JPS585379B2 - ジヨウチヤクソクドソクテイソウチ - Google Patents

ジヨウチヤクソクドソクテイソウチ

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Publication number
JPS585379B2
JPS585379B2 JP12334874A JP12334874A JPS585379B2 JP S585379 B2 JPS585379 B2 JP S585379B2 JP 12334874 A JP12334874 A JP 12334874A JP 12334874 A JP12334874 A JP 12334874A JP S585379 B2 JPS585379 B2 JP S585379B2
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JP
Japan
Prior art keywords
evaporation
metal plate
voltage
particles
electrons
Prior art date
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Expired
Application number
JP12334874A
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English (en)
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JPS5149785A (ja
Inventor
樽谷良信
渡辺武彦
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5149785A publication Critical patent/JPS5149785A/ja
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  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 蒸着膜製造中に蒸着速度測定ができれば、瞬時における
膜厚を知ることができるので、一定の厚さの膜を製造で
きる。
また、蒸着速度の制御が可能であれば、一元の蒸着膜だ
けでなく、再現性のある組成の多元蒸着膜の製造が可能
になる。
この発明は、蒸着速度測定を行う装置に関するものであ
る。
従来性なわれている方法の一つとして、水晶振動子を用
いる方法がある。
これは水晶振動子の電極部分に付着する蒸発物質の重量
が、発振周波数の変化分に比例する原理を利用したもの
である。
蒸着速度は、この周波数変化分を回路的に微分すること
により求まる。
この方法の問題点として、直接測定量が蒸着量であるこ
と、正常な動作を行うには、水晶振動子への蒸着量が限
られているため、ある一定量蒸着すれば、振動子の取り
変えを要すること、また発振周波数は温度依存性が大き
いので、水冷して室温付近の一定温度に保たなければな
らないこと、高触点材料を蒸着する場合は、蒸発源から
の熱幅射を受けるなどの高温雰囲気のため水晶振動子が
動作困難(水晶振動子の可能動作温度は400℃以下で
ある。
)となること、などがある。
また、水晶振動子に、電子や、イオン化された粒子が付
着すると、動作が不可能になることである。
そのため、電子ビーム銃による蒸着、イオンビーム蒸着
、イオンブレーティングなどの高温で、電子、イオンを
扱う蒸発源には何らかの手段をこおしなければならない
したがって、本発明の目的は、測定量が蒸着速度を示し
、高温雰囲気中でも使用可能であり、温度依存性がなく
、電子、イオンを扱う蒸発源に使用できるような蒸着速
度測定装置を提供することである。
本発明の蒸着速度測定装置を電子ビーム銃に応用した装
置を第1図に示す。
この装置の原理を述べる。
電子ビーム銃のヒータ1から熱放射によって発生した電
子は、印加されている磁界により電子ビームとなって蒸
発源2にぶつかる。
このとき電子の運動エネルギーは蒸発源2の熱エネルギ
ーに変換する。
蒸発源2が、蒸気圧で1O−2Torrに相当する温度
、またはそれ以上の温度になれば、蒸発を始めることに
なる。
この蒸発粒子の中のある割合の粒子は電子ビームと衝突
する。
電子と衝突した蒸発粒子は、電子からエネルギーを与え
られ、プラスにイオン化する。
ここで、電子ビーム銃の構造、蒸発源2が同じものであ
り、電子の加速電圧が一定であれば、蒸発粒子中のイオ
ン化される粒子の割合は一定である。
したがって、単位時間当りの蒸発量(蒸着速度)と単位
時間当りにイオン化される粒子数(イオン電流)は一対
一に対応する。
蒸発粒子が飛来する位置に負電位をかけた金属板3を置
けば、プラスイオン粒子が金属板3に捕獲される。
このプラスイオン粒子による電流は、標準抵抗器4を通
ることにより、電圧Voとして記録される。
ここで、プラスイオン粒子のみによる電流がほしいので
あるから、金属板3では電子を集電しないことが必要に
なってくる。
そこで、金属板3に飛んでくる電子を散乱するために、
金属板3と平行に均一磁界を加える方法を用いた。
例えば金属板から1cm1の範囲に3500e程度の磁
界Hを加えることにより、10KeV以下のエネルギー
の電子Eは軌道を大きく曲げられ、金属板3に到達する
ことなしに散乱されてしまうが、プラスのイオン粒子■
は質量が大きいので、わずかに軌道が曲げられる程度で
金属板3に到達する。
金属板3に対して、平行な均一磁界を加えたときのプラ
スイオン粒子と電子の経路を第2図に示した。
以下本発明を実施例にもとづいて説明する。
実施例 電子ビーム銃は加速電圧10KVのものを使用した。
イオン粒子を捕獲する金属板3には50×40X2mm
の銅板を使用した。
銅板の生地のままでは、蒸着膜がはげやすかったので、
やすりなどで表面を凸凹にした。
負電位をかけるためり、C。O〜100Vの定電圧電源
を使用した。
標準抵抗器4には、100Ωの標準抵抗器を用いた。
金属板3と平行に磁界を加える装置として、空隙の中心
で4000eの永久磁石を用いた。
蒸発源をNbとし、金属板3の前面に磁界Hを加えない
ときの、イオン電流により標準抵抗器4に現れる電圧の
変化を第3図に示す。
縦軸は標準抵抗器4に現われる電圧Vい横軸は、真空度
が1O−5Iorrより悪くならないようにエミッショ
ン電流を除々にあげていくときの、時間経過をとった。
加速電圧を10KVとしたとき、エミッション電流が約
150mA(点6)で負の電圧が現われ始め、約200
mA(点7)で負の電圧が最大となった。
約250mAで、蒸発源からの蒸発が始まる。
その後、エミッション電流を増加させ、350mA(点
8)に固定して電圧の変化を測定した。
負の電圧の現われる原因は、金属板3で電子が捕獲され
るためである。
約10KeVのエネルギーを持っている電子から見れば
、通常扱いやすい負電位をかけた金属板3から発生する
負の電位はほとんど無視できる。
従って、Nb蒸発中においては、プラスイオン粒子によ
る電流と、電子による電流との差に相当する電圧が測定
されることになる。
金属板3に磁界を加えたときの電圧の変化を第4図に示
す。
縦軸、横軸は第3図と同じである。金属板と平行に40
00eの磁界を加えることにより、電子流による負の電
圧がでなくなることが実証できた。
エミッション電流が350mAのとき、金属板に磁界を
加えない場合は、真値よりも約り%小さいイオン電流値
を示すことがわかった。
Nbを蒸発させる場合、加速電圧10に■、エミッショ
ン電流350mAの条件では、蒸発速度は6.67X1
0−3gr/sec、イオン電流は約3mA(100Ω
の標準抵抗器での電圧降下は300mV)であった。
イオン電流のふるまいが、蒸着速度と対応するかどうか
を調べるために、水晶振動子に現われる出力信号を微分
した信号(蒸発速度)との対応を見た。
蒸発装置に、水晶振動子と金属板3を取り付け、蒸発速
度とイオン電流による電圧降下を同時に書かせたところ
、水晶振動子による蒸発速度の出力は第4図の波形と対
応した。
これより、イオン電流値は、蒸発速度と対応することが
わかった。
イオン電流2.5mAに対して、蒸発速度は6×10−
3gr/se0.3mAに対して6.67X10−3g
r/sec、3.5mAに対して7.37X10−39
r/sec程度である。
水晶振動子で測定するときは、蒸発源から十分はなして
蒸発源からの熱輻射をさけ、イオン粒子や電子が水晶振
動子に付着するのを防ぐためには、接地した金属製の網
を水晶振動子の前に設けた。
次に前記蒸着速度測定装置を用いた蒸着速度の制御方法
について述べる。
電子ビーム銃を使用した場合、一般に蒸着速度は、数秒
間の間隔で必ずゆらいでいる。
しかし、ゆらぎを平均した値は、だいたい一定である。
ゆらぎの程度は蒸発物質の種類により異なるが、10〜
30%程度の大きさである。
しかし、エミッション電流を一定にして蒸発を続けた場
合は、蒸発源の減少ということと、それにともないハー
ス5を熱冷却していることにより生ずる蒸発源への冷却
効果の変化により、蒸発速度が変わってくる。
蒸発源の温度調節をするには時間遅れがあるために、数
秒以内で蒸発速度を一定に制御するのは困難である。
そこで、イオン電流により標準抵抗器4に現われる電圧
を、平滑回路に挿入することにより、ゆらぎを平均した
電圧が得られる。
この出力電圧の変化分を、制御回路の動作する信号に変
換してネガティブ・フィードバックすることにより、ゆ
らぎを制御系に入れず、長い時間に対する蒸着速度を一
定にできる。
第5図に、蒸着速度を一定にするための制御系の一例と
してのフローチャートを示す。
イオン電流により、標準器4に現われる電圧をV。
とする。Voを平滑回路に入れ、■ちという信号電圧に
変換する。
このV。を制御系の動作可能範囲におさめるために、適
当に定数倍できる回路を通して、v。
−α■′0という出力電圧を得る。
ここで、Voと、希望する蒸発速度に相当する標準電圧
Vsとの差を検出する回路を設け、△v=vo−vsと
いう信号を得る。
この△Vをネガティブ・フィードバックして、vc−■
s−△Vという信号を電源に入れる。
電源は信号V に比例するだけの電力を電子ビーム銃に
供給して、一定の蒸発速度にすることが可能である。
以上説明した如く本発明によれば、 ■、直接の測定量が蒸発速度を表わす。
2、高温中においても使用可能である。
3、温度に対する依存性がない。
4、金属板1枚とマグネットで装置が作れるので比較的
安価である。
などの効果が上げられる。
さらに以上の説明から類推できるように、イオンブレー
ティグやイオンビーム蒸発においても、イオンの一部を
金属板に集めることにより蒸発速度の測定ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の蒸着速度測定装置を、電子ビーム銃
に取り付けた概略図である。 第2図は、金属板3に対して平行に磁界を加えたとき、
金属板3に向って飛来するプラス・イオン粒子と電子の
経路を示した。 第3図は、金属板3の電子経路に磁界を加えない状態で
、標準抵抗器に現われる電圧■。 を時間の関数として表わした。第4図は、金属板3の電
子経路に磁界を加えた状態で、標準抵抗器4に現われる
電圧V。 を時間の関数として表わした。 第5図は、蒸着速度を一定にするための一例としてのフ
ローチャートを示す。 1・・・・・・ヒータ、2・・・・・・蒸発源、3・・
・・・・金属板、4・・・・・・標準抵抗器、H・・・
・・・磁界、■・・・・・・イオン粒子、E・・・・・
・電子。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 蒸発粒子中にイオン化された粒子を含む蒸発法を利
    用した蒸着装置において、蒸着作業空間中で蒸発源から
    の飛来粒子が存在する空間部位に、蒸発源に対して負の
    電位を与えた金属板を配置し、かつ、金属板とほぼ平行
    に磁界を加える装置とを備えたことを特徴とする蒸着速
    度測定装置。
JP12334874A 1974-10-28 1974-10-28 ジヨウチヤクソクドソクテイソウチ Expired JPS585379B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12334874A JPS585379B2 (ja) 1974-10-28 1974-10-28 ジヨウチヤクソクドソクテイソウチ

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JP12334874A JPS585379B2 (ja) 1974-10-28 1974-10-28 ジヨウチヤクソクドソクテイソウチ

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Publication Number Publication Date
JPS5149785A JPS5149785A (ja) 1976-04-30
JPS585379B2 true JPS585379B2 (ja) 1983-01-31

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ID=14858330

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JP12334874A Expired JPS585379B2 (ja) 1974-10-28 1974-10-28 ジヨウチヤクソクドソクテイソウチ

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5635763A (en) * 1979-08-29 1981-04-08 Tdk Corp Film thickness controlling system
JPS5698473A (en) * 1979-12-31 1981-08-07 Rohm Co Ltd Forming device for thin alloy film

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JPS5149785A (ja) 1976-04-30

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