JPS5845443A - Solar heat abosrbing body - Google Patents

Solar heat abosrbing body

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JPS5845443A
JPS5845443A JP56144254A JP14425481A JPS5845443A JP S5845443 A JPS5845443 A JP S5845443A JP 56144254 A JP56144254 A JP 56144254A JP 14425481 A JP14425481 A JP 14425481A JP S5845443 A JPS5845443 A JP S5845443A
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JP
Japan
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nickel
black
solar heat
film
selective absorption
Prior art date
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Application number
JP56144254A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiko Hatsushiro
初代 正彦
Seishiro Yamakawa
山河 清志郎
Masaharu Fujii
雅春 藤井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24SSOLAR HEAT COLLECTORS; SOLAR HEAT SYSTEMS
    • F24S70/00Details of absorbing elements
    • F24S70/20Details of absorbing elements characterised by absorbing coatings; characterised by surface treatment for increasing absorption
    • F24S70/25Coatings made of metallic material
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24SSOLAR HEAT COLLECTORS; SOLAR HEAT SYSTEMS
    • F24S70/00Details of absorbing elements
    • F24S70/20Details of absorbing elements characterised by absorbing coatings; characterised by surface treatment for increasing absorption
    • F24S70/225Details of absorbing elements characterised by absorbing coatings; characterised by surface treatment for increasing absorption for spectrally selective absorption
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/40Solar thermal energy, e.g. solar towers

Abstract

PURPOSE:To obtain the solar heat abosrbing body excellent in the selective absorption characteristics but stabilized in the color tone thereof by a method wherein a selective absorption film, consisting of at least one of black Cr and black Ni, is formed on the surface of a Ni base of which surface is not flat. CONSTITUTION:The solar heat abosrbing body is consisting of the selective absorption film, consisting of at least one of the black Cr and the black Ni, formed on the surface of the base, of which surface is made of Ni at least and is not flat. The surface of the base is consisting of a nickel film 1 having a leafy or fibrous crytal form, in which a length in an average longer diametral direction is 0.5-2.0mu and the average distance between tip ends of the crystal is 0.5-2.5mu. The surface of the base is consisting of a nickel film 2 having granular crystal form, in which the average graular diameter is 0.1-1mu and the average distance between grains is 0.1-0.4mu. The thickness of the selective absorption film is 0.05-1mu.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、太陽熱温水器などに使用される太陽熱吸収
体に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a solar heat absorber used in solar water heaters and the like.

太陽熱吸収体としては、金属でつくられた基材の表面に
、太陽光の可視域での吸収率が高く、しかも赤外領域で
の放射率が低いような選択吸収膜を形成したものが知ら
れている。このような選択吸収膜として、黒色クロム系
、黒色ニッケル系および酸化−系の各選択吸収膜および
ステンレス鋼の表面に酸化処理を施して得られる選択吸
収膜がある。これら従来の選択吸収膜のうち、酸化銅系
の選択吸収膜は耐熱性環よび耐蝕性に難点があり、さら
にステンレス系の選択吸収膜は、熱伝導性や加工性の内
でuirtがあるなど、いずれも実用上の゛大きな欠点
をもっている。他方、黒色クロム系はコスト面や公害面
に問題があり、黒色ニッケル系は耐湿性や耐紫外線性に
問題があるといわしている。しかし−1このような問題
かある番どもかかわらず、黒色クロム膜や黒色ニッケル
膜は他の選択吸収膜に比べ産児に優れており、射に高温
コレクター等の選択吸収膜として期待されている。
Solar heat absorbers are known to have a selective absorption film formed on the surface of a base material made of metal, which has a high absorption rate in the visible range of sunlight and a low emissivity in the infrared range. It is being Such selective absorption films include black chromium-based, black nickel-based and oxidation-based selective absorption films, and selective absorption films obtained by subjecting the surface of stainless steel to oxidation treatment. Among these conventional selective absorption membranes, copper oxide-based selective absorption membranes have drawbacks in heat resistance and corrosion resistance, and stainless steel-based selective absorption membranes have problems in thermal conductivity and processability. Both have major practical drawbacks. On the other hand, black chromium-based materials are said to have problems in terms of cost and pollution, and black nickel-based materials are said to have problems in moisture resistance and UV resistance. However, regardless of these problems, black chromium films and black nickel films are superior to other selective absorption films, and are expected to be used as selective absorption films for high-temperature collectors and the like.

黒色クロム膜や黒色ニッケル膜の実用上の大きな欠点と
しては、色調が安定しないことかあげられる。色調が安
定しないというのは、黒色クロム膜や黒色ニッケル膜が
部分的に、黄色、緑色、赤色というような色調をわずか
に帯びることである。
A major practical drawback of black chromium films and black nickel films is that the color tone is not stable. Unstable color tone means that the black chromium film or black nickel film partially takes on a slight yellow, green, or red color tone.

このような色調を帯びる黒色クロム膜や黒色ニッケル膜
は、選択吸収特性が安定しない。すなわち、1枚の選択
吸収膜内において、太陽光の吸収率が特に低い部分や放
射率が特に高い部分か生じたりするのである。また、選
択吸収膜ごとの選択吸収特性もそれぞれ異なったものと
なりやすく、同品質のものを得るのが困難である。さら
に、時間の経過とともic選択吸収特性が低下すること
もある。
A black chromium film or a black nickel film that has such a color tone does not have stable selective absorption characteristics. That is, within a single selective absorption film, there may be a portion where the absorption rate of sunlight is particularly low or a portion where the emissivity is particularly high. Furthermore, the selective absorption characteristics of each selective absorption membrane tend to be different, making it difficult to obtain membranes of the same quality. Furthermore, the IC selective absorption characteristics may deteriorate over time.

このような色調の不安定さは黒色クロム膜や黒色ニッケ
ル絞の膜厚のわずかな変化により生じると思われるが、
膜厚を正確に同じにすることは非常に困難であり、事実
上不可能と言える。
This instability in color tone is thought to be caused by slight changes in the thickness of the black chrome film or black nickel film.
It is very difficult to make the film thickness exactly the same, and it can be said to be virtually impossible.

この発明は、このような事情に鑑みなされたもので、選
択吸収特性の優れた黒色クロムもしくは黒色ニッケル系
でありながら色調の安定した太陽熱吸収体を提供するも
のである。これについて以下に説明する。
The present invention was made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a solar heat absorber that is made of black chromium or black nickel and has a stable color tone and has excellent selective absorption characteristics. This will be explained below.

この発明にかかる太陽熱吸収体は、少なくとも表面がニ
ッケルでできており、かつその表面が平担ではない基材
の表面上に、黒色クロムおよび黒色ニッケルのうちの少
なくとも一方からなる選択吸収膜が形成されてなること
を特徴としている。
The solar heat absorber according to the present invention has at least a surface made of nickel, and a selective absorption film made of at least one of black chromium and black nickel is formed on the surface of a base material whose surface is not flat. It is characterized by being done.

基材としては、全体がニッケルからなるもの、または、
金属等の芯材(ベースメタル)表面にニッケル膜が施さ
れて′いるものが用いられる。このように選択吸収膜の
下地としてニッケルが好ましく使用されることは、発明
者らによってすでに提案されている。その使用目的は、
太陽熱吸収体の耐蝕性向上および耐熱性向上のためであ
る。すなわち、黒色クロムや黒色ニッケル系の選択吸収
膜は非常に薄く多孔性(ポーラス)であるため、基材の
腐食を防ぐことは困難である。また大気中で加熱された
等の場合は基材が酸化されてしまうこともある。たとえ
ば、太陽熱吸収体の使用中、熱媒体を導通させない状態
で太陽光に曝されるなと゛すると、ときにより200℃
もの高温1こ達することがあり、ために基材の酸化が起
きるのである力(、基材が酸化されると、選択吸収膜の
吸収特性αや放射時性感の性能低下が起きるのである。
The base material is made entirely of nickel, or
A core material (base metal) made of metal or the like with a nickel film coated on the surface is used. It has already been proposed by the inventors that nickel is preferably used as the base of the selective absorption membrane. The purpose of its use is
This is to improve the corrosion resistance and heat resistance of the solar heat absorber. That is, since black chromium or black nickel-based selective absorption films are very thin and porous, it is difficult to prevent corrosion of the base material. Furthermore, the base material may be oxidized if it is heated in the atmosphere. For example, when using a solar heat absorber, if it is not exposed to sunlight without conducting heat medium, the temperature may rise to 200°C.
High temperatures can reach as high as 1, which causes oxidation of the base material.When the base material is oxidized, the absorption characteristic α of the selective absorption film and the irradiation sensitivity deteriorate.

その点、化学的および熱的に安定な二゛ンケルを選択吸
収膜の下地として用いれば、基材が腐食されたり、酸化
されることがないため、好ましく用IL)られるのであ
る。
In this respect, it is preferable to use Nikel, which is chemically and thermally stable, as the base of the selective absorption membrane because the base material will not be corroded or oxidized.

この発明にかかる太陽熱吸収体が選択吸収膜の下地とし
てニッケルを用いること&ヨ、従来と同じである。しか
し、その下地ニッケル表面カイ平担でないところに特徴
がある。ニッケル下地の表面力f平滑となっていると、
その下地自身番よ、番立とんど選択吸収特性を有しない
。これ龜こ対し、ニッケル下地の表面が、葉状ないし繊
維状または粒状の結晶からなる等して平担でない場合は
、ニッケル下地自身が選択吸収特性を持つ。このニッケ
ル下地上に黒色ニッケルや黒色クロムの選択吸収膜を形
成すると、これらの間で相剰効果があられれ、吸収特性
が一段と向上するのである。これ番よ、このニッケル下
地の表面で可視域および近赤外域の太陽光が多重反射を
起こし、吸収されやすくなるためであると考えられる。
The solar heat absorber according to the present invention uses nickel as the base of the selective absorption film, which is the same as in the prior art. However, the characteristic feature is that the underlying nickel surface is not flat. If the surface force f of the nickel base is smooth,
The base itself has no selective absorption properties. On the other hand, if the surface of the nickel base is not flat because it is made of leaf-like, fibrous, or granular crystals, the nickel base itself has selective absorption properties. When a selective absorption film of black nickel or black chromium is formed on this nickel base, a mutual effect is produced between them, and the absorption characteristics are further improved. This is thought to be because sunlight in the visible and near-infrared regions causes multiple reflections on the surface of this nickel base, making it easier to absorb.

ニッケル下地は、上述のごとき二つの結晶形のいずれか
をもつようにするのが好まし6t、すなわち、その一つ
は葉状ないし繊維状の結晶形であり、もう一つは粒状の
結晶形である。
The nickel base preferably has one of the two crystal forms described above, one of which is a leaf-like or fibrous crystal form and the other a granular crystal form. be.

このように一種の選択吸収膜として働くニッケル下地が
芯材上に膜としてつくられている場合、それは、微視的
には1枚の連続した膜ではなく、上記結晶粒子が膜状に
群生したものであると言える。結晶は、一つの結晶片か
ら連続して別の結晶片が生長しているという形で生長し
てし)ること力(ある。もつとも単純な形をとった場合
の様子を模成約゛にあられせば、第1図および第2図の
ようになる。第1客は、葉状ないし繊維状を呈する結晶
粒子をあられし、第2図は粒状を呈する結晶粒子をあら
れす。結晶の大きさや、結晶間隔はつきのよにするのが
好ましい。第1図における葉状ないし繊維状の結晶粒子
lの平均長径方向長さく最も長い部分の長さ、第1図の
亀であられす)は0.5〜2.0ミクロン(10m、以
下「μ」と略す)の範囲にあるのが好ましく、結晶粒子
の先端部の平均間隔(第3図のlであられす)は0.5
〜2.5μの範囲にあるのが好ましい。繊維状ないし葉
状の結晶は、先にも述べたように一つの繊維状ないし葉
状結晶から別の繊維状ないし葉状結晶が成長することも
ある。したがってそのような場合は、長径方向長さは個
々の結晶でみることになる。第2図における粒状結晶粒
子2の平均粒径は0.1〜1μの範囲にあるのが好まし
く、結晶粒子の平均間隔(第2図のl′であられすよう
に、隣接する結晶粒子を互いに隔てている平均距離のこ
と)は0.1〜0.4μの範囲にあるのが好ましい。
When the nickel base, which acts as a kind of selective absorption film, is formed as a film on the core material, microscopically it is not a single continuous film, but a film of clusters of the above crystal particles. It can be said that it is a thing. Crystals grow in the form of successive crystal pieces growing from one crystal piece. If so, the result will be as shown in Figures 1 and 2.The first object shows crystal particles that are leaf-like or fiber-like, and the second object shows crystal particles that are granular.The size of the crystals, It is preferable that the crystal spacing is uniform.The average length of the longest part of the leaf-like or fibrous crystal grains l in FIG. It is preferably in the range of 2.0 microns (10 m, hereinafter abbreviated as "μ"), and the average distance between the tips of the crystal grains (indicated by l in Figure 3) is 0.5
It is preferably in the range of ~2.5μ. Regarding fibrous or foliar crystals, as mentioned above, one fibrous or foliar crystal may grow another fibrous or foliar crystal. Therefore, in such a case, the length in the major axis direction will be determined for each individual crystal. The average grain size of the granular crystal grains 2 in FIG. It is preferable that the average distance separating them is in the range of 0.1 to 0.4 μ.

以上のような結晶を持つニッケル下地は、可視光および
近赤外光に対しては表面で多重反射を起こさせるため、
可視光忽よび近赤外光をよく吸収するが、波長2.5μ
以上の赤外光重と対しては平面として働くものと思われ
、赤外光をよく反射し、したがって放射率が小さい。
The nickel base with the above crystals causes multiple reflections on the surface of visible light and near-infrared light, so
It absorbs visible light and near-infrared light well, but the wavelength is 2.5μ.
It is thought that it acts as a flat surface for the above infrared light weight, reflects infrared light well, and therefore has a low emissivity.

ニッケル下地は、表面酸化による微量の酸化物など少量
の不純物を含んでいてもよい。
The nickel base may contain a small amount of impurities such as a small amount of oxide due to surface oxidation.

つきに、このような下地となるニッケル膜は、例えば電
解メッキ法、無電解メッキ法、真空蒸着法、スパッタリ
ング法など稙々の方法で形成することができ、その方法
は限定されるものではない。しかしながら、葉状ないし
繊維状結晶からなるニッケル膜をつくる場合は、次に述
べるような電解メッキ法によって形成するのが、製造方
法としては最も安定している。
In addition, such a nickel film as a base can be formed by various methods such as electrolytic plating, electroless plating, vacuum evaporation, and sputtering, and the method is not limited. . However, when producing a nickel film consisting of leaf-like or fibrous crystals, the most stable manufacturing method is to use electrolytic plating as described below.

すなわち、メッキ液としては、塩化ニッケル50〜30
0f/j(好ましくは150〜25of/j)、ホウ酸
20〜6of/l<絆ましくは30〜50f/j)の組
成の液を用い、液温2o〜70’C(好ましくは55〜
65℃)、電流密度0.5〜4 A/ dm” (好ま
しくけl〜3 A / am” ) 、メッキ処理時間
0.5〜8分間(好ましくは1〜2分間)の条件でメッ
キi行なうのである。
That is, as a plating solution, 50 to 30% of nickel chloride is used.
0f/j (preferably 150 to 25of/j), boric acid 20 to 6of/l<30 to 50f/j), and a liquid temperature of 2o to 70'C (preferably 55 to 50f/j).
65°C), current density of 0.5 to 4 A/dm" (preferably 1 to 3 A/am"), and plating time of 0.5 to 8 minutes (preferably 1 to 2 minutes). It is.

芯材としては鉄板、m板、銅板など種々の金属材料を用
いることができる。鉄板または銅板からなる芯材の表面
にこのようなニッケルメッキ処理を行なう場合は、一般
に脱脂(必要な場合は電解脱脂)、酸沈などの前処理を
施しておく必要がある。芯材としてステンレス銅板を用
い、これに上記ニッケルメッキを施す場合は、例えば次
のような含入すな前処理が必要であるのが普通である。
As the core material, various metal materials such as iron plate, m plate, copper plate, etc. can be used. When performing such nickel plating on the surface of a core material made of an iron or copper plate, it is generally necessary to perform pretreatment such as degreasing (electrolytic degreasing if necessary) and acid precipitation. When a stainless steel copper plate is used as the core material and the plate is plated with nickel, the following pretreatment is usually required, for example.

すなわち、通常の薬品による脱脂および電解脱脂を行な
ったのち、5〜30%硫酸を用いて陰極電解による活性
化処理を施し、ついで次の条件によりニッケルのストラ
イクメッキを施すのである。
That is, after degreasing with ordinary chemicals and electrolytic degreasing, activation treatment is performed by cathodic electrolysis using 5 to 30% sulfuric acid, and then nickel strike plating is performed under the following conditions.

(処理液組成) 塩化ニッケル 50〜300 f/1
塩酸  50〜2009/1 (処理条件)  液 温:室温 電流密度: 5〜10 A/ dm” 処理時間:0.5〜5分間 このように、必要な前処理を施した芯材に、前記メッキ
法によりニッケルメッキを施せば、芯材表面に黒灰色な
いし灰色を帯びたニッケルメッキ層が形成される。その
際、ニッケルメッキ層の厚みが0.1〜3μとなるよう
に、前記の範囲内でメッキ処理条件を選ぶようにするの
が好ましい。なお、ニッケルメッキ駿は、前述のように
結晶の群生したものからなるため、実際には複雑な凹凸
、微細構造をもっている。したがって、通常はメッキ厚
測定法などにより測定されるなどのため、上に述べた膜
厚は、これらの凹凸をならし、空隙もないという状態に
換算しての数値であられされている。
(Treatment liquid composition) Nickel chloride 50-300 f/1
Hydrochloric acid 50-2009/1 (Processing conditions) Liquid temperature: Room temperature Current density: 5-10 A/dm" Processing time: 0.5-5 minutes In this way, the core material subjected to the necessary pretreatment is plated. If nickel plating is applied by this method, a blackish-gray or grayish nickel plating layer will be formed on the surface of the core material.At that time, the thickness of the nickel plating layer should be within the above range of 0.1 to 3μ. It is preferable to select the plating processing conditions based on the above.As mentioned above, nickel plating consists of clusters of crystals, so it actually has a complex unevenness and fine structure.Therefore, it is usually Since it is measured by a thickness measurement method, the above-mentioned film thickness is calculated based on a state in which these irregularities are smoothed out and there are no voids.

つぎに、このようにして形成されるニッケル下地の上に
、さらに黒色クロムまたは黒色ニッケルの選択吸収膜を
形成することによって、選択吸収特性のきわめてすぐれ
た実用性の高い太陽熱吸収体を得ることができる。すな
わち、黒色クロムまたは黒色ニッケルの選択吸収膜をそ
なえた太陽熱吸収体は、選択吸収特性に非常にすぐれて
いるものの、耐熱性や耐蝕性に乏しく、長期間の使用に
より次第に劣化するという欠点があったが、ニッケルか
らな、る下地金属層の上にこの黒色クロムまたは黒色ニ
ッケルからなる選択吸収膜を形成すれは、下地金職層が
熱的・化学的に安定であるため耐久性が一段と向上する
からである。このような黒色クロムまたは黒色ニッケル
からなる選択吸収膜は、例えはニツヶ−ル下地の上にメ
ッキ法などで形成される。この場合、上記平担でない表
面をもつニッケル下地はその上に形成される黒色クロム
または黒色ニッケルの選択吸収膜に対する密着性がきわ
めて良好で、黒色クロムまたは黒色ニッケル層をしっか
りと保持する作用をも有する。これは、上記ニッケル下
地が微視的に見てきわめて微細な凹凸面をそなえている
ため、この凹凸部と黒色クロムまたは黒色ニッケルの結
晶とが複雑に絡み合って互いの結合が強固になるものと
考えられる。下地金職層がニッケル膜からなるときは、
その厚みが0.1〜3μ程度、となることが好ましい。
Next, by further forming a selective absorption film of black chromium or black nickel on the nickel base formed in this way, it is possible to obtain a highly practical solar heat absorber with extremely excellent selective absorption characteristics. can. In other words, although solar heat absorbers equipped with black chromium or black nickel selective absorption films have very good selective absorption characteristics, they have the disadvantage of poor heat resistance and corrosion resistance, and that they gradually deteriorate after long-term use. However, by forming a selective absorption film made of black chromium or black nickel on a base metal layer made of nickel, durability is further improved because the base metal layer is thermally and chemically stable. Because it does. Such a selective absorption film made of black chromium or black nickel is formed, for example, by a plating method on a gold base. In this case, the above-mentioned nickel base with an uneven surface has extremely good adhesion to the black chromium or black nickel selective absorption film formed thereon, and has the effect of firmly holding the black chromium or black nickel layer. have This is because the nickel base has microscopically extremely fine uneven surfaces, and these uneven surfaces and black chromium or black nickel crystals intertwine in a complex manner, resulting in a strong bond between them. Conceivable. When the underlying metal layer is made of nickel film,
It is preferable that the thickness is about 0.1 to 3 μm.

この範囲を外れると、上番こ形成される黒色クロムまた
は黒色ニッケル層の密着性が低下する傾向がみられるか
らである。
This is because if the thickness is outside this range, the adhesion of the black chromium or black nickel layer formed on the top layer tends to decrease.

つぎに、黒色クロムまたは黒色ニッケルからなる選択吸
収膜を形成するためのメッキ方法の具体的な例を以下に
掲げる。
Next, a specific example of a plating method for forming a selective absorption film made of black chromium or black nickel is listed below.

黒色クロムはCrewとCrの混合物であり、そのメッ
キ方法の1つとして、つぎのような条件が採用される。
Black chromium is a mixture of Crew and Cr, and one of its plating methods employs the following conditions.

(メッキ液組成) 酸化9 o A (W)  (Crys)   200
〜450 f/1水酸化ナトリウム (Mail() 
   60〜70 y/lヘキサフルオロケイ酸  (
HJiF@)   0.5〜 11/1シヨ糖    
       2〜3 f/1(処理条件) 電流密度        20〜25A/d−液   
温            15〜20℃黒色ニッケル
はNiS 、 ZmSの混合物であり、そのメッキ法の
ひとつとして、つぎのような条件がある。
(Plating solution composition) Oxidation 9 o A (W) (Crys) 200
~450 f/1 Sodium hydroxide (Mail()
60-70 y/l hexafluorosilicic acid (
HJiF@) 0.5~11/1 sucrose
2-3 f/1 (processing conditions) Current density 20-25 A/d-liquid
Temperature: 15-20°C Black nickel is a mixture of NiS and ZmS, and one of its plating methods has the following conditions.

(メッキ液組成) 硫酸ニッケル      75〜901/1硫酸アンモ
ニウム     40〜501/1硫酸亜鉛     
    35〜20 f/1チオシアン化ナトナトリウ
ム   15〜201/1(処理条件) 電流密度        0.3〜 I A/dm”液
   温            20〜25℃ここで
得られる選択吸収膜の厚みは0.05〜1μとするのが
好ましい。選択吸収膜厚の測定は通常のメッキ厚測定法
などによって行なわれる。
(Plating solution composition) Nickel sulfate 75-901/1 Ammonium sulfate 40-501/1 Zinc sulfate
35-20 f/1 Sodium thiocyanide 15-20 1/1 (processing conditions) Current density 0.3-IA/dm" Liquid temperature 20-25°C The thickness of the selective absorption membrane obtained here is 0.05- Preferably, the thickness is 1 μ.The selective absorption film thickness is measured by a conventional plating thickness measurement method.

選択吸収膜上には、その保護のため、シリコーン樹脂そ
の他の透明被膜が形成されることがある。
A transparent coating of silicone resin or other material may be formed on the selective absorption membrane to protect it.

このようにして得られた太陽熱吸収体は選択吸収特性が
すぐれている。133図は、従来の太陽熱吸収体(A)
とこの発明にかかる太陽熱吸収体(B)の選択吸収特性
を比べるためのグラフである。太陽熱吸収体(A)は厚
み1μの、表面が平担で光沢のあるニッケル下地上に、
厚み0.2μの黒色クロムメッキを施したものである。
The solar heat absorber thus obtained has excellent selective absorption characteristics. Figure 133 shows a conventional solar heat absorber (A)
It is a graph for comparing the selective absorption characteristics of the solar heat absorber (B) and the solar heat absorber (B) according to the present invention. The solar heat absorber (A) is placed on a 1μ thick nickel base with a flat and shiny surface.
It is plated with black chrome plating with a thickness of 0.2μ.

太陽熱吸収体(B)は厚み1μの表面か平担ではないニ
ッケル下地上に、厚み0.2′μの黒色クロムメッキを
施したものである。第3図に琳いて、(A) 、 (B
)を比較すると、(B)は太陽光可視域および近赤外域
においてともに(A)よりも吸収率が庭いことがわかる
The solar heat absorber (B) has a 0.2'μ thick black chromium plated on a 1μ thick surface or non-flat nickel base. Referring to Figure 3, (A), (B
), it can be seen that (B) has a higher absorption rate than (A) in both the visible sunlight region and the near-infrared region.

第4図は、選択吸収膜の厚みと吸収率および放射率との
関係を定性的にあられしたグラフである。
FIG. 4 is a graph qualitatively showing the relationship between the thickness of the selective absorption film and the absorption rate and emissivity.

図中、実線は、表面が平滑なニッケル下地上に黒色クロ
ムまたは黒色ニッケルメッキを施した太陽熱吸収体(に
)の選択吸収特性をあられし、破線は、この発明にかか
る太陽熱吸収体すなわち表面が平担ではないニッケル下
地上に黒色クロムまたはニッケルメッキを施した太陽熱
吸収体(B′)の選択吸収特性をあられす。そして、上
方の実線および破線は吸収率−を示し、下方の実線およ
び破線は放射率−を示す。図にみるように、両太陽熱吸
収体(A’) I (B’)共、選択吸収膜の膜厚が大
きくなると放射率6が増大するので、できるだけ膜厚は
薄くする方がよい。他方、吸収率αの方は膜厚がある程
度以下に薄くなると、急激に小さくなってしまうので、
そのようなことは好ましくなく、したがっである程度の
膜厚を確保することが要請される。
In the figure, the solid line shows the selective absorption characteristics of the solar heat absorber, which has a smooth nickel surface and is plated with black chromium or black nickel, and the broken line shows the solar heat absorber according to the present invention, that is, the surface is The selective absorption characteristics of the solar heat absorber (B'), which is made of black chromium or nickel plating on a non-flat nickel base, are shown below. The upper solid line and broken line indicate the absorption rate -, and the lower solid line and broken line indicate the emissivity -. As shown in the figure, in both solar heat absorbers (A') I (B'), as the thickness of the selective absorption film increases, the emissivity 6 increases, so it is better to make the film thickness as thin as possible. On the other hand, the absorption rate α decreases rapidly when the film thickness becomes thinner than a certain level.
Such a situation is undesirable, and therefore, it is required to ensure a certain level of film thickness.

そこで、これら放射率Cおよび吸収率αのバランスがと
れる膜厚が(A′)では膜厚1の点、 (B’)では朕
厚すの点となる。膜厚すは膜J!#’ aよりも麹く、
したがってこの発明にかかる太陽熱吸収体(B′)は、
(A′)よりも選択吸収膜の薄いところでバランスがと
れていることがわかる。そのため、この発明によると、
膜厚を薄くして、放射率を小さくすることができるので
ある。
Therefore, the film thickness at which the emissivity C and the absorption coefficient α are balanced is the point at which the film thickness is 1 in (A') and the point at which the film thickness is 1 in (B'). Film thickness is film J! #' Kojiku than a,
Therefore, the solar heat absorber (B') according to the present invention is
It can be seen that the balance is better where the selective absorption membrane is thinner than in (A'). Therefore, according to this invention,
By making the film thinner, the emissivity can be lowered.

つぎに色調安定性について述べると、この発明にかかる
太陽熱吸収体は、ニッケル下地の表面が平担でないため
、下地自身黒灰色ないし灰色を呈している。そこで、そ
の上に黒色クロムや黒色ニッケルからなる選択吸収膜を
形成した場合、この選択吸収膜の膜厚が多少ばらついた
としても、それによって生じる色調の表化は目視ではほ
とんどわからない程度であり、そのため選択吸収特性が
安定したものとなる。他方、従来の下地表面が平担な太
陽熱吸収体の場合、表面の黒色クロムや黒色ニッケル膜
か、その膜厚の不均一に起因して、僅かに黄色、緑色、
赤色といった色調を部分的におよび近赤外域での反射率
が高いためであろうと思われるが、このような色ムラは
、耐熱テストを行なった後などは更に著しくなる。この
ことは、従来の太陽熱吸収体の場合、その選択吸収特性
が安定せず、太陽光に曝されるなどしたとき低下する”
]能性があることを意味している。
Next, regarding color stability, in the solar heat absorber according to the present invention, since the surface of the nickel base is not flat, the base itself exhibits a black-gray or gray color. Therefore, if a selective absorption film made of black chromium or black nickel is formed on top of this, even if the thickness of this selective absorption film varies to some extent, the resulting color tone will be almost invisible to the naked eye. Therefore, the selective absorption characteristics become stable. On the other hand, in the case of conventional solar heat absorbers with flat underlying surfaces, slight yellow, green, or
This may be due to the high reflectance in some parts of colors such as red and in the near-infrared region, but such color unevenness becomes even more noticeable after a heat resistance test. This means that in the case of conventional solar heat absorbers, their selective absorption properties are not stable and degrade when exposed to sunlight, etc.
] It means that there is a possibility.

このように、この発明にかかる太陽熱吸収体は、従来の
ものと比べ選択吸収特性がすぐれ、かつ安定しているの
である。
As described above, the solar heat absorber according to the present invention has excellent selective absorption characteristics and is stable compared to conventional solar heat absorbers.

つぎに、この発明の実施例および比較例について説明す
る。
Next, examples and comparative examples of the present invention will be described.

実施例および比較例の太陽熱吸収体を次のようにしてつ
くった。
The solar heat absorbers of Examples and Comparative Examples were made as follows.

(実施例1) 厚み0.5 mmの銅板を芯材として用い、これにアル
カリ脱脂および3%−)1cIによる酸洗を施した後、
塩化ニッケル200171.ホウ酸40 f/1からな
るメッキ液を用い、液温60℃、電流密度2、−A/d
m”−メッキ時間3分間の条件でニッケルメッキを行な
った。得られたニッケル膜のlli座+!1μであった
。、これを電子顕微鏡(7,600倍)で観察したとこ
ろ果状ないし繊維状の結晶が生成していることが確認さ
れた。この結晶の長径方向の長さは平均0.8μであっ
た。
(Example 1) A copper plate with a thickness of 0.5 mm was used as a core material, and after being subjected to alkaline degreasing and pickling with 3% -1 cI,
Nickel chloride 200171. Using a plating solution consisting of boric acid 40 f/1, solution temperature 60°C, current density 2, -A/d.
Nickel plating was carried out under the conditions of 3 minutes of plating time.The resulting nickel film had a lli locus of +!1μ. When observed with an electron microscope (7,600x magnification), it was found that it was fruit-like or fibrous. It was confirmed that crystals of the shape were formed.The average length of the crystals in the major axis direction was 0.8 μ.

上記のようにして得られたニッケル膜を表向に持つ基材
に、次のような条件でさらに黒色クロムメッキを施すこ
とにより、黒色クロムの膜厚が約0.5μの太陽熱吸収
体を得た。
By further applying black chromium plating to the base material having the nickel film obtained as above on its surface under the following conditions, a solar heat absorber with a black chromium film thickness of approximately 0.5μ was obtained. Ta.

(メッキ液組成) クロム酸           4001/1水酸化ナ
トリウム(苛性ソーダ)       70fl/IH
,SiF、                  0.
5 f/1ショ釉               21
/1(処理条件) 電流密度         25 A/dm”液温  
   20℃ メッキ時間          1分 (実施例2) 厚み0.5 mmの銅板を芯材として用い、これ・こア
ルカリ脱脂および2%−HClによる酸洗を施した後、
塩化ニッケル400 f/l 、ホウ酸451/1から
なるメッキ液を用い、液温55℃、電流密度1.9A/
dm”*メッキ時間3分間の条件でニッケルメッキを行
なった。得られたニッケル膜の膜厚は約0.9μであっ
た。これを電子顕微鏡(7,600倍)で観察したとこ
ろ粒状の結晶が生成していることが確認された。この結
晶の平均粒径はO55μ、粒子間の平均間隔は0.2μ
であった。
(Plating solution composition) Chromic acid 4001/1 Sodium hydroxide (caustic soda) 70 fl/IH
, SiF, 0.
5 f/1 glaze 21
/1 (processing conditions) Current density 25 A/dm” Liquid temperature
20°C Plating time: 1 minute (Example 2) A 0.5 mm thick copper plate was used as the core material, and after degreasing with alkali and pickling with 2% HCl,
Using a plating solution consisting of nickel chloride 400 f/l and boric acid 451/1, the solution temperature was 55°C and the current density was 1.9 A/l.
Nickel plating was carried out under the conditions of 3 minutes of plating time.The thickness of the obtained nickel film was approximately 0.9μ.When observed with an electron microscope (7,600x magnification), granular crystals were observed. It was confirmed that the average grain size of these crystals was O55μ, and the average spacing between particles was 0.2μ.
Met.

上記のようにして得られたニッケル膜を表面に持つ基材
に、次のような条件で黒色ニッケルメッキを施し太陽熱
吸収体をつくった。
The base material having the nickel film obtained as described above on its surface was plated with black nickel under the following conditions to produce a solar heat absorber.

(メッキ液組成) 硫酸ニッケル         751/1硫酸アンモ
ニウム       401/1硫酸亜鉛      
     37 f/1チオシアン化ナトナトリウム 
        15  f/1(処理条件) 電液密度          0.6 A/dm”液 
  !                 25℃液の
pHs、s メ′/、+時間         0.5分(実施例゛
3) 厚み0.3 mmのステンレス鋼板を芯材として用い、
これにアルカリ脱脂および電解脱脂を施したのち、5%
硫酸を用い、室温において電流密度10A/dm”で3
0秒間の陰極電解による前処理を行なった。つぎに、塩
化ニッケル20(1//、塩酸50m1/lからなるメ
ッキ液を用い、電流密度toA/dm”、液温20〜2
5℃、メッキ時間0,5分の条件で1次のニッケルメッ
キを行ない基材の表■1に1次のニッケル膜を形成した
。このメッキ層の上に引き続き、塩化ニッケル30(1
#、ホウ酸501/lから7なるメッキ液を用いて、電
流密度2A/dm” e液温60℃、メッキ時間2分の
条件で2次のニッケルメッキを施した。上記1次のニッ
ケルメッキは、ステンレス銅に対する密着性を向上させ
るためのものであり、2次のニッケルメッキは葉状ない
し繊維状の結晶からなるニッケル下地膜を形成すぎだめ
のものである。得られたニッケル膜の膜厚は1.1μで
あった。そして、結晶の長径方向平均長さは約1.5μ
、先端部の平均間隔は約0.9μであった。
(Plating solution composition) Nickel sulfate 751/1 Ammonium sulfate 401/1 Zinc sulfate
37 f/1 sodium thiocyanide
15 f/1 (processing conditions) Liquid density 0.6 A/dm” liquid
! pH of the 25°C solution, s /, + time 0.5 minutes (Example 3) Using a stainless steel plate with a thickness of 0.3 mm as the core material,
After applying alkaline degreasing and electrolytic degreasing to this, 5%
3 using sulfuric acid at a current density of 10 A/dm” at room temperature.
Pretreatment was performed by cathodic electrolysis for 0 seconds. Next, using a plating solution consisting of nickel chloride 20 (1//) and hydrochloric acid 50 ml/l, a current density toA/dm" and a solution temperature of 20 to 2
Primary nickel plating was performed at 5°C and plating time of 0.5 minutes to form a primary nickel film on Table 1 of the base material. Continuing on top of this plating layer, nickel chloride 30 (1
Secondary nickel plating was performed using a plating solution consisting of #7 and boric acid 501/l at a current density of 2 A/dm, a liquid temperature of 60°C, and a plating time of 2 minutes.The above primary nickel plating This is to improve adhesion to stainless copper, and the secondary nickel plating is to avoid forming a nickel base film consisting of leaf-like or fibrous crystals.Thickness of the resulting nickel film was 1.1μ.The average length of the crystal in the major axis direction was approximately 1.5μ.
, the average spacing of the tips was about 0.9μ.

上記のようにして得られたニッケル膜を表面に持つ基材
に、引き続きつきのような条件で、黒色クロムメッキを
施した。これにより、黒色クロムの膜厚が0.15μの
太陽熱吸収体を得た。
The base material having the nickel film obtained as described above on its surface was subsequently plated with black chromium under conditions similar to plating. As a result, a solar heat absorber having a black chromium film thickness of 0.15 μm was obtained.

(メッキ液組成) 酸化クロム(Vl)  (Cr03)     250
 f/1アミドスルホン酸  (NHzSOsH)  
   20 fl/1ホウ酸    (HsBOa) 
    10 ’I/1(処理条件) 一流密度           30 A/dm”液 
  温                25℃(実施
例4) 実施例3と同様にして、ニッケル膜を表面に持つ基材を
つくり、この基材にっぎのような条件で黒色ニッケルメ
ッキを施した。これにより、黒色ニッケルの膜厚が0.
2μの太陽熱吸収体を得た。
(Plating solution composition) Chromium oxide (Vl) (Cr03) 250
f/1 amidosulfonic acid (NHzSOsH)
20 fl/1 boric acid (HsBOa)
10'I/1 (processing conditions) First-class density 30 A/dm" liquid
Temperature: 25° C. (Example 4) A base material having a nickel film on the surface was prepared in the same manner as in Example 3, and black nickel plating was applied to this base material under conditions similar to that of a rainbow. This reduces the thickness of the black nickel to 0.
A 2μ solar heat absorber was obtained.

(メッキ液組成) 硫酸ニッケル         54 f/1硫酸ニツ
ケルアンモン         771/1硫酸亜鉛 
          29 f/1チオシアン化ソーダ
         5 f/1(処理条件) 一流密度          o、5A/dm!液  
 温                22℃(比較例
1) 実施例1において、その下地ニッケルメッキに代えて、
つきのような光沢ニッケルメッキを施すようにした。す
なわち、硝酸ニッケルを主成分とするメッキ液を用いて
、表面が光沢を持つニッケル膜を備えた基材iっくった
。このニッケル膜の厚みは実施例1と同様1−μであっ
た。上記のようにして得られた基材に実施例1と同じよ
うにして黒色クロムメッキを行なった。これにより、黒
色クロムの膜厚が約0.5μの太陽熱吸収体を得た。
(Plating solution composition) Nickel sulfate 54 f/1 Nickel ammonium sulfate 771/1 Zinc sulfate
29 f/1 Sodium thiocyanide 5 f/1 (processing conditions) First class density o, 5A/dm! liquid
Temperature: 22°C (Comparative Example 1) In Example 1, instead of the base nickel plating,
It has been given a bright nickel plating similar to that of a tsuki. That is, a substrate with a nickel film having a glossy surface was plated using a plating solution containing nickel nitrate as a main component. The thickness of this nickel film was 1-μ as in Example 1. The base material obtained as described above was plated with black chrome in the same manner as in Example 1. As a result, a solar heat absorber having a black chromium film thickness of approximately 0.5 μm was obtained.

(比較例2) 比較例1と同様にして得た光沢ニッケル表向をもつ層材
上に実施例2と同様の処理を行なって選択吸収膜をつく
った。
(Comparative Example 2) A selective absorption film was prepared by performing the same treatment as in Example 2 on a layer material having a bright nickel surface obtained in the same manner as in Comparative Example 1.

(比較例3) 比較例1と同様にして得た光沢ニッケル表面をもつ基材
上に実施例3と同様の処理を行なって選択吸収膜をつく
った。
(Comparative Example 3) A selective absorption film was prepared by performing the same treatment as in Example 3 on a substrate having a bright nickel surface obtained in the same manner as in Comparative Example 1.

以上のようにして得られた各太陽熱吸収体について、吸
収率および放射率を測定し、さらに色むらの試験を行な
った。その結果を第1表番こ示す。
Absorption rate and emissivity of each solar heat absorber obtained as described above were measured, and a color unevenness test was also conducted. The results are shown in Table 1.

$X表 選択吸収膜の種類と厚みが同じもの、すなわち、実施例
1と、比較例1.実施例2と比較例2.実施例3と比較
例3をそれぞれ比べると、吸収率は実施例のほうがいず
れも高い。そして、放射率は同等である。他方、色むら
については、比較例はすべて、部分むらがあるのに対し
、実施例はいずれもほとんどない。このことから、実施
例の太陽熱吸収体はいずれも比較例よりもすぐれている
ことがわかる。
$X Table Selective absorption membranes with the same type and thickness, that is, Example 1 and Comparative Example 1. Example 2 and Comparative Example 2. Comparing Example 3 and Comparative Example 3, the absorption rate is higher in both Examples. And the emissivity is the same. On the other hand, regarding color unevenness, all the comparative examples have partial unevenness, whereas all the examples have almost no unevenness. From this, it can be seen that the solar heat absorbers of the examples are all superior to the comparative examples.

第1表の吸収率、放射率および色むらは次のよここでα
;吸収率(太陽全エネルギーに対する) αλ;波長λでの吸収率 lλ;太陽光の波長λの放射強度 ここで1;放射率(黒体放射全エネルギーに対する) Sλt=tse ; 150℃の黒体からの波長λの放
射強度 1λi波長λの放射率(黒体に対する)なお、赤外分光
光度計で赤外域の反射率Pλを測定し、Cλ=1−Pλ
とした。
The absorption rate, emissivity, and color unevenness in Table 1 are as follows, where α
; Absorption rate (relative to total solar energy) αλ; Absorption rate at wavelength λ lλ; Radiation intensity of sunlight at wavelength λ, where 1; Emissivity (relative to total black body radiant energy) Sλt=tse; Black body at 150°C radiant intensity of wavelength λ from
And so.

色むら:試験品として150X300mmの大きさのも
のを用い、目視で判定を行なった。
Color unevenness: A 150 x 300 mm test piece was used and visually judged.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は葉状ないし繊維状のニッケル結晶を断面であら
れした模式図、iJ2図は粒状のニッケル結晶を断面で
あられした模式図、s3図は太陽光の波長と太陽熱吸収
体の光学的特性の関係をあられすグラフ、第4図は太陽
熱吸収体の選択吸収膜と光学的特性の関係をあられすグ
ラフである。 l・・・葉状ないし繊維状ニッケル結晶2・・・粒状ニ
ッケル結晶 特許出願人 松下電工株式会社 代理人 弁理士 松 本  武  彦 第1図 第2図
Figure 1 is a cross-sectional schematic diagram of a leaf-like or fibrous nickel crystal, iJ2 diagram is a cross-sectional diagram of a granular nickel crystal, and s3 diagram shows the relationship between the wavelength of sunlight and the optical characteristics of a solar heat absorber. Figure 4 is a graph showing the relationship between the selective absorption film and optical properties of a solar heat absorber. l... Leaf-shaped or fibrous nickel crystal 2... Granular nickel crystal Patent applicant: Matsushita Electric Works Co., Ltd. Representative Patent attorney: Takehiko Matsumoto Figure 1 Figure 2

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)少なくとも表面がニッケルでできており、かつそ
の表面が平担ではない基材の表面上に、黒色クロムおよ
び黒色ニッケルのうちの少なくとも一方からなる選択吸
収膜が形成されてなる太陽熱吸収体。
(1) A solar heat absorber in which a selective absorption film made of at least one of black chromium and black nickel is formed on the surface of a base material whose surface is made of nickel and whose surface is not flat. .
(2)基材の表面が葉状ないし繊維状の結晶形をもつニ
ッケル膜からなり、その結晶の平均長径方向長さが0.
5〜2.0ミクロンであり、かつ結晶の先端部の平均間
隔か0.5〜2.5ミクロンである特許請求の範囲第1
項記載の太陽熱吸収体。
(2) The surface of the base material is made of a nickel film having a leaf-like or fibrous crystal form, and the average length of the crystals in the longitudinal direction is 0.
5 to 2.0 microns, and the average spacing between the tips of the crystals is 0.5 to 2.5 microns.
Solar heat absorber as described in section.
(3)基材の表面が粒状の結晶形をもつニッケル膜から
なり、その結晶の平均粒径が0.1〜1ミクロンであり
、かつ粒子間の平均間隔が0.1〜0.4ミクロンであ
る特許請求の範囲第1項記載の太陽熱吸収体。
(3) The surface of the base material is made of a nickel film with a granular crystal shape, and the average grain size of the crystals is 0.1 to 1 micron, and the average interval between particles is 0.1 to 0.4 micron. The solar heat absorber according to claim 1.
(4)ニッケル膜の厚みが0,1〜3.0ミクロンであ
る特許請求の範囲第2項または第3項記載の太陽熱吸収
体。
(4) The solar heat absorber according to claim 2 or 3, wherein the nickel film has a thickness of 0.1 to 3.0 microns.
(5)選択吸収膜の厚みが0.05〜iミクロンである
特許請求の範囲第1項から第4項までのいずれかに記載
の太陽熱吸収体。
(5) The solar heat absorber according to any one of claims 1 to 4, wherein the selective absorption film has a thickness of 0.05 to i microns.
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