JPS58500421A - 亀裂を検出する測定装置 - Google Patents

亀裂を検出する測定装置

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JPS58500421A
JPS58500421A JP57501164A JP50116482A JPS58500421A JP S58500421 A JPS58500421 A JP S58500421A JP 57501164 A JP57501164 A JP 57501164A JP 50116482 A JP50116482 A JP 50116482A JP S58500421 A JPS58500421 A JP S58500421A
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フエルアイニヒテ フル−クテヒニツシエ ヴエルケ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 亀裂を検出する測定装置 本発明は、試験片に取り付けられて亀裂の生じた際に亀裂表示信号を発生させる 亀裂検出器により試験片の亀裂を検出する測定装置に関する。
航空機および他の構造部品において、亀裂を検出する測定装置を使用することは 梓通である。亀裂検出器とも呼ばれるこのような測定装置に対してかなりの需要 がある。なぜならば使用されている航空機あるいは他の構造部品におけるおよび 実験の際の早期検出が、故障の適時の防止を可能にするからである。
亀裂を検出するために絶縁外皮層を備えた線を部品に接着し、亀裂により生じた 線破損を亀裂表示のために利用することは公知である。この方法では、電流が線 により導かれ、この電流が線破損の際に切れて、電子計算装置において亀裂表示 を行なう。別の亀裂検出方法では、部品全体が絶縁層を備え、続いて吹付けによ り導体条片を備え、この導体条片が前述したように破損の際に同様に亀裂表示を 行なう。両方の方法にいくつかの欠点がある。まず、部品と亀裂検出導体との間 の必要な絶縁層により検出感度が損われる。さらに、外部使用の際、特に銀製の 導電性塗料を使用する際、腐食問題を考えに入れなければならないので、長時間 監視が実際上不可能になる。そのうえ、銀製の導電性塗料は非常に高価であり、 さらに導体条片を設けることはかなり手間がかかりかつ問題となる。最後に、さ らに興境の電磁障害を回避できない導体条片あるいは線の破損により短時間の中 断しか起こらない。なぜならば、例えば負荷が減少し、それによって電流回路が 閉じるからである。しかしこれによって亀裂表示が再び消滅せしめられ、それに よって、実際には存在しない無亀裂状態であるかのごとく思わせる。
したがって本発明の課題は、確実でかつ不可逆の亀裂表示を常に保証する、冒頭 に挙げた種類の亀裂検出測定装置を提供することにある。この課題は本発明によ れば特許請求の範囲の特徴により解決される。
本発明のそれ以外の有利な構成は特許請求の範囲の実施態様項から分かる。
本発明を添付の図面により詳細に説明する。
第1図は亀裂を検出する測定装置の原理を示し、第2図は光結合器を示し、第3 図は光伝導ファイバを備えた部品を示し、第4図は光伝導ファイバを取り付けた 構造6図は接着箔帯止に光伝導ファイバを布設するための装置を示し、第6a図 は光伝導ファイバを備えた接着箔帯を・示し、第7図は光伝導ファイバが曲がり (ねって布設されている接着箔帯を示し、第8図は光ファイバを特別の形状に布 設するための2つのゲージを示し、第9a図および第9b図は亀裂進行表示を行 なうための原理を示し、第10図は多数の光伝導ファイバを備えた部品を示し、 第1h図および第11b図は2つの信号図を示し、第12図は光偏向器により周 期的に監視される部品を示し、第13図は亀裂進行図を示す。
第1図に、亀裂を検出するための測定装置の原理が示されており、この測定装置 において光伝導ファイバ2が適切な接着剤により部品1の上に接着されて℃・る 。ガラス、石英ある℃・はプラスチックから構成することができる光伝導ファイ バ2が、絶縁層なしに、すなわち直接部品1の上に布設されて(・る。ファイバ の布設は、塗料なるべく2a分クロム酸亜鉛塗料の塗布の際に行なわれる。
したがってファイバは保護する塗料層に埋め込まれ、したがって部品に密接に付 着している。この付着は、使用中に生ずる負荷、特に高温に耐える。光結合器3 を介して光伝導ファイバ2が一端において光を供給され、この光は光源4から給 光導体5を介して供給される。光伝導ファイバ2の他端には光検出器6が設けら れており、この光検出器は受光された光を電気屋に変換しかつ2重導線を介して 電子計算装置f1.7へ導く。したがって部品1にある図示した亀裂8の結果と して光伝導ファイバ2に破損個所9が生じ、この破損個所は不可逆であり、した がって部品lの負荷除去の際残されたままである。
光伝導ファイバ2に生じた破損個所9のために光伝導が非常に減少するので、光 検出器6が同様に非常に変化した電気量を電子計算装置7へ報知する。亀裂8が まだ目に見えない場合は破損個所9における光漏れによりこの亀裂を検出しかつ それによって付加的に亀裂個所の表示を得ることができる。理論的な考察の結果 、亀裂検出感度がファイバの直径に反比例することが分かった。この考察は最初 の実験により確かめられた。こうして直径30例および60例のガラスファイバ ならびに従来の2成分エポキシ接着剤を使用した場合にアルミニウム製部品ある いはアルミニウム構造結合部において良好な検出感度が得られる。
第2図は光結合器3の詳細を示しており、この光結合器において傾斜体15が給 光導体5がら光伝導ファイバ2への移行部を形成している。この傾斜体15は給 光導体5への接続のために半分までは直方体として構成され、そのあとはキー状 部分として構成されているので、光伝導ファイバ2においてそれぞれの部品への 良好な移行が行なわれる。この場合傾斜体15の幅は、複数の光伝導ファイバ2 が難なく給先導体5に接続され得るような大きさに選ばれている。
第3図に、6つの光伝導ファイバ2が縦方向に平行、に接着されている部品1が 見られる。これらの6つの光伝導ファイバ2は一端において共通な光結合器3へ 導かれ、この光結合器が、給光導体5を介して、図示してない光源から光を受光 する。部品Iに、中心から光伝導ファイバ2に除々に浸透していく亀裂8が示さ れている。光伝導ファイバ2の自由端を検査員に時々視覚により観察させあるい は電子計算装置7により常時観察および計算を行なうために第1図におけるよう な光検出器6を各光伝導ファイバに使用することができる。
第4図にお〜゛て、常時の亀裂監視のために光伝導ファイバ2を使用している構 造結合部が見られる。この構造結合部は帯素子20かも成り、この帯素子の図示 された端部が、両側にある2つの帯素子2]、22と結合されている。
この結合はびょう結合であり、そのことが第4a図における孔23により示され ている。第4a図から同様に分かるように、光伝導ファイバ2の縦ループが孔2 3の中間列の回りを案内されているが、しかし4点鎖線で示したように光伝導フ ァイバ2の曲がり(ねった布設も可能である。
帯素子に設けられた傾斜している孔24を通って光伝導ファイバ2が外側へ導か れていて、光を妨げられずに結合しかつ監視を妨げられずに行なうことができる 。帯素子20.22の間に示された線は塗料および密封ペーストを示している。
この場合光伝導ファイバは、びょう止めにより生ずる圧力に破損)よしにかつ長 期間耐えることができる。
本発明による監視は複数の作動方法で利用できる。既に述べたように、光源から 光を常時結合することができかつ光伝導ファイバ2も検査員により時々監視する ことができあるいは光検出器および電子計算装置により常時監視を行なうことが できる。しかし検査員が視覚によりあるいは電子計算装置により検査を行なう場 合にのみ光を結合することも可能である。本発明による測定装置はいくつかの特 徴によって従来の測定装置より侵れている。
光伝導ファイバが部品の表面と直接接触することにより、検出感度が著しく高め られる。腐食問題は予想されず、破損の際に光漏れ個所が亀裂個所を表示する。
光伝導ファイバは各種の外乱電磁界の影響を受けない。一旦生じたファイバ破損 は不可逆であるので、亀裂は部品の負荷除去後も表示される。さらに光伝導ファ イバの費用が非常に僅かである。
光伝導ファイバ2の取付けは、手である〜・は孔のあいた接着箔あるいはゲージ を用い℃@誠によっても行なうことができる。第5図に、面にわたって分布した 孔1】を持つ帯の切断部分として接着箔10が見られる。この実施例は、孔直径 2顛、中間片を相応の大きさに定めて設刺されている。第6図は、接着箔帯16 の付着側に光伝導ファイバ2を縦方向に機械によって布設することができる装置 12を示す。この場合光伝導ファイバ2が供給ローラから繰り出され、まず吸込 み管26内に設けられた転向ローラ27が案内される。級込み管26は光伝導フ ァイバ2を引っ張るために使用され、転向ローラ27は図示してない光学位置測 定装置により同時にファイバ送りの調節のために使用される。吸込み管26を経 てから光伝導ファイバ2は転向ローラ28を介してくずの除去のため浄化槽29 へ送られ、この槽の中に設けられた別の転向ローラ30を介して再び引き出され る。浄化された光伝導ファイバ2は転向ローラ31を経て転向ローラ32に達し 、この転向ローラ32へ、孔をあけた接着箔帯16が供給ローラ33から同様に 供給される。この接着箔16から分離紙34が予め分離され、2つの転向ローラ 35,36を介して転向ローラ37へ供給される。このローラ37の所で、光伝 導ファイバ2を備えた接着箔帯16が再び分離紙34を備えかつ巻付けのために 供給ローラ38へ供給される。したがって供給ローラ38は、光伝導ファイバ2 を備えかつ分離紙34により覆われた接着箔帯16を含んでおり、この接着箔帯 は測定目的のためにほぼメートル売り商品として裁断され得る。この場合転向ロ ーラのうちの1つ、なるべく転向ローラ31に案内素子、例えば溝が設けられ、 この溝が光伝導ファイバ2の規定された布設を保証する。
第6図に、光伝導ファイバ2を備えた接着箔帯16が見られかつ面にわたって分 布した孔により光伝導ファイバ2が均一な間隔を置いて露出しているのが分かる 。試験片の上に接着した後光伝導ファイバ2は孔の範囲にお〜・て露出しており 、塗料層の塗布(吹付け)により試験片に取り付けられる。塗料層の硬化および 箔の除去後、1つおよび(あるいは)それ以上の塗料層の塗布により、確実に付 着する光伝導ファイバの布設を行なうことができる。塗料としてなるべくクロム 酸亜鉛塗料が使用され、希釈剤としては箔を腐食させない薬剤または希釈剤に対 して抵抗力のある箔が使用される。
接着箔帯16の縦方向における光伝導ファイバ2の布設のほかに、例えば第7図 による曲がりくねった布設も可能である。この種の布設は付加的装置、例えばゲ ージな必要とするが、しかしそのことは大きな費用なしに可能である。第7図に よる接着箔帯16において、光伝導ファイバ2は、ループが縁から突出するよう に、布設されている。このような布設のやり方は伸長性の箔により、例えば試験 片に取り付ける際に、実際に生ずるびょう穴間隔の不均一が補償される利点を持 つ。
光伝導ファイバ2を任意の特別の形状に布設するためにゲージを使用することも できる。第8a図および第8b図は2つのゲージ39.40を示しており、これ らのゲージは薄い特殊鋼板から成りかつ光伝導ファイバ2用の腐食された条片4 1,42を持って(・る。これらのゲージ39.40はさらに付着防止層を備え ており、この付着防止層が接着箔10上への布設後容易な除去を保証する。ゲー ジによる布設のほかに機械により任意の配置で布設することも可能である。この ために例えば案内頭部を使用することができ、この案内頭部はマイクロプロセッ サ制御装置によりX−Yプロッタ方式で、任意に予め与えることができる特別形 状を読み取ることを可能にする。したがって本発明による解決策は、光伝導ファ イバを接着箔の付着側において任意の配置で布設し、それからこれらの光伝導フ ァイバを亀裂の検出のために上述のやり方で試験片に取り付けることを可能にす る。
第9a図および第9b図による側面図に示したように、試験片1に光伝導ファイ バ2が張り付けられている。この光伝導ファイバ2は、中心から離れている中断 部5oを持つており、この中断部は、両方のファイバ部分に及ぶ光線51により 照射される。光線51は、見れば分かるとおり、ファイバ方向に発散されかつフ ァイバ方向に対して垂直に集束されている。これによって、光線が小さい間隔を 置いて並置されている複数の光伝導ファイバに照射する際その都度唯]つのファ イバだけに及ぶことが保証される。矢印により示されているように負荷をかげら れる試験片1に亀裂52が生じており、この亀裂が光伝導ファイバの下部に除々 に浸透しようとしている。さらに第9a図および第9b図から、光線51により 照射される中断部50のため光伝導ファイバ2の両端において光ることが分かる 。
亀裂52によるファイバ下部の破損は不可逆であり、この端部における発光を非 常に減少させる。光検出器によりこの光変化が検出されかつ亀裂表示を行なうた めまたは亀裂進行の表示のために利用される。
第10図にも同様に試験片1が見られ、この試験片の上に10本の光伝導ファイ バ2]、22・・・・・・・ 210が接着されている。これらの光伝導ファイ ン(2は、それぞれ線で示されている中断部50を備えており、この中断部はフ ァイバの布設後先の鋭い物、例えばけがき針で線を引(ことにより得られる。光 ファイバ21.22・・・・・・・ 210の両端にそれぞれ縦長の光検出器5 3.54が付属しており、さらに、第12図に示したように、光伝導ファイン( が光源から光偏向器により周期的に照射される。亀裂52により光伝導ファイバ 23,24,25,26,27,28が下部にお℃・て中断されているので、光 検出器53だけが中断部50への照射の際にファイバ1つにつき1つずつパルス を発生する。光検出器54は、ファイバ21.22および29,210にお(・ てだけノ(ルスを発生する。第11a図および第11b図は、この場合に発生さ れるパルスを示している。光検出器54のノクルスは亀裂の増大と共にますます 発生しないから、クロックツ;ルスとして利用できる光検出器53のパルスと光 検出器540ノくルスとによって計算回路において亀裂進行表示を行なうことが できる。
既に述べたように、光伝導ファイバ2に設けられた中断部50に周期的に照射す るために光偏向器が必要である。
第12図はこのために反射鏡ローラ55を示しており、この反射鏡ローラは均一 な扁平部56を備えている。この反射鏡ローラ55は、図示してない回転駆動装 置を備えており、したがってレーザ57かも出発して偏向鏡58を経て反射鏡ロ ーラ55へ向けられた光線5]を、図示したように、試験片1上に接着された光 伝導ファイバ2を横切って偏向させる。この場合レーザ光線51は中断部50へ 向けられかつ前述したように偏向鏡58と反射鏡ローラ55との間に設けられた 非点収差レンズ60により集束されている。したがって回転駆動装置により反射 鏡ローラ55を回転させる除に、レーザ57の光線51が周期的に光伝導ファイ バ2に設けられた中断部50に照射するので、ファイバのこれらの個所において 光が短時間結合される。
この場合、例えば計算機を設けることができる計算薗路が、第11a図および第 11b図に示した光検出器s3.s4のパルスから亀裂進行図を作成することが できる。
このような図は例えば第13図に示されており、この図にお(・て縦座標に亀裂 長さが記入され、横座標に負荷変化の回数が記入されて(・る。横座標に記入さ れた数字工な(・し10が第10図による光伝導ファイバ2の添字に対応してい る。この図から、負荷変化の回数ある(・は時間ト共に亀裂進行を認めることが できる。なぜならば負荷変化が時間に比例するからである。
第5図 第6図 第7図 第8a図 第8b図 第9a図 第9b図 第13図 補正書の翻訳文提出書 (特許法第184条の7第1項) 昭和57年1り月/タ日 特許庁長官 若杉和夫殿 1 特許出願の表示 PC’I’/DE 82100069 2発明の名称 亀裂を検出する測定装置 3特許出願人 名称 フエルアイニヒテ フルークテヒニツシエ ヴエルグゲゼルシャフト ミ ツト ベシュレンクテル ノ・フツング住所東京都中央区八重洲1丁目9番9号 東京建物ビルディング6階 5 補正書の提出年月日 1982年8月25日 6、添付書類の目録 補正書の翻訳文 1通 補正された特許請求の範囲 1 試験片に取付は可能でかつ光伝導ファイバを含み、亀裂の生じた際に亀裂表 示信号を発生させる亀裂検出器により試験片の亀裂を検出する測定装置において 、試験片(1)の上に接着可能な光伝導ファイノ((2)が、複数のファイバ( 2)に供給するために構成された光結合器(3)を介して供給されることを特徴 とする、亀裂を検出する測定装置。
2 光伝導ファイバ(2)としてガラスファイノ(が使用されることを特徴とす る特許請求の範囲第1項に記載の測定装置。
3 光伝導ファイバ(2)として石英ファイノ(が使用されることを特徴とする 特許請求の範囲第1項に記載の測定装置。
4 光伝導ファイバ(2)としてプラスチックファイノくが使用されることを特 徴とする特許請求の範囲第1項に記載の測定装置。
5 光伝導ファイバ(2)としてなるべく蒸着した光伝導膜が使用されることを 特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の測定装置。
6 光伝導ファイバ(2)が、面にわたって孔をあけられた接着箔(10,16 )の付着側において所望の配置で布設され、試験片の上に接着した後に露出個所 を薄い塗料層で被覆され、試験片に付着する光伝導ファイノ((2)が塗料層の 硬化および接着箔(10,16)の除去後に1つおよび(あるいは)それ以上の 塗料層で被覆されることを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第5項のうち 1つに記載の測定装置。
7、 塗料層がクロム酸亜鉛塗料から成りかつ塗布(吹付け)のために規定され た希釈剤を添加されることを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第6項のう ち1つに記載の測定装置。
8 接着箔(10,16)が、希釈剤に対して抵抗力のある伸長性の材料から成 ることを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第7項のうち1つに記載の測定 装置。
9、 光伝導ファイバ(2)が、接着箔帯(16)上において、ループが縁から 突出するように、曲がりくねって布設されていることを特徴とする特許請求の範 囲第1項ないし第8項のうち1つに記載の測定装置。
10、光伝導ファイバ(2)がゲージ(39,40)により接着箔(10)上に 布設され、これらの光伝導ファイバが付着防止層により布設後に接着箔(10) から簡単に除去できることを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第9項のう ち1つに記載の測定装置。
11、接着箔(10)上に光伝導ファイバ(2)を布設するために案内頭部が設 けられ、この案内頭部がマイクロプロセッサ制御装置に関係してX−Yブロック により光伝導ファイバ(2)を任意の所定の配置で布設することを特徴とする特 許請求の範囲第1項ないし第9項のうち1つに記載の測定装置。
12 光伝導ファイバ(2)が、光偏向器(55)による照射により光を結合す るために同じ高さの所に中断部(5o)を持ち、光伝導ファイバ(2)の端部に 光検出器(53,54)が付属し、これらの光検出器の出力信号が亀裂進行表示 を行なう計算回路において処理されることを特徴とする特許請求の範囲第1項な いし第11項のうち1つに記載の測定装置。
13 多数の光伝導ファイバ(2)が均一な間隔を置いて平行して試験片(1) に取り付けられ、中−f部(50) ’が光伝導ファイバ(2)において中心か ら充分遠く離れて設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし 第12項のうち1つに記載の測定装置。
14 光源としてレーザ(57)が使用され、このレーザの光線(51)が非点 収差レンズ(60)により偏向方向に集束されかつファイバ方向に発散されるこ とを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第13項のうち1つに記載の測定装 置。
15 光検出器(53,54)が、縦長の構成部材にまとめられた複数のフォト ダイオードを持ちかつそれぞれがファイバ端部の一方の側に付属していることを 特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第14項のうち1つに記載の測定装置り 国際調査報告

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 試験片に取り付けられて亀裂の生じた際に亀裂表示信号を発生させる亀裂検 査器により試験片の亀裂を検出する測定装置において、亀裂検出器が、試験片( 1)の上に接着【1■能でかつ光結合器(3)を介して光を供給される光伝導フ ァイバ(2)を含むことを特徴とする、亀裂を検出する測定袋fit 。 2 光伝導ファイバ(2)としてガラスファイバが使用されることを特徴とする 特許請求の範囲第1項に記載の測定装置。 3 光伝導ファイバ(2)として石英ファイバが使用されることを特徴とする特 許請求の範囲第1項に記載の測定装置。 4 光伝導ファイバ(2)としてプラスチックファイバが使用されることを特徴 とする特許請求の範囲第1項に記載の測定装置。 5 光伝導ファイバ(2)が曲がり(ねって布設されていることを特徴とする特 許請求の範囲第1項ないし第4項のうち1つに記載の測定装置。 6 光伝導ファイバ(2)としてなるべく蒸着した光伝導膜が使用されることを 特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の測定装置。 7 光結合器(3)が複数の光云導ファイバ(2)を供給するために構成されて いることを特徴とする特許請求の範@第1項ないし第6項のうち1つに記載の測 定装置。 8 光伝導ファイバ(2)のそれぞれの一端に光検出器(6)が付属し、これら の光検出器の出力信号が電子計算装置n(7)へ供給されることを特徴とする特 許請求の範囲第1項ないし第7項のうち1つに記載の測定装置。 9、 光伝導ファイバ(2)が、面にわたって孔をあけられた接着箔(10,1 6)の付着側にお(・て所望の配置で布設され、試験片の上に接着した後に露出 個所を薄い塗料層で被覆され、試験片に付着する光伝導ファイバ(2)が塗料層 の硬化および接着箔(10,16)の除去後に1つおよび(あるいは)それ以上 の塗料層で被覆されることを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第8項のう ち1つに記載の測定装置。 10、 塗料層がクロム酸亜鉛塗料から成りかつ塗布(吹付け)のために規定さ れた希釈剤を添加されることを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第9項の うち1つに記載の測定装置。 11 接着箔(10,16)が、希釈剤に対して抵抗力のある伸長性の材料から 成ることを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第10項のうち1つに記載の 測定装置。 12 光伝導ファイバ(2)が、適当な幅に選ばれた接着箔帯(16)上におい て縦方向に布設され、除去可能な分離紙(34)を備えた、予め製造された検出 器帯を形成することを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第1】項のうち1 つに記載の測定装置。 13 光伝導ファイバ(2)が、接着箔帯(16)上において、ループが縁から 突出するように、曲がり(ねって布設されていることを特徴とする特許請求の範 囲第1項ないし第11項のうち1つに記載の測定装置。 14 光伝導ファイバ(2)がゲージ(39,40)により接着箔(10)上に 布設され、これらの光伝導ファイバが付着防止層により布設後に接着箔(+0) から簡単に除去できることを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第11項の うち1つに記載の測定装置。 15 接Ii箔(10)上に光伝導ファイバ(2)を布設するために案内頭部が 設けられ、この案内頭部がマイクロプロセッサ制御装置に関係してX−Yプロッ タにより光伝導ファイバ(2)を任意の所定の配置で布設することを特徴とする 特許請求の範囲第1項ないし第11項のうち1つに記載の測定装置。 16、光伝導ファイバ(2)が、光偏向器(55)による照射により光を結合す るために同じ高さの所に中断部(50)を持ち、光伝導ファイバ(2)の端部に 光検出器(53,54)が付属し、これらの光検出器の出力信号が亀裂進行表示 を行なう計算回路において処理されることを特徴とする特許請求の範囲第1項な いし第15項のうち1つに記載の測定装置。 17 多数の光伝導ファイバ(2)が均一な間隔を置いて平行して試験片(1) に取り付けられ、中断部(50)が光伝導ファイバ(2)において中心から充分 遠(離れて設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第16 項のうち1つに記載の測定装置。 ]8 光偏向器として、均一な扁平部(56)を備えた反射鏡ローラ(55)か ら成る回転反射鏡装置が使用されることを特徴とする特許請求の範囲第1項ない し第17項のうち1つに記載の測定装置。 19 光源としてレーザ(57)が使用され、このレーザの光線(51)が非点 収差レンズ(6o)により偏向方向に集束されかつファイバ方向に発散されるこ とを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第18項のうち1つに記載の測定装 置。 20 光検出器(53,54)が、縦長の構成部材にまとめられた複数のフォト ダイオードを持ちかつそれぞれがファイバ端部の一方の側に付属していることを 特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第19項のうち1つに記載の測定装置。 21 計算回路が、光検出器(53,54)の供給された信号から亀裂進行を表 示する量を検出する計算機を含んでいることを特徴とする特許請求の範囲第1項 ないし第20項のうち1つに記載の測定装置。
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