JPS5865739A - 安定化されたゴム組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、安定化されたゴム組成物、詳しくは、ゴムに
対して安定化量の特定のアルキルフェニルリン酸金属塩
を添加して成る安定化されたゴム組成物に関するもρで
ある。

ゴムは一般に加工時や実用時に熱、光、酸素、オゾン等
によシ劣化をうけ、色調悪化、機械特性の著しい低下が
見られる。斯る劣化を防ぐためにフェノール系、アミン
系、キノン系、ホスファイト系、サルファイド系等の種
々の安定化剤が使用されてきた。然しなから、その安定
化効果はいまだ業界を満足させるに十分ではなく、また
アミン系安定化剤では毒性上の問題が大きく、フェノー
ル系、サルファイド系安定化剤では金型汚染が著しい等
の問題点があった。

近年、アルキルホスフェート金属塩を金型汚染の改良剤
として使用することが提案された。

然し、汚染性の改善は見られるものの安定化効果は十分
なものではない。

本発明者等は、かかる現状に鑑み、長年鋭意検討を重ね
た結果、優れた安定化効果を有し、且つ機械特性及び電
気特性の著しく改善された安定化剤を見い出し、本発明
を完成したものである。

即ち、本発明は、次の一般式（１）、（１）又は〔１〕
で示されるアルキルフェニルリン酸金属塩化合物の少な
くとも１種を添加して成る安定化されたゴム組成物を提
供するものである。

（上式中、Ｒはアルキル基を示し、Ｍｌは■族金属を示
し、Ｍ２は厘族金属又はシアル中ル錫を示す。ｎは１又
は２の数を示す。ｍは１乃至５の数を示す。） 次に本発明を更に詳述する。

上記一般式（１）〜（１）中Ｒで示されるアルキル基と
しては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、ｔ＠ｒｔ−ブチル、５ｅｅ−ブチル
、ア電、ル、イソアイル、ネオペンチル、ヘキシル、２
−エチルヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル
、ノニル、デシル、イソデシル、ラウリル、シクロヘキ
シル等を例示できる。

また、上記一般式（１）〜〔璽〕中Ｍ１で示される！族
金属としては、Ｌｉ、Ｎａ、に等を例示でき、Ｍ２で示
される璽族金属としては、Ｂ・、　Ｍｇ　、　Ｃａ。

Ｓｒ　、　Ｂａ　、　Ｚｎ　、　Ｃｄ等を例示できる。

また、ジアルキル錫基の具体例としてはジメチル錫、ジ
メチル錫、ジオクチル錫等を例示できる。

次に、好適に使用できる上記一般式（１）−（１）で示
される本発明に係る化合物の具体例を挙げるならば、オ
クチルフェニルホスフェート・２に塩、ノニルフェニル
ホスフェート・２Ｎｍ塩、４−ｔ−ブチルフェニルホス
フェート−２Ｎｍ　塩、４−ｔ−ブチルフェニルホスフ
ェート・２に塩、４−ｔ−ブチルフェニルホスフェート
・２　Ｌｉ　塩、２−メチルフェニルホスフェート・ｘ
ｆｉ、ｓ−エチルフェニルホスフェート・ＬｉｔＪ［、
ｆ’シルフェニルホスフェート・に塩、４−ブチルフェ
ニルホスフェート・Ｉｌｌ、２−４−ブチルフェニル・
ＮａｔＪ［、−ビス（ａ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフ
ェート・Ｎａ塩、ヒス（４−ｔ−ブチルフェニル）ホス
フェート−に塩、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ホス
フェート・Ｌｌｆｉ、ビス（ノニルフェニル）ホスフェ
ート・に塩、ビス（４−アイルフェニル）ホスフェート
・Ｌｉ塩、ビス（メチルフェニル）ホスフェート・Ｎａ
塩、ビス（インデシルフェニル）ホスフェート・Ｎａ　
ｔＪ［、ビス（２゜６−ジーｔ−ブチルフェニル）ホス
フェート・に塩、ノニルフェニルホスフェート・Ｂａ塩
、ノニルフェニルホスフェート・ＺｎｔＪＬ　ノニルフ
ェニルホスフェート・ＣａｔＪ［、ノニル７エエルホス
フエート・ジプチル錫塩、２，６−ジーｔ−ブチルフェ
ニルホスフェ−）＠ＺｎｔＪ［，４−ｔ−ブチルフェニ
ルホスフェート・Ｃａ塩、４−ｔ−プ？ルフェニルホス
フエート・Ｂａ　塩、４−７　ｔルアｚニルホスフェー
ト・８ｒｔＪ［、４，−アミルフェニルホスフェート・
々塩、ビス（ノニルフェニル）ホスフェート・Ｚｎ塩％
　ビス（ノニルフェニル）ホスフェート・Ｃａ　塩ｓ　
ビス（ノニルフェニル）ホスフェート・Ｂａ塩、ビス（
２−ｔ−ブチルフェニル）ホスフェート・Ｓｒ塩、ビス
（エチルフェニル）ホスフェート・１３ｍ　塩、ビス（
２−メチルフェニル）ホスフェート・ジオクチル錫塩尋
である。

而して、上記一般式ＣＩ）−（１）で示される本発明に
係るアルキルフェニルリン酸金属塩化合物の使用量は、
ゴム１００重量部に対して０．００１〜５重量部、好ま
しく一〇、０１〜３重量部であるＯ 本発明に使用できるゴムとしては、例えば、インプレン
ゴム、ネオプレンゴム、クロロプレンゴム、ブタジェン
ゴム、ニトリルゴム、ブチルゴム、アクリルゴム、フッ
素ゴム、ウレタンゴム、多硫化ゴム、クロロスルホン化
ポリエチレンゴム、エピクロルヒドリンゴム、エチレン
ープ四ピレンゴム、スチレン−ブタジェンゴム、アクリ
ロニトリル−ブタジェンゴム、アクリロニトリル−スチ
レン−ブタジェンゴム、エチレン−プロピレン−ジエン
ゴム尋の合成ゴム類及び天然ゴムを例示することができ
る。

本発明のゴム組成物は、上記一般式〔口り厘〕で示され
る本発明に係る金属塩化合物の他に加硫剤、加硫促進剤
、加硫促進助削、公知の老化防止剤、硬化側、軟化剤、
補強剤、充填剤咎の配合剤を必簀に応じ適宜加え、ロー
ルミル、バンバリー５中す−、ニーダ−、インター電キ
サー等で混練し、加圧成形、押出成形、射出成形、カレ
ンダー成形等の公知の方法で加硫成形することができる
。

次に示す実施例は本発明のゴム組成物の安定化効果を示
すものであるが、本発明はこれらの実施例によって限定
されるものではない。

実施例１ 下記配合物をロール混練し、次いで１５０℃で１０分間
プレス加硫を行ない、厚さ１−のシートを作成した。こ
れを用いて試験用サンプルを作り、これを１２０℃で２
４０時間ギヤーオープン試験機中で熱老化させ良。老化
前の強度及び伸び率に対して、老化後の減少率を求めた
。

得られた結果を第１表に示す。

く配　合〉 ネオプレンゴム　　　　　　　　　　１００　重量部Ｈ
ＡＦカーメンブラック　　　　　　　　４０プロセス油
　　　　　　　　　　　　　　５亜鉛華　　　　　　　
　　　　　　　　５ステアリン酸　　　　　　　　　　
　　　　３硫黄　　　　　　　　１．５ ２−メルカプトベンゾチアゾール　　　　１．０試料（
第１表）　　　　　　　２・０ 第　　　１　　　表 実施例２ 下記配合物をロール混練し、次いで１ｓｏｃで２０分間
プレス加硫を行ない、厚さ１■のシートを作成し丸。こ
のシートをギヤーオープン試験機内で１２０℃で９６時
間熱老化させ、老化前及び老化後の抗張力及び伸びを測
定し、抗張力残率及び伸び残率を求゛めた。得られた結
果を第２表゛に示す。

〈配　合〉 スチレン−ブタジェンゴム　　　　　　１ｏｏ１ｉ１１
１ＢＨＡＦカーボンブラツク　　　　　　　　３゜タル
ク　　　　　　　　　　　　　　　　５゜亜鉛華　　　
　　　　　　　　　　　　　１°０プロセス油　　　　
　　　　　　　　　　５硫黄　　　　　　　　２．０ ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　　　１．０２
−ベンゾチアゾイルジスルフィド　　　　１．５試料（
第２表）１．０ 第　　　２Ｉ！ 実施例３ 次の配合物をロール混練し、次いで１６０℃で３０分間
プレス加硫を行ない、厚さ２−のシートを作成した。こ
のシートをギヤーオープン試験機内で１４０℃で１２０
時間熱老化させ、各々の抗張力残率及び伸び残率を求め
た。得られ九結果を第５表に示す。

〈配　合〉 エチレンープ党ピレンラバー　　　　　１００　ｇ置部
カオリンクレー　　　　　　　　　　　　　　５０シク
リルパーオキサイド　　　　　　　　　　２．５費黄　
　　　　　　　　０．０５ ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　　１．０試料
（第３表）１．０ ！ｌ！羅ガ４ 次の配合物をロール混練し、次いで１６０℃で３Ｉ１１
分間プレス加硫を行ない、厚さ２■のシートを作成した
。このシートをギヤーオープン試験機中で１３０℃で７
２時間熱老化させ、老化後の抗張力残本及び伸び残率を
求めた。得られた結果を第４表に示す。

〈配　合〉 アクリロニトリル−ブタジェンゴム　　　１００　　重
量部ＨＡＦカーボンブラック　　　　　　　　５０ＤＯ
Ｐ　　　　　　　　　　　　　　　　　　５亜鉛華　　
　　　　　　　　　　　　　　　　１．０ステアリン酸
　　　　　　　　　　　　　　１．０硫黄　　　　　　
　　１．０ 試料（第４＊）　　　　　　　　　２・０特許出願人 アデカ・アーガス化学株式会社 ３２７−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ゴムに次の一般式〔■〕、〔厘〕又は〔置〕で示される
   アル中ルフェニルリン酸金属塩化合物の少なくとも１種
   を添加して成る、安定化されたゴム組成物。 （上式中、Ｒはアルキル基を示し、Ｍｓｕ　Ｉ族金属を
   示・し、Ｍ２はｌ族金鵬又はシアル中ル錫を示す。 ｈは１又は２の数を示す。ｍは１乃至５の数を示す。）