JPS5852282Y2 - Vacuum deposition equipment - Google Patents
Vacuum deposition equipmentInfo
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- JPS5852282Y2 JPS5852282Y2 JP19742881U JP19742881U JPS5852282Y2 JP S5852282 Y2 JPS5852282 Y2 JP S5852282Y2 JP 19742881 U JP19742881 U JP 19742881U JP 19742881 U JP19742881 U JP 19742881U JP S5852282 Y2 JPS5852282 Y2 JP S5852282Y2
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- rotating disk
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Description
【考案の詳細な説明】
この考案は真空蒸着装置、とくに被蒸着部材がその一部
に曲面を有しているものであるとき、その曲面部の蒸着
を完全に行えるようにしたものに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION This invention relates to a vacuum evaporation apparatus, and particularly to a vacuum evaporation apparatus that is capable of completely performing evaporation on the curved surface when a part of the member to be evaporated has a curved surface.
従来、被蒸着部材(以下ウアークと称する。Conventionally, a member to be evaporated (hereinafter referred to as a wark) has been used.
)に所望の蒸着物質を蒸着するに当って第1図に示すよ
うな装置が用いられている。) An apparatus as shown in FIG. 1 is used to deposit a desired deposition substance on the substrate.
図示のものはたとえばウェハの処理工程におけるアルミ
ニウム蒸着を行う装置であるが、同心円周上に等配され
た多数個の段付き円穴を有する傘状のウェハ保持板1に
ウェハ2をセットし、このウェハがセットされた保持板
1の3個を、それぞれその外周にて環状ガイドに接触さ
せるとともに、保持板1の支持軸をそれに取付けた小形
ホイールを介して上部の環状レール3に支承させ、正四
面体の立面にそうように真空チャンバ4内に装填する。The illustrated device is, for example, an apparatus for performing aluminum vapor deposition in a wafer processing process, and a wafer 2 is set on an umbrella-shaped wafer holding plate 1 having a large number of stepped circular holes equally spaced on a concentric circumference. The three holding plates 1 on which the wafers are set are brought into contact with the annular guide at their respective outer peripheries, and the support shaft of the holding plate 1 is supported by the upper annular rail 3 via a small wheel attached thereto. It is loaded into the vacuum chamber 4 so that it is placed vertically on the regular tetrahedron.
そして真空チャンバ4を真空状態にして、前記環状ガイ
ドを矢印方向に回転させると、前記各保持板1は矢印方
向に自転しながら公転を行うが、この間に蒸発源5から
蒸発するアルミニウムがウェハ2の裏面の被蒸着面に一
様に蒸着される。Then, when the vacuum chamber 4 is brought into a vacuum state and the annular guide is rotated in the direction of the arrow, each of the holding plates 1 revolves around itself while rotating in the direction of the arrow. It is uniformly deposited on the back side of the evaporator.
この場合アルミニウムが一様に蒸着するのは、ウアーク
2の形状が平板状であり、そのために蒸着金属微粒子の
被蒸着面に対する入射角が45〜50°より大きくなら
ないことによる。In this case, the reason why aluminum is uniformly deposited is that the shape of the wark 2 is a flat plate, and therefore, the incident angle of the deposited metal fine particles with respect to the surface to be deposited does not become larger than 45 to 50 degrees.
ところで、ウアーク2がたとえば上。下をかなり大きく
カットした放物反射鏡の場合、その左右の放物凹面にア
ルミニウムを蒸着するに当って、第2図に示すように真
空チャンバ4内にて回転する回転円板6に、保持具(図
示せず)を介して前記ウアーク2を等配して取付け、回
転円板6を矢印方向に回転させ、蒸発源5から蒸発する
アルミニウムをウアーク2の前記凹面に蒸着させようと
すると、ウアーク2の底部を除きかなりの部分は、その
被蒸着面に対して前記入射角が50°以上となるために
第3図の蒸着膜の拡大断面にみられるような斜め蒸着が
行われることとなり、蒸着金属の成長が方向性をもって
なされ、蒸着膜面が白濁し、光学的反射特性がいちじる
しく減殺されることからすぐれた反射鏡をえることがで
きない。By the way, Wark 2 is above, for example. In the case of a parabolic reflector with a fairly large cut at the bottom, when aluminum is deposited on the left and right parabolic concave surfaces, it is held by a rotating disk 6 rotating in a vacuum chamber 4, as shown in FIG. When attempting to evaporate aluminum evaporated from the evaporation source 5 onto the concave surface of the wark 2 by attaching the warks 2 at equal intervals through tools (not shown) and rotating the rotating disk 6 in the direction of the arrow, In a considerable part of the wark 2 except for the bottom, the incident angle with respect to the surface to be deposited is 50° or more, so oblique deposition is performed as seen in the enlarged cross section of the deposited film in Figure 3. However, since the deposited metal grows directionally, the surface of the deposited film becomes cloudy, and the optical reflection characteristics are significantly reduced, making it impossible to obtain an excellent reflective mirror.
この考案は、ウオークを蒸着金属の蒸発源に対して、自
転・公転、または公転のみを行わせる従来の真空蒸着装
置においては、ウアークがその一部に曲面をもつ場合、
この曲面に対して蒸着が完全には行われがたいという前
記した不都合を解消するためになされたものであって、
真空チャンバに、その中央部に設けた蒸着物質の蒸発源
と、この蒸発源に対応する面に被蒸着部材を保持する保
持具と、この保持具が設置され、かつ外部から回転駆動
されて、前記蒸発源のまわりに被蒸着部材を公転させる
回転円板とを備え、被蒸着部材の表面に前記蒸着物質を
蒸着させる装置において、前記回転円板に設置され、前
記被蒸着部材の保持面が前記蒸発源に対して揺動するよ
う前記保持具を作動させる揺動機構ならびに、この揺動
機構と前記回転円板との間に連動機構を設け、前記回転
円板の回転によって前記被蒸着部材に前記蒸発源に対す
る前記公転運動と前記揺動による首次り運動とを同時に
なさしめるようにしたことを特徴とする真空蒸着装置に
かかるものである。This idea is based on the conventional vacuum evaporation equipment in which the walk rotates, revolves, or only revolves around the evaporation source of the deposited metal.
This was done in order to solve the above-mentioned disadvantage that vapor deposition is difficult to be performed completely on this curved surface,
A vacuum chamber is provided with an evaporation source for a deposition substance provided in the center thereof, a holder for holding a member to be evaporated on a surface corresponding to the evaporation source, and this holder is installed and rotated from the outside, A rotating disk for revolving a member to be deposited around the evaporation source, and an apparatus for depositing the vapor deposition substance on the surface of the member to be vapor-deposited, wherein the device is installed on the rotating disk and a holding surface of the member to be vapor-deposited is A rocking mechanism that operates the holder to rock with respect to the evaporation source, and an interlocking mechanism between the rocking mechanism and the rotating disk, and the rotation of the rotating disk causes the vapor deposition target member to move. The vacuum evaporation apparatus is characterized in that the orbital motion with respect to the evaporation source and the vertical motion due to the rocking are simultaneously performed.
以下、この考案にかかる実施例装置について図面を参照
しながら説明する。Hereinafter, an embodiment of the device according to the invention will be described with reference to the drawings.
第4図はこの装置に用いられる真空チャンバの部分側面
図、第5図はその部分平面図、第6図は前記真空チャン
バに装着されるウアーク保持装置の平面図、第7図はそ
の外形側面図、第8図はその底面を下方より見上げた平
面図である。Fig. 4 is a partial side view of the vacuum chamber used in this device, Fig. 5 is a partial plan view thereof, Fig. 6 is a plan view of the warc holding device attached to the vacuum chamber, and Fig. 7 is a side view of its external appearance. FIG. 8 is a plan view of the bottom surface viewed from below.
真空チャンバ4はウアーク2の出し入れに便利なように
分割形とされ、接合部となるフランジ7゜7′がヒンジ
8によってたがいに連結され、一方のフランジ7にはシ
ールバッキング9がはめこまれ、それぞれの分割チャン
バが一体のチャンバとして接合されたときチャンバ4内
の真空を保持するようにされている。The vacuum chamber 4 is divided into parts for convenient insertion and removal of the wark 2, and flanges 7° and 7', which serve as joint parts, are connected to each other by hinges 8, and a seal backing 9 is fitted into one flange 7. When the respective divided chambers are joined together as an integral chamber, a vacuum is maintained within the chamber 4.
真空チャンバ4の上部には、後記するウアーク保持装置
30を外部から駆動する可変速モータ10、減速機構お
よびその出力軸に対するシール機構などを内蔵するケー
シング11,12が一体に結合され、チャンバ4の中心
に対して若干オフセットして固定されており、真空チャ
ンバ4の内部天井中央に位置する駆動円板13をたがい
にかみあう一対の歯車を介して回転駆動するようにされ
ている。The upper part of the vacuum chamber 4 is integrally connected with casings 11 and 12 that house a variable speed motor 10 for externally driving a wake holding device 30 (to be described later), a deceleration mechanism, a sealing mechanism for its output shaft, and the like. It is fixed slightly offset from the center, and is configured to rotate a drive disk 13 located at the center of the internal ceiling of the vacuum chamber 4 via a pair of gears that mesh with each other.
チャンバ4の床部には、円形状の基板14が張出して固
定されており、その中央には4本の電極ロッド15が絶
縁部材を介して植込まれ、この各ロッド15に対角的に
立体交叉させてタングステンワイヤ16が複数段懸張さ
れ、後記する蒸発源17の要部を構成している。A circular substrate 14 is fixed and protruded from the floor of the chamber 4, and four electrode rods 15 are implanted in the center of the substrate through an insulating member. A plurality of tungsten wires 16 are suspended in a three-dimensionally intersecting manner and constitute a main part of an evaporation source 17 to be described later.
基板14にはその外縁部に水平面、鉛直面においてそれ
ぞれ自由回転するガイドローラ18.18’を備えた支
持台19が同一円周上にたとえ120°の角度間隔にて
、環状歯車20とともに中心を一致させて固定されてい
る。On the outer edge of the substrate 14, a support stand 19 is provided with guide rollers 18 and 18' that freely rotate in the horizontal and vertical planes, and the support stand 19 is arranged on the same circumference at an angular interval of 120°, and the ring gear 20 is rotated around the center. The match has been fixed.
なお21は真空排気ダクトであり、22は電極ロッド1
5へ電力を供給するターミナルボックスである。Note that 21 is a vacuum exhaust duct, and 22 is an electrode rod 1.
This is a terminal box that supplies power to 5.
ウアーク保持装置30は真空チャンバ4に対して容易に
セットできる独立構造を有しており、第7図にみられる
ように、ウアーク取付は枠体31.それを回動自在に支
承する部材がそれぞれ固定される天板32と回転円板6
、この両者を連結する支持脚をも兼ねる120°間隔に
て等配された連結支柱33、および回転円板6の裏面に
設けられたウアーク取付は枠体31の揺動機構34と、
この機構を回転円板6の回転運動によって連動させる連
動機構35などから構成されている。The wark holding device 30 has an independent structure that can be easily set in the vacuum chamber 4, and as shown in FIG. 7, the wark is attached to the frame 31. A top plate 32 and a rotating disk 6 to which members that rotatably support it are respectively fixed.
, connection struts 33 equally spaced at 120° intervals, which also serve as support legs for connecting these two, and a wark mounting provided on the back surface of the rotating disk 6 are connected to the swing mechanism 34 of the frame 31,
It is comprised of an interlocking mechanism 35 that interlocks this mechanism with the rotational movement of the rotary disk 6.
ウアーク取付は枠体31は、その上枠、下枠のそれぞれ
中央側部に固定された支軸36.37を、天板329回
転円板6にそれぞれ固定された軸受38.39に回転自
在に支承することによって、前記したように天板322
回転円板6に対して回動自在に取付けられ、この実施例
装置においては、6ケのウアーク取付は枠体31が回転
円板6にその中心に対して等角度間隔にて配設されてい
る。In the wark installation, the frame 31 is rotatably supported by supporting shafts 36 and 37 fixed to the center sides of the upper frame and lower frame, respectively, to bearings 38 and 39 fixed to the top plate 329 and the rotating disk 6, respectively. By supporting the top plate 322 as described above,
It is rotatably attached to the rotary disk 6, and in this embodiment, the six warcs are attached so that the frame bodies 31 are arranged on the rotary disk 6 at equal angular intervals with respect to the center thereof. There is.
回転円板6の下面に延長された前記枠体31の下部支軸
37にはそれぞれクランク腕40が固定され、この腕4
0に連接板41がピン連接されている。A crank arm 40 is fixed to each of the lower support shafts 37 of the frame 31 extending to the lower surface of the rotating disk 6.
A connecting plate 41 is connected to 0 by a pin.
連接板41には、その長手方向に対し直角をなす長穴4
2が中心を一致させて設けられている。The connecting plate 41 has a long hole 4 perpendicular to its longitudinal direction.
2 are provided with their centers aligned.
また回転円板6の下面には、それに回転自在に歯車43
がその回転中心を連接板41の中心と略一致させ、かつ
同一円周上にたがいに120°隔てて取付けられ、前記
した基板14に固定された環状歯車20と同時にかみあ
わせることができるようにされている。Furthermore, a gear 43 is rotatably provided on the lower surface of the rotating disk 6.
have their rotation centers substantially coincident with the center of the connecting plate 41, and are mounted on the same circumference at a distance of 120 degrees from each other, so that they can mesh simultaneously with the annular gear 20 fixed to the base plate 14 described above. has been done.
そして歯車43はその1つの直径上に、その回転中心か
ら両側へそれぞれl、mだけ離れた位置にタップ穴があ
けられ、第8図では、その1つに、連接板41の長穴4
2と係合するローラを有する駆動ピン44がねしこまれ
固定されている。The gear 43 has tap holes drilled on one diameter at positions l and m away from the center of rotation on both sides, respectively, and in FIG.
A drive pin 44 having a roller that engages with 2 is screwed in and fixed.
また天板32の上面には被動片45が固定され、これと
保合するように駆動ピン46が前記した駆動円板13に
固定されている。Further, a driven piece 45 is fixed to the upper surface of the top plate 32, and a driving pin 46 is fixed to the aforementioned driving disc 13 so as to be engaged with this driven piece 45.
さてこのように構成されたウアーク保持装置30を真空
チャンバ4にセットするのであるが、それには駆動円板
13を取りはずし、回転円板6の中央にあけられた丸穴
に設けた半円状の切欠けを利用して斜め方向から電極ロ
ッド15をくぐらせて、このウアーク保持装置30を真
空チャンバ4内に持ち込み、その回転円板6を、支持台
19のガイドローラ18.18’に第4図に示すように
当接させると同時に、回転円板6を左右に若干揺動させ
て、歯車43をいずれも環状歯車20に正しくかみあわ
せるようにすればよい。Now, the wark holding device 30 configured as described above is set in the vacuum chamber 4. To do this, the drive disk 13 is removed and the semicircular This wark holding device 30 is brought into the vacuum chamber 4 by passing the electrode rod 15 diagonally through the notch, and the rotating disk 6 is placed on the guide roller 18, 18' of the support base 19 by the fourth As shown in the figure, at the same time as they are brought into contact, the rotary disk 6 may be slightly swung left and right so that both the gears 43 mesh properly with the annular gear 20.
ついで電極ロッド15のタングステンワイヤ16にたと
えば純度の高いアルミニウム片を適当の長さに切り、U
字形に曲げたものを多数等間隔にひっかけて蒸発源17
とする。Next, cut a piece of high-purity aluminum to an appropriate length and attach it to the tungsten wire 16 of the electrode rod 15.
Evaporation source 17 is created by hanging a large number of objects bent into a letter shape at equal intervals.
shall be.
取りはずした駆動円板13をもとどおり取付けておく。Reattach the removed drive disk 13.
一方、たとえば前記した上下を大きくカットした放物凹
面鏡に仕上げるウアーク2を、その被蒸着面を清浄に処
理してから取付はジグ板を介してウアーク取付は枠体3
1に、被蒸着面が蒸発源17に対向するように装着する
。On the other hand, for example, the wark 2 that is to be finished into a parabolic concave mirror with large cuts on the top and bottom is installed on the frame body 3 through a jig plate after the surface to be deposited is cleaned.
1, so that the surface to be evaporated faces the evaporation source 17.
つぎにこの装置における動作について説明する。Next, the operation of this device will be explained.
まず真空チャンバ4のフランジ7.7′を接合し、ロッ
クして密閉容器とし、排気装置(図示せず)を運転し、
真空チャンバ4内の排気を排気ダクト21を介して行い
10−5〜10 ’Torr程度に真空チャンバ4を真
空状態にする。First, the flanges 7 and 7' of the vacuum chamber 4 are joined, locked to form a sealed container, and an exhaust system (not shown) is operated.
The inside of the vacuum chamber 4 is evacuated through the exhaust duct 21 to bring the vacuum chamber 4 into a vacuum state of about 10-5 to 10' Torr.
ついでモータ10を運転し、前記減速機構および一対の
歯車を介して駆動円板13を上方からみて時計方向に回
転駆動させる。Next, the motor 10 is operated to rotate the drive disk 13 in a clockwise direction when viewed from above via the speed reduction mechanism and the pair of gears.
駆動円板13が前記のとおり回転すると、駆動ピン46
が被動片45と係合するので、天板32およびそれと連
結支柱33を介して連結され回転円板6は、回転円板6
が支持台19のガイドローラ18.18’に回転自在に
支承されていることから、同じく時計方向に回転する。When the drive disk 13 rotates as described above, the drive pin 46
engages with the driven piece 45, the top plate 32 and the rotating disk 6 connected thereto via the connecting support 33 are connected to the top plate 32 and the rotating disk 6.
Since it is rotatably supported by the guide rollers 18, 18' of the support base 19, it also rotates clockwise.
したがってウアーク取付は枠体31に保持されている。Therefore, the warc attachment is held on the frame 31.
ウアーク2は蒸発源17のまわりを前記同方向に公転す
る。The warc 2 revolves around the evaporation source 17 in the same direction.
ところで、歯車20は基板14に固定されているので、
歯車20とそれぞれかみあわされている歯車43は、遊
星歯車としての動作を行い、上方からみて同じく時計方
向に自転しながら、同じ方向に公転させられる。By the way, since the gear 20 is fixed to the board 14,
The gears 43 meshed with the gear 20 operate as planetary gears, and are rotated in the same direction while rotating clockwise when viewed from above.
この回転方向は回転円板6を裏側からみた第8図ではい
ずれも反対方向、すなわち矢印で示す反時計方向となる
。The direction of rotation is the opposite direction in all cases in FIG. 8 when the rotary disk 6 is viewed from the back side, that is, the counterclockwise direction shown by the arrow.
ところで歯車43には、lだけ偏心した駆動ピン44が
それにはめこまれたローラを介して連接板41の長穴4
2に係合されているので、歯車43の前記反時計方向の
自転運動によって、連接板41の両端部にそれぞれピン
連接されているクランク腕34をまず時計方向に、つい
で反時計方向に揺動させる。By the way, a drive pin 44 eccentric by l is connected to the elongated hole 4 of the connecting plate 41 via a roller fitted into the drive pin 44 of the gear 43.
2, the rotation of the gear 43 in the counterclockwise direction causes the crank arms 34, which are connected by pins to both ends of the connecting plate 41, to first swing clockwise and then counterclockwise. let
このクランク腕34の前記揺動運動は歯車43の1回転
毎にくりかえされる。This rocking motion of the crank arm 34 is repeated every rotation of the gear 43.
この実施例においては、クランク腕34は第8図に示す
位置から時計方向9反時計方向のそれぞれに対して揺動
角45°の揺動を行い、駆動ピン44が歯車43にmだ
け偏心した位置に固定されるときは、前記揺動角が30
’になるようにされている。In this embodiment, the crank arm 34 swings clockwise and counterclockwise at a swing angle of 45° from the position shown in FIG. When fixed in position, the swing angle is 30
'It is meant to be.
したがってウアーク2は、それが保持されているウアー
ク取付は枠体31の支軸37にクランク腕40が固定さ
れていることから、前記枠体31とともに、蒸発源17
に正対している第6図に示す状態から、上方からみて、
それぞれ反時計方向、ついで時計方向に45°ずつ首振
り運転を行ないながら、矢印で示した時計方向に公転を
行うこととなる。Therefore, since the wark 2 is mounted so that the crank arm 40 is fixed to the support shaft 37 of the frame 31, the wark 2 is attached to the evaporation source 17 together with the frame 31.
Viewed from above from the state shown in Figure 6, which is directly facing the
While oscillating 45 degrees counterclockwise and then clockwise, the robot revolves in the clockwise direction indicated by the arrow.
このようにウアーク2を蒸発源17に対して首振り・公
転運動を行わせておいて、電極ロッド15にたとえば2
V 、600 Amp程度の電力をターミナルボック
ス22から供給し、たとえば5段に懸張されたタングス
テンワイヤ16にそれぞれ120 Ampの電流を流し
、それを抵抗加熱し、それにひっかけられたアルミニウ
ム片を加熱蒸発させると、アルミニウム分子が高真空空
間で行われる熱運動によって蒸発源17から飛散し、そ
れがウアーク2の被蒸着面に凝着し、薄膜を形成する。In this way, the wark 2 is made to swing and revolve with respect to the evaporation source 17, and the electrode rod 15 is
V, about 600 Amp is supplied from the terminal box 22, and a current of 120 Amp is applied to each of the tungsten wires 16 suspended in five stages, for example, to resistance heat them, and heat and evaporate the aluminum piece hooked thereon. As a result, aluminum molecules are scattered from the evaporation source 17 due to thermal movement performed in the high vacuum space, and are deposited on the surface of the wark 2 to be evaporated, forming a thin film.
この場合、ウアーク2の放物凹面に対するアルミニウム
微粒子の入射角は、ウアーク2が蒸発源17に正対する
方向から45°だけ左右にそれぞれ首振り運動を繰返え
すことから、前記入射角は50’をこえることがなく、
また蒸発源17は短い線状ではあるが、そのまわりをウ
アーク2が公転することから、斜め蒸着の発生が抑止さ
れるとともに、均一な光学的反射特性にすぐれた蒸着膜
面が形成される。In this case, the angle of incidence of the aluminum fine particles on the parabolic concave surface of the wark 2 is 50' because the wark 2 repeatedly swings left and right by 45 degrees from the direction directly facing the evaporation source 17. without exceeding
Although the evaporation source 17 has a short linear shape, the wark 2 revolves around it, so that oblique evaporation is suppressed and a evaporated film surface with uniform optical reflection characteristics is formed.
ウアーク2の形状が曲率半径の大きい曲面をもつ場合に
は、駆動ピン44の歯車43に対する固定位置を前記し
たとおり変えることによって左右の首振り角度をたとえ
ば30°と小さくすればよい。If the shape of the wark 2 has a curved surface with a large radius of curvature, the left and right swing angle may be reduced to, for example, 30 degrees by changing the fixed position of the drive pin 44 relative to the gear 43 as described above.
以上の説明によって明らかなようにこの考案にかかる真
空蒸着装置においては、被蒸着部材を蒸着物質の蒸発源
に対して、公転させると同時に左右に首振り運動を行わ
せるようにされているとともに左右の首振り角度を加減
できるようにされていることから、被蒸着部材がその一
部に曲面を有しているものであっても、その保持具への
取付けを適当に行うとともに、それに併せて左右の首振
り角度を加減することによって蒸着微粒子の被蒸着面に
対する入射角度を一定の大きさにおさえることができ、
蒸着膜面における斜め蒸着による白濁の発生を防止し、
蒸着膜面に要求されるたとえばすぐれた光学的反射特性
をもたせる蒸着を容易かつ確実に行わせることができる
。As is clear from the above explanation, in the vacuum evaporation apparatus according to this invention, the member to be evaporated is made to revolve around the evaporation source of the evaporation material, and at the same time to perform swinging motion from side to side. Since the swing angle of the holder can be adjusted, even if the part to be deposited has a curved surface, it can be attached to the holder appropriately, and also By adjusting the left and right swing angles, the angle of incidence of the deposited fine particles on the surface to be deposited can be kept to a constant value.
Prevents cloudiness caused by oblique evaporation on the surface of the evaporated film,
Vapor deposition can be easily and reliably performed so that the surface of the vapor-deposited film has, for example, excellent optical reflection characteristics.
第1図は被蒸着部材に蒸着物質の蒸発源に対して公転・
自転運動を行わせるようにした従来の装置の模式説明図
、第2図は同じく公転運動のみを行わせるようにした従
来の装置の模式説明図、第3図は斜め蒸着によって形成
された蒸着膜面の拡大断面図、第4図はこの考案にかか
る実施例装置に用いられる真空チャンバの部分側面図、
第5図はその部分平面図、第6図は前記真空チャンバに
装着されるウアーク保持装置の平面図、第7図はその外
形側面図、第8図はその底面を下方より見上げた平面図
である。
2・・・・・・被蒸着部材(ウアーク)、4・・・・・
・真空チャンバ、6・・・・・・回転円板、10・・・
・・・モータ、17・・・・・・蒸発源、31・・・・
・・保持具(ウアーク取付は枠体)、34・・・・・・
揺動機構、35・・・・・・連動機構。Figure 1 shows a member to be vapor-deposited that revolves around the evaporation source of the vapor-deposited substance.
A schematic explanatory diagram of a conventional device that performs rotational motion, FIG. 2 is a schematic explanatory diagram of a conventional device that performs only orbital motion, and FIG. 3 is a vapor deposited film formed by oblique vapor deposition. FIG. 4 is a partial side view of the vacuum chamber used in the embodiment device of this invention;
Fig. 5 is a partial plan view thereof, Fig. 6 is a plan view of the warc holding device installed in the vacuum chamber, Fig. 7 is a side view of its external appearance, and Fig. 8 is a plan view of its bottom looking up from below. be. 2... Member to be evaporated (warc), 4...
・Vacuum chamber, 6...Rotating disk, 10...
...Motor, 17... Evaporation source, 31...
・Holder (frame body for warc installation), 34...
Swing mechanism, 35... Interlocking mechanism.
Claims (1)
と、この蒸発源に対応する面に被蒸着部材を保持する保
持具と、この保持具が設置され、かつ外部から回転駆動
されて前記蒸発源のまわりに被着部材を公転させる回転
円板とを備え、被蒸着部材の表面に前記蒸着物質を蒸着
させる装置において、前記回転円板に設置され前記被蒸
着部材の保持面が前記蒸発源に対して揺動するよう前記
保持具を作動させる揺動機構ならびに、この揺動機構と
前記回転円板との間に連動機構を設け、前記回転円板の
回転によって前記被蒸着部材に、前記蒸発源に対する前
記公転運動と前記揺動による首振り運動とを同時になさ
しめるようにしたことを特徴とする真空蒸着装置。A vacuum chamber is provided with an evaporation source for a deposition substance provided in the center thereof, a holder for holding a member to be evaporated on a surface corresponding to the evaporation source, and a holder that is rotatably driven from the outside to evaporate the material. An apparatus for depositing the evaporation substance on the surface of the evaporation target member, comprising a rotating disk that revolves the evaporation target member around an evaporation source, wherein the holding surface of the evaporation target member that is installed on the rotation disk is connected to the evaporator. A rocking mechanism that operates the holder to rock with respect to the source, and an interlocking mechanism between the rocking mechanism and the rotating disk, and the rotation of the rotating disk causes the member to be evaporated to A vacuum evaporation apparatus characterized in that the orbital motion with respect to the evaporation source and the oscillating motion due to the rocking are performed simultaneously.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19742881U JPS5852282Y2 (en) | 1981-12-30 | 1981-12-30 | Vacuum deposition equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19742881U JPS5852282Y2 (en) | 1981-12-30 | 1981-12-30 | Vacuum deposition equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58101871U JPS58101871U (en) | 1983-07-11 |
JPS5852282Y2 true JPS5852282Y2 (en) | 1983-11-29 |
Family
ID=30110651
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19742881U Expired JPS5852282Y2 (en) | 1981-12-30 | 1981-12-30 | Vacuum deposition equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5852282Y2 (en) |
-
1981
- 1981-12-30 JP JP19742881U patent/JPS5852282Y2/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58101871U (en) | 1983-07-11 |
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