JPS5854628B2 - 硫化水素含有廃液の処理法 - Google Patents
硫化水素含有廃液の処理法Info
- Publication number
- JPS5854628B2 JPS5854628B2 JP14410579A JP14410579A JPS5854628B2 JP S5854628 B2 JPS5854628 B2 JP S5854628B2 JP 14410579 A JP14410579 A JP 14410579A JP 14410579 A JP14410579 A JP 14410579A JP S5854628 B2 JPS5854628 B2 JP S5854628B2
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- Japan
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- hydrogen sulfide
- waste liquid
- tank
- liquid
- neutralization tank
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、硫化水素を含有するガスを、苛性ソーダ水溶
液で吸収洗浄する工程より排出される廃液の処理法に関
する。
液で吸収洗浄する工程より排出される廃液の処理法に関
する。
石油化学、無機化学倒れの化学工業においても反応、蒸
留分解等の工程より、不純物として、硫化水素を含有す
るガスが発生する。
留分解等の工程より、不純物として、硫化水素を含有す
るガスが発生する。
硫化水素を含有するガスを、無処理で大気に放出するこ
とは、公害問題を引き起こす原因となり又、硫化水素を
微量含有するガスを原料とし化学反応させると、硫化水
素の化学活性のため、化学反応に用いる触媒が被毒した
りして正常な反応が行われないことがある。
とは、公害問題を引き起こす原因となり又、硫化水素を
微量含有するガスを原料とし化学反応させると、硫化水
素の化学活性のため、化学反応に用いる触媒が被毒した
りして正常な反応が行われないことがある。
硫化水素含有ガスから、硫化水素を除去する手段として
は、一般的には、硫化水素を含有するガスを５〜２５％
濃度の苛性ソーダ水溶液で吸収洗浄する方法を採用し、
苛性ソーダ濃度が１〜４％迄に低下する使用し廃棄され
る。
は、一般的には、硫化水素を含有するガスを５〜２５％
濃度の苛性ソーダ水溶液で吸収洗浄する方法を採用し、
苛性ソーダ濃度が１〜４％迄に低下する使用し廃棄され
る。
この廃液は、水硫化ソーダを主成分とし、硫化ソーダ、
多硫化ソーダ、炭酸ソーダ、重炭酸ソーダ等の無機物及
び被洗浄ガスの種類によっては、有機物も含有し、さら
にその液のｐＨは１１〜１４であるのでこの廃液を無処
理で放流すると、鉱酸、有機酸等の酸性物質と反応して
、硫化水素を発生したり公害防止上好ましくなく、予め
廃吸収液を鉱酸等で中和処理し、硫化水素を回収した後
硫酸ソーダ或は塩化ナトリウム等の無害な水溶液にして
放流されている。
多硫化ソーダ、炭酸ソーダ、重炭酸ソーダ等の無機物及
び被洗浄ガスの種類によっては、有機物も含有し、さら
にその液のｐＨは１１〜１４であるのでこの廃液を無処
理で放流すると、鉱酸、有機酸等の酸性物質と反応して
、硫化水素を発生したり公害防止上好ましくなく、予め
廃吸収液を鉱酸等で中和処理し、硫化水素を回収した後
硫酸ソーダ或は塩化ナトリウム等の無害な水溶液にして
放流されている。
また、この廃液を鉱酸によって中和処理する際にガス状
の硫化水素が発生するが、この硫化水素は一般にメルカ
プタン類や硫酸等の原料として利用されている。
の硫化水素が発生するが、この硫化水素は一般にメルカ
プタン類や硫酸等の原料として利用されている。
しかしながら、例えば硫酸を用いてこの廃液の中和処理
を行う際、硫酸ソーダの他に硫黄を主成分とする灰黄色
の固形物が副生し、この固形物は粘着凝集性を有するた
めに、中和槽々壁、攪拌機、液抜き出しノズル等の装置
に付着し、工業的処理操作を困難にする欠点がある。
を行う際、硫酸ソーダの他に硫黄を主成分とする灰黄色
の固形物が副生し、この固形物は粘着凝集性を有するた
めに、中和槽々壁、攪拌機、液抜き出しノズル等の装置
に付着し、工業的処理操作を困難にする欠点がある。
この解決法として中和処理時ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素を２〜２０％存在させ、生成し
た硫黄を溶解状態とじ器壁への付着を防止するという提
案がある。
レン等の芳香族炭化水素を２〜２０％存在させ、生成し
た硫黄を溶解状態とじ器壁への付着を防止するという提
案がある。
（特開昭５２−５２８７２号）
しかし、これは、多量の芳香族系炭化水素を使用して中
和処理を行った後さらに油水分離槽により油と水とを分
離する必要があり、更には低沸点芳香族系炭化水素を用
いた場合、硫化水素との冷却分離装置等を設ける必要が
ある。
和処理を行った後さらに油水分離槽により油と水とを分
離する必要があり、更には低沸点芳香族系炭化水素を用
いた場合、硫化水素との冷却分離装置等を設ける必要が
ある。
本発明は、これらの欠点を解消したもので、その廃液の
中和反応系に水に難溶性の高級アルコールの存在下、且
つ上下循環流を中和槽内での主たる攪拌フローパターン
とさせることを特徴とする。
中和反応系に水に難溶性の高級アルコールの存在下、且
つ上下循環流を中和槽内での主たる攪拌フローパターン
とさせることを特徴とする。
以下本発明を酸として硫酸を用いた場合についてさらに
詳細に説明する。
詳細に説明する。
廃液に硫酸を添加すると、硫化水素を主成分とし二酸化
炭素及び被洗浄ガスに起因する低沸点成分を含む混合ガ
スが発生し、液中には硫酸ソーダ等が生成する。
炭素及び被洗浄ガスに起因する低沸点成分を含む混合ガ
スが発生し、液中には硫酸ソーダ等が生成する。
水難冶性高級アルコールの添加量は中和槽内に飽和溶解
度の半分でもその効果は充分発現する。
度の半分でもその効果は充分発現する。
又飽和溶解度以上の過剰量が分散筒の形で存在しても良
いが、存在効果及び経済性の点から廃液に対し０．００
５〜２％が好ましい。
いが、存在効果及び経済性の点から廃液に対し０．００
５〜２％が好ましい。
本発明においては高級アルコールを廃液中に存在させる
が硫黄の生成を抑制し、硫黄が器壁、ノズル等へ付着す
るのを防止する。
が硫黄の生成を抑制し、硫黄が器壁、ノズル等へ付着す
るのを防止する。
中和槽の温度は室温以下であると、硫黄の凝集付着が進
む傾向があるので温度３０℃以上が望ましいが中和熱に
よって通常３０〜５０℃に上昇するため特に、加温装置
は一般的に必要ではない。
む傾向があるので温度３０℃以上が望ましいが中和熱に
よって通常３０〜５０℃に上昇するため特に、加温装置
は一般的に必要ではない。
本発明において、中和槽内で高級アルコールを均一に拡
散させる為攪拌が必要であって、その攪拌はポンプによ
る液の循環噴射によるにより上下循環流を形成させるこ
とが重要である。
散させる為攪拌が必要であって、その攪拌はポンプによ
る液の循環噴射によるにより上下循環流を形成させるこ
とが重要である。
攪拌方式としては一般に用いられるプロペラタービン、
ファウドラー等のタイプのものは、上下循環流のみなら
ず円周方向の流れが激しいため器壁への付着を生じ、操
作の停止を余義なくさせられるので好ましくない。
ファウドラー等のタイプのものは、上下循環流のみなら
ず円周方向の流れが激しいため器壁への付着を生じ、操
作の停止を余義なくさせられるので好ましくない。
添加する硫酸の濃度は、中和槽内に生成した硫酸ソーダ
等無機塩類が廖解しうる水が存在する様に５〜５０％の
範囲で任意に選択することができる。
等無機塩類が廖解しうる水が存在する様に５〜５０％の
範囲で任意に選択することができる。
硫酸の添加量は硫化水素を解離するｐＨが４付近である
ことから、中和槽内のｐＨが４以下になる様にすれば良
い。
ことから、中和槽内のｐＨが４以下になる様にすれば良
い。
中和槽に存在させる高級アルコールは、水に難溶性であ
れば良く、例えば水に対する溶解度が常温で０．０１〜
０．６％で炭素数６〜１０の直鎖或は分枝の１価アルコ
ールが好ましく更に具体例としてはｎ−ヘキサノール、
ｎ−オクタツール、２エチルヘキサノール、ｎ−デカノ
ール等があげられる。
れば良く、例えば水に対する溶解度が常温で０．０１〜
０．６％で炭素数６〜１０の直鎖或は分枝の１価アルコ
ールが好ましく更に具体例としてはｎ−ヘキサノール、
ｎ−オクタツール、２エチルヘキサノール、ｎ−デカノ
ール等があげられる。
これらの高級アルコールは、中和槽に単独若しくは二種
類以上併用させることができ、本発明の効果を妨げられ
るものではない。
類以上併用させることができ、本発明の効果を妨げられ
るものではない。
高級アルコールの添加方法として中和に用いる硫酸水溶
液中に含有させた状態で添加しても、又は単独に中和槽
内に添加しても差支えはない。
液中に含有させた状態で添加しても、又は単独に中和槽
内に添加しても差支えはない。
噴射方向は上向き下向き何れの方法をも採用可能であり
噴射位置は槽内の液相部であれば任意に選択出来る。
噴射位置は槽内の液相部であれば任意に選択出来る。
噴射量は中和槽内液量を１〜２０分で循環させる量が好
ましい。
ましい。
次に本発明の実施例を図面にそって説明する。
廃液は供給管１から中和槽３に連続的に供給される。
また、高級アルコールを含有した硫酸が、ｐＨ計４の値
を４以下に維持するように硫酸供給管２から中和槽３に
供給される。
を４以下に維持するように硫酸供給管２から中和槽３に
供給される。
中和槽３において廃液は硫酸によって中和されると硫化
水素ガスや二酸化炭素ガスを生成する。
水素ガスや二酸化炭素ガスを生成する。
これらのガスはミストセパレーター７でガスに同伴した
飛沫を除去した後硫化水素貯槽８へ送られる。
飛沫を除去した後硫化水素貯槽８へ送られる。
中和槽３内の中和液は、ポンプ５によって循環させポン
プ５の吐出液は中和槽３の中央部に噴射させ、液面調節
弁６によって中和槽内の液面を一定に維持するように、
中和液が抜き出される。
プ５の吐出液は中和槽３の中央部に噴射させ、液面調節
弁６によって中和槽内の液面を一定に維持するように、
中和液が抜き出される。
中和液は中和槽３と均圧管９で結ばれた脱気槽１０へ送
られ残存ガスを除去した後、通常の排水処理設備１１に
送られる。
られ残存ガスを除去した後、通常の排水処理設備１１に
送られる。
以上説明したように本発明は、硫化水素含有ガスをアル
カリ水溶液で処理する工程より排出される廃液を酸で処
理して硫化水素を回収する際に高級アルコールの存在下
、中和槽内で液を上下循環流を生成させることにより硫
化水素含有廃液から硫化水素を回収すると共に、中和処
理をトラブルなく、しかも、複雑な装置を使用すること
ない工業的に有利な、硫化水素の含有廃液の処理法であ
る。
カリ水溶液で処理する工程より排出される廃液を酸で処
理して硫化水素を回収する際に高級アルコールの存在下
、中和槽内で液を上下循環流を生成させることにより硫
化水素含有廃液から硫化水素を回収すると共に、中和処
理をトラブルなく、しかも、複雑な装置を使用すること
ない工業的に有利な、硫化水素の含有廃液の処理法であ
る。
なお明細書記載の％はいずれも重量基準で示した。
実施例 ｌ
Ｎａ５Ｈ９，１％ｚ Ｎａ２ Ｓ Ｏ，８％ｓ Ｎａ２
Ｃｏ３ｏ、 ５％。
Ｃｏ３ｏ、 ５％。
ＮａＨＣｏｓｏ、１％、ＮａＯＨ２，９％その他微量の
多硫化物及び有機化合物を含む硫化水素含有ガス洗浄工
程より排出された廃液を２４ｋｇ／Ｈ，０，１％の２−
エチルヘキサノールを含有する１５％の硫酸を中和槽内
のｐ）１が３．５になる様調節しつつ連続的に供給し、
中和槽内の液量が、その全容量の５０％を維持する様抜
き出し液量を調節した。
多硫化物及び有機化合物を含む硫化水素含有ガス洗浄工
程より排出された廃液を２４ｋｇ／Ｈ，０，１％の２−
エチルヘキサノールを含有する１５％の硫酸を中和槽内
のｐ）１が３．５になる様調節しつつ連続的に供給し、
中和槽内の液量が、その全容量の５０％を維持する様抜
き出し液量を調節した。
ポンプによる噴射攪拌量を下向き１０１／分とした。
その時の全液量基準の槽内滞留時間は３０分、中和槽内
温度４２℃であった。
温度４２℃であった。
１２０時間連続操作を行い硫化水素が、１．３８ｋｇ／
Ｈ発生した。
Ｈ発生した。
運転停止後中和槽内ポンプ等を点検したが、粘着性固形
物は、はとんど認められず良好であった。
物は、はとんど認められず良好であった。
比較例 ｌ
Ｎａ５Ｈ９，１％、 Ｎａ２Ｓ Ｏ，８％、 Ｎａ２
Ｃｏ３０．５％。
Ｃｏ３０．５％。
ＮａＨＣｏ３０．１％、ＮａＯＨ２，９％その他微量の
多硫化物及び有機化合物を含む硫化水素含有ガス洗浄工
程より排出された廃吸収液を２４ ｋｇ／Ｈ及び５０％
の硫酸を中和槽のｐＨが３．５になる様調節しつつ連続
的供給し中和槽内の液量が、その全容量の５０％を維持
する様抜き出し液量を調節した。
多硫化物及び有機化合物を含む硫化水素含有ガス洗浄工
程より排出された廃吸収液を２４ ｋｇ／Ｈ及び５０％
の硫酸を中和槽のｐＨが３．５になる様調節しつつ連続
的供給し中和槽内の液量が、その全容量の５０％を維持
する様抜き出し液量を調節した。
ポンプによる噴射攪拌量を下向１０１／分とした。
その時の全肢量基準の部内滞留時間は３０分中和槽内温
度は４８℃であった。
度は４８℃であった。
１２０時間連続操作を行い硫化水素が１．２５驕／Ｈ発
生した。
生した。
運転停止後、中和槽内を点検した結果灰黄色で粘着性固
形物が含水状態で４５０．９、槽壁及びノズルに付着し
ていた。
形物が含水状態で４５０．９、槽壁及びノズルに付着し
ていた。
比較例 ２
ＮａＳＨ９，１％、 Ｎａ２ Ｓ Ｏ，８％、 Ｎａ２
Ｃｏ３ｏ、 ５％。
Ｃｏ３ｏ、 ５％。
Ｎａ）（Ｃｏ３０．１％、 ＮａＯＨ２，９％その他微
量の多硫化物及び有機化合物を含む硫化水素含有ガス洗
浄工程より排出された廃吸収液を２４ｋｇ／Ｈ，０，１
％の２−エチルヘキサノールを含有する１５ｗｔ％の硫
酸を中和槽内のｐＨが３．５になる様調節しつつ連続的
に供給し中和槽内の液量が、その全容量の５０％を維持
する様抜き出し液量を調節した。
量の多硫化物及び有機化合物を含む硫化水素含有ガス洗
浄工程より排出された廃吸収液を２４ｋｇ／Ｈ，０，１
％の２−エチルヘキサノールを含有する１５ｗｔ％の硫
酸を中和槽内のｐＨが３．５になる様調節しつつ連続的
に供給し中和槽内の液量が、その全容量の５０％を維持
する様抜き出し液量を調節した。
中和槽はファウドラータイプの攪拌機が備えてあり、中
和槽内の攪拌レイノル数は１５，０００であった。
和槽内の攪拌レイノル数は１５，０００であった。
その時の全液量基準の槽内滞留時間３０分、中和槽内温
度４０弘硫化水素が１．３５ ｋｙ／Ｈ発生した７０Ｈ
ｒ運転したところ、液の抜き出しが困難になったので操
作を停止し槽内を点検した。
度４０弘硫化水素が１．３５ ｋｙ／Ｈ発生した７０Ｈ
ｒ運転したところ、液の抜き出しが困難になったので操
作を停止し槽内を点検した。
その結果槽壁及びノズルに灰黄色で粘着性固形物が、含
水状態で７８０ｇ付着していた。
水状態で７８０ｇ付着していた。
図面は本発明の実施例の工程１図である。
付号、１・・・・・・廃液供給管、２・・・・・・硫酸
供給管、３・・・・・・中和槽、４・・・・・・ｐＨ計
、５・・・・・・ポンプ、６・・・・・・液面調節弁、
７・・・・・・ミストセパレーク−１８・・・・・・硫
化水素貯槽、９・・・・・・均圧管、１０・・・・・・
脱気槽、１１・・・・・・廃水処理設備。
供給管、３・・・・・・中和槽、４・・・・・・ｐＨ計
、５・・・・・・ポンプ、６・・・・・・液面調節弁、
７・・・・・・ミストセパレーク−１８・・・・・・硫
化水素貯槽、９・・・・・・均圧管、１０・・・・・・
脱気槽、１１・・・・・・廃水処理設備。
Claims (1)
- １ 硫化水素含有ガスをアルカリ水溶液で処理する工程
から排出される廃液を酸で中和し硫化水素を回収する際
に、中和槽内の前記廃液に水難溶性の高級アルコールを
存在させると共にその槽内の廃液に上下循環流を生成さ
せて攪拌することを特徴とする硫化水素含有廃液の処理
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14410579A JPS5854628B2 (ja) | 1979-11-07 | 1979-11-07 | 硫化水素含有廃液の処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14410579A JPS5854628B2 (ja) | 1979-11-07 | 1979-11-07 | 硫化水素含有廃液の処理法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5667578A JPS5667578A (en) | 1981-06-06 |
| JPS5854628B2 true JPS5854628B2 (ja) | 1983-12-06 |
Family
ID=15354294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14410579A Expired JPS5854628B2 (ja) | 1979-11-07 | 1979-11-07 | 硫化水素含有廃液の処理法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5854628B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI638197B (zh) * | 2016-12-29 | 2018-10-11 | 玉晶光電股份有限公司 | 光學鏡片組 |
-
1979
- 1979-11-07 JP JP14410579A patent/JPS5854628B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI638197B (zh) * | 2016-12-29 | 2018-10-11 | 玉晶光電股份有限公司 | 光學鏡片組 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5667578A (en) | 1981-06-06 |
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