also be modified to include additives such as metal brighteners and chelating elements.

適肖な金属光沢剤は、カドミウム、銅、ガリウム、イン
ジウム、テルリウム、ヒ素、および亜鉛である。
Suitable metal brighteners are cadmium, copper, gallium, indium, tellurium, arsenic, and zinc.

適当なキレート剤または封鎖剤には、EDTA、NTA
.およびこはく酸のようなカルボン酸キレート剤とリン
酸キレート剤とが含まれる。
Suitable chelating or sequestering agents include EDTA, NTA
.. and carboxylic acid chelators such as succinic acid and phosphoric acid chelators.

ジエチレン トリアミンのようなポリアルキル ポリア
ミンは同様に添加できる。
Polyalkyl polyamines such as diethylene triamine can be added as well.

パラジウム浴の温度は室温から約160°F(約71.
7℃)の間に保持されねばならぬ。
The temperature of the palladium bath ranges from room temperature to about 160°F.
7°C).

好ましい温度は正規には、過剰アンモニアが溶液から放
出するのをさけるために、130’F(54.4℃)で
あろう。
The preferred temperature would typically be 130'F (54.4C) to avoid excess ammonia escaping from the solution.

電流密度は0.1〜50アンペア/平方フート(0.0
1〜5.37A/dm2)が適当である。
The current density is 0.1 to 50 Amps/sqft (0.0
1 to 5.37 A/dm2) is appropriate.

引掛けメッキには、5〜15アンペア/平方フート(約
0.55〜1.65A/dm2)好ましくは10アンペ
ア/平方フート(約1.1A./dm2)の電流密度が
使用できる。
Current densities of 5 to 15 amps per square foot (about 0.55 to 1.65 A/dm2), preferably 10 amps per square foot (about 1.1 A./dm2) can be used for hook plating.

バレルメッキには、適当範囲は0.5〜3アンペア/平
方フート(約0.05〜0,33A/dm2)である。
For barrel plating, a suitable range is 0.5 to 3 amps per square foot (about 0.05 to 0.33 A/dm2).

応力の小さいメッキ層を望むならば、スルファム酸、そ
の塩類または誘導体のような通常の応力減少剤が使用で
きる。
If a low stress plating layer is desired, conventional stress reducing agents such as sulfamic acid, its salts or derivatives can be used.

100g/lまでの濃度が適しているが、好1しい濃度
は25〜75g/1である。
Concentrations up to 100 g/l are suitable, but preferred concentrations are between 25 and 75 g/l.

次の実施例が本発明の利点をさらに十分に例証するに役
立つであろう。
The following examples will serve to more fully illustrate the advantages of the invention.

実施例 1 パラジウム電気メッキ浴は次のように調製される。Example 1 A palladium electroplating bath is prepared as follows.

成 分 濃度(g/l)EDTA.
20(NH4)2HP
O4s o Na2S03 28Pd,
Pd(NH3)2C12として 10第1種光沢
剤 0005→2第2種 1/
0.005→2浴の世は8.5〜9の間に
保持し、メッキは黄銅パネル上に温度120下(約48
.9℃)、電流密度5アンペア/平方フート(約0.5
5A./dm2)にて行なった。
Ingredients Concentration (g/l) EDTA.
20(NH4)2HP
O4s o Na2S03 28Pd,
As Pd(NH3)2C12 10 1st class brightener 0005→2 2nd class 1/
The temperature of the 0.005 → 2 bath was maintained between 8.5 and 9, and the plating was performed on the brass panel at a temperature of 120°C (approximately 48°C).
.. 9°C), current density 5 amps/sq ft (approximately 0.5
5A. /dm2).

光沢剤がどちらも不在の場合、僅かにかすみのかかった
メッキ層しか得られなかった。
In the absence of either brightener, only a slightly hazy plating layer was obtained.

使用した第1種光沢剤はメチレンービス(ナフタリン、
ナトリウム スルホン酸塩)であり、第2種光沢剤はベ
ンズアルデヒド−O−ナトリウム スルホン酸塩であっ
た。
The first class brightener used was methylene bis (naphthalene,
The second brightener was benzaldehyde-O-sodium sulfonate.

第1種光沢剤は最初に加えられ、2g/lまでの濃度で
はずっと効果がなかった。
The type 1 brightener was added first and was much less effective at concentrations up to 2 g/l.

2g/lの第1種光沢剤によって、半光沢性状の改良さ
れたメッキ層が第2光沢剤0.02g/lの共存で得ら
れ、かつ光沢メッキ層が0.37〜2.0g/lの間で
得られた。
With 2 g/l of the first type brightener, a plated layer with improved semi-gloss properties can be obtained with the coexistence of 0.02 g/l of the second brightener, and a bright plated layer with a brightness of 0.37 to 2.0 g/l obtained between.

類似した結果が、第2光沢剤として2−ブテンー1,4
−ジオールを使用するとき得られた。
Similar results were obtained using 2-butene-1,4 as the second brightener.
-obtained when using diols.

実施例 2 次のパラジウムメッキ浴は、次のとおりつくられた。Example 2 The next palladium plating bath was made as follows.

成 分 濃度(g/l)EDTA.
30Pd,Pd(NH
3)2Cl2として 10第1種光沢剤
0.05第2種光沢剤 0
.0005〜0.04実施例1の条件下にて、光沢メッ
キ層は再び両光沢剤を添加することによって得られた。
Ingredients Concentration (g/l) EDTA.
30Pd, Pd(NH
3) As 2Cl2 10 Class 1 brightener
0.05 2nd class brightener 0
.. 0005-0.04 Under the conditions of Example 1, a bright plated layer was again obtained by adding both brighteners.

第1種光沢剤は、実施例1の場合と同一物であったが、
第2種光沢剤は2−ブチンー1,4ジオールが使用され
た。
The first type brightener was the same as in Example 1, but
2-butyne-1,4 diol was used as the second type brightener.

類似した結果が、アリルスルホン酸塩とエトキシ化ブチ
ンジオールを2−ブチンー1,4−ジオールに置換えた
ときに得られた。
Similar results were obtained when allyl sulfonate and ethoxylated butyne diol were replaced with 2-butyne-1,4-diol.

実施例 3 別のパラジウムメッキ浴が次のように調製された。Example 3 Another palladium plating bath was prepared as follows.

成 分 濃度(g/l)EDTA
30(NH4)2HPO4
75Pd,Pd(NH3)2C
12として 10第1種光沢剤
0.05第2種tt 0.00
04〜0.05第1種光沢剤は実施例1の場合と同一で
、第2種光沢剤は2−ブテンー1,4−ジオールであっ
た。
Ingredients Concentration (g/l) EDTA
30(NH4)2HPO4
75Pd, Pd(NH3)2C
12 as 10 Class 1 brightener
0.05 2nd type tt 0.00
04-0.05 The first type brightener was the same as in Example 1, and the second type brightener was 2-butene-1,4-diol.

実施例1の条件下で、光沢メッキ層が得られたが、光沢
剤なしではかすみのあるメッキ層が得られた。
Under the conditions of Example 1, a bright plating layer was obtained, but without the brightener a hazy plating layer was obtained.

これ以上の実施例中で、ナトリウム ベンゼンスルホン
酸塩、ベンゼン スルファミドおよびフェノールスルホ
ン酸のような第1種光沢剤が使用され、一般に類似した
結果を生じた。
In further examples, Type 1 brighteners such as sodium benzene sulfonate, benzene sulfamide and phenolsulfonic acid were used with generally similar results.

前記実施例1,2および3において、EDTA.を加え
ないそれぞれのパラジウムメッキ浴についても、実験が
行なわれた。
In Examples 1, 2 and 3, EDTA. Experiments were also conducted on each palladium plating bath without the addition of .

EDTA.以外の成分および実験方法はそれぞれの実施
例と同じにした。
EDTA. Other components and experimental methods were the same as in each example.

これら実験の結果は、EDTA.を加えた前記実施例1
,2および3と同様に光沢メッキ層が得られた。
The results of these experiments are based on EDTA. The above Example 1 with the addition of
, 2 and 3, a bright plating layer was obtained.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 可溶性パラジウム塩としてのパラジウムの0.1〜
50g/lと、メチレンビス(ナフタリンナトリウム
スルホン酸塩)、ナトリウム ベンゼン スルホン酸塩
、ベンゼン スルホンアミド、およびフェノールースル
ホン酸からなる群から選ばれた第1種光沢剤の0.00
01〜25g/lと、ベンズアルデヒド−O−ナトリウ
ム スルホン酸塩、2ブチンー1,4−ジオール、2ブ
テンー1,4−ジオールおよびアリルスルホン酸塩から
なる群から選ばれた第2種有機光沢剤の0.0001〜
25g/lとから本質的になり、かつ4.5〜12のp
H値を示す安定な水性電気メッキ浴。 2 可溶性パラジウム塩としてのパラジウムの0.1〜
50g/lと、メチレンビス(ナフタリンナトリウム
スルホン酸塩)、ナトリウム ベンゼン スルホン酸塩
、ベンゼン スルホンアミド、およびフェノールースル
ホン酸からなる群から選ばれた第1種光沢剤の0.00
01〜25g/lと、ベンズアルデヒド−O−ナトリウ
ム スルホン酸塩、2ブチンー1,4−ジオール、2ブ
テンー1,4−ジオールおよびアリルスルホン酸塩から
なる群から選ばれた第2種有機光沢剤の0.0001〜
25g/lとから本質的になり、かつ4.5〜12のp
H値を示す安定な水性電気メッキ浴であって、浴中に、
5g/lから溶液の溶解限度量までの間存在するカルボ
ン酸またはリン酸キレート剤からなる群から選ばれた少
なくとも1種のキレート化剤または錯化剤が存在する電
気メッキ浴。 3 少なくとも1種の導電性塩または緩衝塩を含む特許
請求の範囲1に記載する電気メッキ浴。 4 可溶性パラジウム塩としてのパラジウムが塩化物、
臭化物、亜硝酸塩または亜硫酸塩錯化物から選ばれたア
ミン錯化物として2価の形で存在する特許請求の範囲1
に記載する電気メッキ浴。
[Claims] 1 Palladium as a soluble palladium salt from 0.1 to
50g/l and methylene bis(naphthalene sodium)
0.00 of a Class 1 brightener selected from the group consisting of sodium benzene sulfonate, benzene sulfonamide, and phenol-sulfonic acid.
01 to 25 g/l and a second type organic brightener selected from the group consisting of benzaldehyde-O-sodium sulfonate, 2-butyne-1,4-diol, 2-butene-1,4-diol and allylsulfonate. 0.0001~
consisting essentially of 25 g/l and between 4.5 and 12 p.
Stable aqueous electroplating bath with H value. 2 0.1~ of palladium as soluble palladium salt
50g/l and methylene bis(naphthalene sodium)
0.00 of a Class 1 brightener selected from the group consisting of sodium benzene sulfonate, benzene sulfonamide, and phenol-sulfonic acid.
01 to 25 g/l and a second type organic brightener selected from the group consisting of benzaldehyde-O-sodium sulfonate, 2-butyne-1,4-diol, 2-butene-1,4-diol and allylsulfonate. 0.0001~
consisting essentially of 25 g/l and between 4.5 and 12 p.
A stable aqueous electroplating bath exhibiting an H value, the bath containing:
An electroplating bath in which at least one chelating or complexing agent selected from the group consisting of carboxylic acid or phosphoric acid chelating agents is present between 5 g/l and the solubility limit of the solution. 3. An electroplating bath according to claim 1, comprising at least one conductive salt or buffer salt. 4 Palladium as a soluble palladium salt is chloride,
Claim 1 Present in divalent form as an amine complex selected from bromide, nitrite or sulfite complexes
The electroplating bath described in .
JP53115040A 1977-09-19 1978-09-19 Bright palladium electroplating bath Expired JPS586793B2 (en)

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JPS5467528A JPS5467528A (en) 1979-05-31
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