JPS5860444A - 光熱磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
光熱磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5860444A JPS5860444A JP15918081A JP15918081A JPS5860444A JP S5860444 A JPS5860444 A JP S5860444A JP 15918081 A JP15918081 A JP 15918081A JP 15918081 A JP15918081 A JP 15918081A JP S5860444 A JPS5860444 A JP S5860444A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- gaseous
- magnetic
- sputtering
- pressure
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/16—Layers for recording by changing the magnetic properties, e.g. for Curie-point-writing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレーザー元等の光線により情報の記録および再
生を行なう元勲磁気記録媒体の製造方法、特にスパッタ
ー法により製膜する方法に関する。
生を行なう元勲磁気記録媒体の製造方法、特にスパッタ
ー法により製膜する方法に関する。
非晶質光熱磁気記録媒体の製膜は蒸漕法、スパッター法
が用いられている。このうちスパッター法においては基
板を設置した後できるかぎりの高真空度（す、下到達真
空度と言つ）、一般には１Ｏ−５Ｐａ台かそれ以下まで
排気し、次いでスパッターガスであるＡｒガスを１０
〜１０Ｐａ流し、主弁または可変コンダクタンス弁を操
作することにより１０−２〜１０Ｐａ の圧力にしＲＦ
電源またはＤＣ電源よりの電界を印加することにより放
電を起し、スパッター奢開始する。この過程においてで
きるかぎりの高真空に排気するには長時間かかり、また
、スパッターガスとして流すＡｒガスの純度は高純度の
ものを使用している。このことは、製膜中の雰囲気を出
来る限り清浄なものにし、不純物、例えば大気の成分で
あるＩ’ｔ＋ 、 Ｏｘ 、 ＨｗＯ等、の混入を防ぐ
ためである。
が用いられている。このうちスパッター法においては基
板を設置した後できるかぎりの高真空度（す、下到達真
空度と言つ）、一般には１Ｏ−５Ｐａ台かそれ以下まで
排気し、次いでスパッターガスであるＡｒガスを１０
〜１０Ｐａ流し、主弁または可変コンダクタンス弁を操
作することにより１０−２〜１０Ｐａ の圧力にしＲＦ
電源またはＤＣ電源よりの電界を印加することにより放
電を起し、スパッター奢開始する。この過程においてで
きるかぎりの高真空に排気するには長時間かかり、また
、スパッターガスとして流すＡｒガスの純度は高純度の
ものを使用している。このことは、製膜中の雰囲気を出
来る限り清浄なものにし、不純物、例えば大気の成分で
あるＩ’ｔ＋ 、 Ｏｘ 、 ＨｗＯ等、の混入を防ぐ
ためである。
しｅ
光熱磁気記録にはＭｓ４Ｂｉ 、 ＰｔＣｏ 、 Ｃｒ
ｏ！、ＴＪ、ｉ＋Ｏａ。
ｏ！、ＴＪ、ｉ＋Ｏａ。
Ｑｄ１Ｇ 、 ＧｄＣｏ 、 ＧｄＦｅ 、 ＴｂＦｅ
、 ＤｙＦｅ 、 ＧｄＴｂＦｅ等力報告されてイル
。コのうちＧｄＣｏ 、 ＧｄＦｅ 、 ’Ｉ”、ｂＦ
ｅ。
、 ＤｙＦｅ 、 ＧｄＴｂＦｅ等力報告されてイル
。コのうちＧｄＣｏ 、 ＧｄＦｅ 、 ’Ｉ”、ｂＦ
ｅ。
ＤｙＦｅ 、 ＧｄＴｂＦｅ等の非晶質光熱磁気記録媒
体は感度、読出し性能等で近年注目を集めている。しか
し、該非晶質光熱磁気記録媒体は耐腐食性に劣り、例え
ば真夏の高湿度の日に大気中に放置すると腐食してしま
い該記録媒体は非磁性体になるばかりでな（透明膜にな
り記録に使用することができなくなる。また、記録され
た信号は完全に消失してしまい再生にも使用することが
できな（なる。
体は感度、読出し性能等で近年注目を集めている。しか
し、該非晶質光熱磁気記録媒体は耐腐食性に劣り、例え
ば真夏の高湿度の日に大気中に放置すると腐食してしま
い該記録媒体は非磁性体になるばかりでな（透明膜にな
り記録に使用することができなくなる。また、記録され
た信号は完全に消失してしまい再生にも使用することが
できな（なる。
本発明の目的は、耐腐食性に優れた光熱磁気記録媒体を
製造する方法を提供することにある。
製造する方法を提供することにある。
本発明の更なる目的は、耐腐食性に優れた光熱磁気記録
媒体を簡易な手段で製造することが可能な方法を提供す
るこ ” ７とにある。
媒体を簡易な手段で製造することが可能な方法を提供す
るこ ” ７とにある。
本発明における光熱磁気記録媒体の製造方法においては
、スパッターガスとしてアルゴンガスだげでな（、窃素
ガスを所定の量だけ注入することにより上記目的を達成
せんとするものである。この窒素ガスの混入の割合を、
圧力比で０．５％〜１０チの間に制御することにより、
耐久力が優れ且つ磁気履歴特性も良好に出来る。尚、窒
素ガスの圧力比が０．５％より小さくなると耐久力がな
くなり、又１０％より大きくなると磁気履歴特性が悪化
して使用に耐えられなくなるものである。以下、本発明
に関して詳述する。
、スパッターガスとしてアルゴンガスだげでな（、窃素
ガスを所定の量だけ注入することにより上記目的を達成
せんとするものである。この窒素ガスの混入の割合を、
圧力比で０．５％〜１０チの間に制御することにより、
耐久力が優れ且つ磁気履歴特性も良好に出来る。尚、窒
素ガスの圧力比が０．５％より小さくなると耐久力がな
くなり、又１０％より大きくなると磁気履歴特性が悪化
して使用に耐えられなくなるものである。以下、本発明
に関して詳述する。
まず従来の製造方法で膜を製造した場合について述べる
。１３ａｔ％Ｔｂ、１３ａｔ％Ｇｄ残りＦｅよりなる直
径１００ｍｍΦのスパッターターゲットを用い到達真空
度１．５Ｘ１０ Ｐａまで真空排気した後製膜室へ３
Ｘ１０ Ｐａの７／ｌ／ゴン（Ａｒ ）ガス（純度９
９．９９９チ）を導入し、メインバルブを操作して２．
５Ｐａにして１５０ＷのＲＦｉ［力を加えて白板ガラス
基板上に厚さ約１００ＯＡの磁性膜を得た。この磁性膜
を膜の垂直方向に磁化した時の履歴曲線は第１図の様に
なり、履歴曲線としては角型性から良いことが分る。尚
、これは極力−効果を使って測定した。
。１３ａｔ％Ｔｂ、１３ａｔ％Ｇｄ残りＦｅよりなる直
径１００ｍｍΦのスパッターターゲットを用い到達真空
度１．５Ｘ１０ Ｐａまで真空排気した後製膜室へ３
Ｘ１０ Ｐａの７／ｌ／ゴン（Ａｒ ）ガス（純度９
９．９９９チ）を導入し、メインバルブを操作して２．
５Ｐａにして１５０ＷのＲＦｉ［力を加えて白板ガラス
基板上に厚さ約１００ＯＡの磁性膜を得た。この磁性膜
を膜の垂直方向に磁化した時の履歴曲線は第１図の様に
なり、履歴曲線としては角型性から良いことが分る。尚
、これは極力−効果を使って測定した。
５
この場合到達真空度１．５Ｘ１０ Ｐａでの残留ガス
分析を行なったところ穿素ガスはｌＸ１０Ｐａ以下であ
った。従ってスパッターの除のアルゴンガスに対する窒
素ガスの圧力比は０．０５１以下であった。
分析を行なったところ穿素ガスはｌＸ１０Ｐａ以下であ
った。従ってスパッターの除のアルゴンガスに対する窒
素ガスの圧力比は０．０５１以下であった。
この様にして得られた垂直磁化膜を温度４０℃。
湿層９８チの恒温、恒湿槽内に８時間放置した後の磁気
履歴曲線を第２図に示す。尚、第２図の縦軸のスケール
は、第１図に比して１００倍に取っである。第２図より
明らかな様に、磁気履歴特性は極端に悪化し、この時磁
性膜に照射した光束の８６チは、磁性膜を透過してしま
い、もはや光熱磁気記録媒体としての特性を失っている
。
履歴曲線を第２図に示す。尚、第２図の縦軸のスケール
は、第１図に比して１００倍に取っである。第２図より
明らかな様に、磁気履歴特性は極端に悪化し、この時磁
性膜に照射した光束の８６チは、磁性膜を透過してしま
い、もはや光熱磁気記録媒体としての特性を失っている
。
次に本発明の製造方法の第１実施例について述べるｏ
１３ ａ ｔ ％’ｌ’ｂ 、１３ ａ ｔ ％Ｇ’
＋ 残りカＦＣより成同時に窒素ガスをアルゴンガス
に対してその圧力比が１６０チ（ろＸ１Ｑ−”Ｐａ ）
の割で製膜室へ導入した。メインバルブを操作して２−
５Ｐａにして１５０ＷのＲＦｆｉ力を加えて、白板ガラ
ス基板上に厚さ約１００ＯＡの磁性膜を得た。これによ
り得られた磁性膜の極力−効果による履歴曲線を第６図
に示す。
１３ ａ ｔ ％’ｌ’ｂ 、１３ ａ ｔ ％Ｇ’
＋ 残りカＦＣより成同時に窒素ガスをアルゴンガス
に対してその圧力比が１６０チ（ろＸ１Ｑ−”Ｐａ ）
の割で製膜室へ導入した。メインバルブを操作して２−
５Ｐａにして１５０ＷのＲＦｆｉ力を加えて、白板ガラ
ス基板上に厚さ約１００ＯＡの磁性膜を得た。これによ
り得られた磁性膜の極力−効果による履歴曲線を第６図
に示す。
この膜を、上述した従来例により得られた膜と同じ様に
、温度４０℃、湿度９８チの恒温恒湿槽内に８時間放置
した後の磁性膜の履歴特性曲線を第４図に示す。第４図
の曲線は第６図に示される曲線に比して、第３象限の履
歴曲線の肩がわずかに緩やかになっているだけであり、
耐腐食性が従来のものに比して格段に向上していること
が分る。
、温度４０℃、湿度９８チの恒温恒湿槽内に８時間放置
した後の磁性膜の履歴特性曲線を第４図に示す。第４図
の曲線は第６図に示される曲線に比して、第３象限の履
歴曲線の肩がわずかに緩やかになっているだけであり、
耐腐食性が従来のものに比して格段に向上していること
が分る。
尚、この時の磁気膜の光透過率は約２チであった。
次に本発明の製造方法の第２実施例について述べる。製
膜条件は、スパッターガスの組成を圧力比８ ％ （２
，４ｘ１０ Ｐａ ）の窒素ガスを含有したアルゴン
ガスを用いた他は第１実施例の場合と全く同じである。
膜条件は、スパッターガスの組成を圧力比８ ％ （２
，４ｘ１０ Ｐａ ）の窒素ガスを含有したアルゴン
ガスを用いた他は第１実施例の場合と全く同じである。
この時に得られた磁性膜の極力効果による履歴曲線は第
５図の如（である。履歴曲線の角型性は第１実施例に比
しては多少悪くなっている。この膜を第１実施例と同じ
条件の恒温恒湿槽に入れ２４時間後に取出して測定した
履歴曲線を第６図に示す。これは第５図と較べ、はとん
ど変化していない。即ち、耐食性に関しては、第１実施
例より向上している。この時磁気膜の光透過率は約１％
である。
５図の如（である。履歴曲線の角型性は第１実施例に比
しては多少悪くなっている。この膜を第１実施例と同じ
条件の恒温恒湿槽に入れ２４時間後に取出して測定した
履歴曲線を第６図に示す。これは第５図と較べ、はとん
ど変化していない。即ち、耐食性に関しては、第１実施
例より向上している。この時磁気膜の光透過率は約１％
である。
第７図に示す履歴曲線は、製膜の際のスパッターガスを
、圧力比１２ ％ （３，６Ｘ１０−”Ｐａ ） ｃｒ
）窒素ガスを混合したアルゴンガスを用いた外は、前記
第１実施例に示す条件と同じ条件の下で作成した磁気膜
の特性を示す。第７図に示す如く、この時に得られる磁
気膜は、光熱磁気記録用には適当でないことが明らかで
ある。
、圧力比１２ ％ （３，６Ｘ１０−”Ｐａ ） ｃｒ
）窒素ガスを混合したアルゴンガスを用いた外は、前記
第１実施例に示す条件と同じ条件の下で作成した磁気膜
の特性を示す。第７図に示す如く、この時に得られる磁
気膜は、光熱磁気記録用には適当でないことが明らかで
ある。
Ａｎｇｅｒ ｅｌｅｃｔｋｏｎ ５ｐｅｃｔｒｏｓｃｏ
ｐｙ法により、本発明に係る膜では、窒素の存在が確認
されており、製膜の際の窒素ガスの存在が、光熱磁気記
録媒体の向１食性を向上させるものと考えられる。
ｐｙ法により、本発明に係る膜では、窒素の存在が確認
されており、製膜の際の窒素ガスの存在が、光熱磁気記
録媒体の向１食性を向上させるものと考えられる。
先回面の簡単な１ｆｉ２明
第１図は従来の製造方法により得られた光熱４１ｉ気記
録媒体の磁気履歴曲線を示す図、第２図は第１図に示す
特性を壱する光熱磁気記録媒体の腐食試験後の（み気履
歴曲線を示す図、第６図は本発明の製造方法の第１実施
例により得られた光熱磁気記録媒体の磁気履歴曲線を示
す図、第４図は第１実施例の製造方法により得られた記
録媒体の腐食試験後の磁気履歴曲線を示す図、第５図は
本発明の製造方法の第２実施例により得られた光熱磁気
記録媒体の磁気履歴曲線を示す図、第６図は第２実施例
の製造方法により得られた記録媒体の腐食試験後の磁気
履歴曲線を示す図、第７図は圧力比１２％の窒素ガスを
混入したアルゴンガスの下で得られた光熱磁気記録媒体
の磁気履歴曲線を示す図。
録媒体の磁気履歴曲線を示す図、第２図は第１図に示す
特性を壱する光熱磁気記録媒体の腐食試験後の（み気履
歴曲線を示す図、第６図は本発明の製造方法の第１実施
例により得られた光熱磁気記録媒体の磁気履歴曲線を示
す図、第４図は第１実施例の製造方法により得られた記
録媒体の腐食試験後の磁気履歴曲線を示す図、第５図は
本発明の製造方法の第２実施例により得られた光熱磁気
記録媒体の磁気履歴曲線を示す図、第６図は第２実施例
の製造方法により得られた記録媒体の腐食試験後の磁気
履歴曲線を示す図、第７図は圧力比１２％の窒素ガスを
混入したアルゴンガスの下で得られた光熱磁気記録媒体
の磁気履歴曲線を示す図。
Claims (1)
- （１）光熱磁気記録媒体をスノ（ツタ−法により製造す
る方法において、スパッターの際に用いられるガスはア
ルゴンと窒素の混合されたもので、窒素ガスの圧力比が
０．５ ％から１０チの間に存する事を特徴とする光熱
磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15918081A JPS5860444A (ja) | 1981-10-06 | 1981-10-06 | 光熱磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15918081A JPS5860444A (ja) | 1981-10-06 | 1981-10-06 | 光熱磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5860444A true JPS5860444A (ja) | 1983-04-09 |
Family
ID=15688043
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15918081A Pending JPS5860444A (ja) | 1981-10-06 | 1981-10-06 | 光熱磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5860444A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61104446A (ja) * | 1984-10-26 | 1986-05-22 | Nec Corp | 光磁気記録媒体 |
| JPS61144743A (ja) * | 1984-12-18 | 1986-07-02 | Nec Corp | 光磁気記録媒体及びその製造方法 |
-
1981
- 1981-10-06 JP JP15918081A patent/JPS5860444A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61104446A (ja) * | 1984-10-26 | 1986-05-22 | Nec Corp | 光磁気記録媒体 |
| JPS61144743A (ja) * | 1984-12-18 | 1986-07-02 | Nec Corp | 光磁気記録媒体及びその製造方法 |
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